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11. 发明专利

TWI601937B 用於執行半導體樣品之度量衡之橢圓偏光計設備有权
简体标题：用于运行半导体样品之度量衡之椭圆偏光计设备
公开(公告)号：TWI601937B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW103101306
申请日：2014-01-14
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：王大衛Y , WANG, DAVID Y. , 伏羅克克勞斯 , FLOCK, KLAUS , 洛特勞倫絲 , ROTTER, LAWRENCE , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 迪維爾喬漢斯D , DE VEER, JOHANNES D. , 飛利浦卡塔林 , FILIP, CATALIN , 布萊迪葛萊茍里 , BRADY, GREGORY , 阿藍穆沙米爾 , ARAIN, MUZAMMIL , 舒傑葛洛夫安德烈 , SHCHEGROV, ANDREI
IPC分类号： G01B11/00

12. 发明专利

TWI625512B 用於光學系統偏光層之校正之裝置及方法有权
简体标题：用于光学系统偏光层之校正之设备及方法
公开(公告)号：TWI625512B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW101119215
申请日：2012-05-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪維爾喬漢斯D , DE VEER, JOHANNES D. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 莊國榮維拉 , ZHUANG, GUORONG VERA , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR
IPC分类号： G01M11/00 , G02B27/28 , G01J4/00

13. 发明专利

TW201805617A 在氣體吸附下之關鍵尺寸量測审中-公开
简体标题：在气体吸附下之关键尺寸量测
公开(公告)号：TW201805617A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106114529
申请日：2017-05-02
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/88
CPC分类号： G01B11/22 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N15/088 , G01N21/00 , G03F7/00
摘要：本文提出用於藉由一氣體吸附製程來執行由一吸附物填充之幾何結構之光學量測的方法及系統。當使用包含一經控制量之填充材料之淨化氣體之一流動來處理該被量測計量目標時，執行量測。該填充材料之一部分吸附至該等被量測結構上，且填充該等結構特徵中之開口、結構特徵之間的空間、小體積(諸如，凹口、溝槽、狹縫、接觸孔等)。在一個態樣中，基於該待填充之最大特徵大小來判定該氣體流動中之汽化材料之所要飽和度。在一個態樣中，當一結構係未填充的及當藉由氣體吸附來填充該結構時，收集量測資料。使該經收集資料組合於一基於多目標模型量測中，以減小參數相關性且改良量測效能。
简体摘要：本文提出用于借由一气体吸附制程来运行由一吸附物填充之几何结构之光学量测的方法及系统。当使用包含一经控制量之填充材料之净化气体之一流动来处理该被量测计量目标时，运行量测。该填充材料之一部分吸附至该等被量测结构上，且填充该等结构特征中之开口、结构特征之间的空间、小体积(诸如，凹口、沟槽、狭缝、接触孔等)。在一个态样中，基于该待填充之最大特征大小来判定该气体流动中之汽化材料之所要饱和度。在一个态样中，当一结构系未填充的及当借由气体吸附来填充该结构时，收集量测数据。使该经收集数据组合于一基于多目标模型量测中，以减小参数相关性且改良量测性能。

14. 发明专利

TWI589837B 用於高縱橫比及大橫向尺寸結構之測量系統及方法有权
简体标题：用于高纵横比及大横向尺寸结构之测量系统及方法
公开(公告)号：TWI589837B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW102138532
申请日：2013-10-24
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：佐拉陶德斯傑拉德 , DZIURA, THADDEUS GERARD , 劉學峰 , LIU, XUEFENG , 王大衛Y , WANG, DAVID Y. , 麥迪森強納生 , MADSEN, JONATHAN , 庫茲尼斯夫亞歷山大 , KUZNETSOV, ALEXANDER , 迪維爾喬漢斯D , DE VEER, JOHANNES D. , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 蕭葛奈西德瑞克 , SHAUGHNESSY, DERRICK , 舒傑葛洛夫安德烈 , SHCHEGROV, ANDREI
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01N21/47 , G01B2210/56 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

15. 发明专利

TW201531662A 多重圖案化參數之量測审中-公开
简体标题：多重图案化参数之量测
公开(公告)号：TW201531662A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103145080
申请日：2014-12-23
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：舒傑葛洛夫安德烈V , SHCHEGROV, ANDREI V. , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 彼得琳斯凱文 , PETERLINZ, KEVIN , 佐拉陶德斯傑拉德 , DZIURA, THADDEUS GERARD , 薩賓恩斯娜安 , SAPIENS, NOAM , 潘戴夫史帝藍伊凡渥夫 , PANDEV, STILIAN IVANOV
IPC分类号： G01B11/00 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/272 , G01B2210/56 , G03F7/0002 , G03F7/70141 , G03F7/70625 , H01L22/12 , H01L22/30
摘要：本發明呈現用於評估多重圖案化程序之效能之方法及系統。量測經圖案化結構且判定以由該多重圖案化程序引起之幾何誤差為特徵之一或多個參數值。在一些實例中，量測一單一圖案化目標及一多重圖案化目標，經收集資料擬合至一經組合量測模型，且基於該擬合判定指示由該多重圖案化程序引起之一幾何誤差之一結構參數的值。在一些其他實例中，收集並分析具有不同於零之一繞射階之光以判定指示由一多重圖案化程序引起之一幾何誤差之一結構參數的值。在一些實施例中，收集不同於零之一單一繞射階。在一些實例中，設計一度量衡目標以增強以不同於零之一階繞射之光。
简体摘要：本发明呈现用于评估多重图案化进程之性能之方法及系统。量测经图案化结构且判定以由该多重图案化进程引起之几何误差为特征之一或多个参数值。在一些实例中，量测一单一图案化目标及一多重图案化目标，经收集数据拟合至一经组合量测模型，且基于该拟合判定指示由该多重图案化进程引起之一几何误差之一结构参数的值。在一些其他实例中，收集并分析具有不同于零之一绕射阶之光以判定指示由一多重图案化进程引起之一几何误差之一结构参数的值。在一些实施例中，收集不同于零之一单一绕射阶。在一些实例中，设计一度量衡目标以增强以不同于零之一阶绕射之光。

16. 发明专利

TW201643405A 具有減少聚焦誤差靈敏度之光學度量审中-公开
简体标题：具有减少聚焦误差灵敏度之光学度量
公开(公告)号：TW201643405A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105105166
申请日：2016-02-22
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 莊國榮V , ZHUANG, GUORONG V. , 王大衛Y , WANG, DAVID Y. , 劉學峰 , LIU, XUEFENG
IPC分类号： G01N21/25 , G01N21/95 , G01J3/02
CPC分类号： G01N21/255 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/18 , G01J3/2803 , G01J3/42 , G01J2003/425 , G01N21/211 , G01N21/55 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G01N2201/06113 , G01N2201/068
摘要：本文中呈現用於執行對聚焦誤差具有減少靈敏度之寬頻光譜度量之方法及系統。藉由將量測光點成像至偵測器上使得晶圓表面上之與入射平面對準之方向定向成垂直於偵測器表面上之波長色散方向，而達成對聚焦位置誤差之靈敏度之顯著減少。聚焦誤差靈敏度之此減少在不危及量測準確度之情況下實現減少之聚焦準確度及可重複性要求、較快聚焦時間及對波長誤差之減少靈敏度。在另一態樣中，基於受量測目標之本質而調整在垂直於該入射平面之方向上投影於晶圓平面上之照射光場之尺寸以最佳化所得量測準確度及速度。
简体摘要：本文中呈现用于运行对聚焦误差具有减少灵敏度之宽带光谱度量之方法及系统。借由将量测光点成像至侦测器上使得晶圆表面上之与入射平面对准之方向定向成垂直于侦测器表面上之波长色散方向，而达成对聚焦位置误差之灵敏度之显着减少。聚焦误差灵敏度之此减少在不危及量测准确度之情况下实现减少之聚焦准确度及可重复性要求、较快聚焦时间及对波长误差之减少灵敏度。在另一态样中，基于受量测目标之本质而调整在垂直于该入射平面之方向上投影于晶圆平面上之照射光场之尺寸以最优化所得量测准确度及速度。

17. 发明专利

TW201629465A 使用離軸之未遮蔽物鏡之檢測系統及方法审中-公开
简体标题：使用离轴之未屏蔽物镜之检测系统及方法
公开(公告)号：TW201629465A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104138293
申请日：2015-11-19
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：倫波帝克勞迪歐 , RAMPOLDI, CLAUDIO , 布萊森罕貝利 , BLASENHEIM, BARRY , 庫茲尼斯夫亞歷山大 , KUZNETSOV, ALEXANDER , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 舒傑葛洛夫安德烈V , SHCHEGROV, ANDREI V.
IPC分类号： G01N21/21 , G01N21/55 , G01N21/47
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0625 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2021/213
摘要：本發明提供一種檢測系統，其可包含一反射計，該反射計具有：一光源，其用於投射光；及一分光器，其用於接收藉由該光源投射之該光、變換該光之至少一項態樣，且一旦經變換即投射該光。該反射計進一步具有一離軸之未遮蔽物鏡，藉由該分光器變換之該光行進穿過該物鏡以接觸一製成組件，且具有一偵測器，該偵測器用於偵測該經變換光接觸該製成組件之一結果。該檢測系統可額外或替代性地包含一橢偏計，該橢偏計類似於該反射計具有一光源，且進一步具有一偏振元件以使該分光器之該光偏振。該經偏振光行進穿過一離軸之未遮蔽物鏡以接觸一製成組件，且一偵測器偵測該經偏振光接觸該製成組件之一結果。
简体摘要：本发明提供一种检测系统，其可包含一反射计，该反射计具有：一光源，其用于投射光；及一分光器，其用于接收借由该光源投射之该光、变换该光之至少一项态样，且一旦经变换即投射该光。该反射计进一步具有一离轴之未屏蔽物镜，借由该分光器变换之该光行进穿过该物镜以接触一制成组件，且具有一侦测器，该侦测器用于侦测该经变换光接触该制成组件之一结果。该检测系统可额外或替代性地包含一椭偏计，该椭偏计类似于该反射计具有一光源，且进一步具有一偏振组件以使该分光器之该光偏振。该经偏振光行进穿过一离轴之未屏蔽物镜以接触一制成组件，且一侦测器侦测该经偏振光接触该制成组件之一结果。

18. 发明专利

TW201502461A 度量衡系統校準之精細化审中-公开
简体标题：度量衡系统校准之精细化
公开(公告)号：TW201502461A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103117399
申请日：2014-05-16
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：闊克希東 , KWAK, HIDONG , 雷索尼約翰 , LESOINE, JOHN , 薩迪克馬立可 , SADIQ, MALIK , 魏藍華 , WEI, LANHUA , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 蘇夏奇克米克海爾M , SUSHCHIK, MIKHAIL M.
IPC分类号： G01B11/00 , G01N21/95
CPC分类号： G01N21/211 , G01B2210/56 , G01N21/274 , G01N21/9501 , G01N2021/213
摘要：本發明呈現用於跨越一或多個光學度量衡系統匹配量測光譜之方法及系統。將用於判定一試樣對由一目標度量衡系統執行之一量測之光譜回應之一或多個系統參數的值最佳化。該等系統參數值經最佳化，使得由一參考系統及該目標系統產生之量測光譜之間的差針對相同度量衡目標的量測最小化。本發明亦呈現用於跨越一或多個光學度量衡系統匹配光譜誤差之方法及系統。一受信任度量衡系統量測至少一個試樣參數之值，以使由在該等參考及目標度量衡系統進行之量測時間處存在之不同量測條件所引起的模型誤差最小化。呈現用於基於低階回應表面之參數最佳化的方法及系統，以減少精細化系統校準參數所需的計算時間。
简体摘要：本发明呈现用于跨越一或多个光学度量衡系统匹配量测光谱之方法及系统。将用于判定一试样对由一目标度量衡系统运行之一量测之光谱回应之一或多个系统参数的值最优化。该等系统参数值经最优化，使得由一参考系统及该目标系统产生之量测光谱之间的差针对相同度量衡目标的量测最小化。本发明亦呈现用于跨越一或多个光学度量衡系统匹配光谱误差之方法及系统。一受信任度量衡系统量测至少一个试样参数之值，以使由在该等参考及目标度量衡系统进行之量测时间处存在之不同量测条件所引起的模型误差最小化。呈现用于基于低级回应表面之参数最优化的方法及系统，以减少精细化系统校准参数所需的计算时间。

19. 发明专利

TW201435297A 多重入射角半導體度量衡系統及方法审中-公开
简体标题：多重入射角半导体度量衡系统及方法
公开(公告)号：TW201435297A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103101306
申请日：2014-01-14
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：王大衛Y , WANG, DAVID Y. , 伏羅克克勞斯 , FLOCK, KLAUS , 洛特勞倫絲 , ROTTER, LAWRENCE , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 迪維爾喬漢斯D , DE VEER, JOHANNES D. , 飛利浦卡塔林 , FILIP, CATALIN , 布萊迪葛萊茍里 , BRADY, GREGORY , 阿藍穆沙米爾 , ARAIN, MUZAMMIL , 舒傑葛洛夫安德烈 , SHCHEGROV, ANDREI
IPC分类号： G01B11/00
摘要：本發明揭示一種設備，該設備包含：(i)一亮光源，其用於提供處於具有自一深紫外線波長至一紅外線波長之一範圍之可選擇之多個波長之一照明光束；(ii)照明光學器件，其用於以可選擇之入射角(AOI)或方位角(AZ)組及偏光狀態將該照明光束引導朝向一樣品以提供光譜橢圓偏光量測，其中該照明光學器件包含用於控制處於該等可選擇AOI/AZ組中之各者之該照明光束在該樣品上之一光點大小之一切趾器；(iii)收集光學器件，其用於將回應於處於該等可選擇AOI/AZ組中之各者及偏光狀態之該照明光束之來自該樣品之一輸出光束引導朝向基於該輸出光束產生一輸出信號或影像之一偵測器；及(iv)一控制器，其用於基於該輸出信號或影像表徵化該樣品之一特徵。
简体摘要：本发明揭示一种设备，该设备包含：(i)一亮光源，其用于提供处于具有自一深紫外线波长至一红外线波长之一范围之可选择之多个波长之一照明光束；(ii)照明光学器件，其用于以可选择之入射角(AOI)或方位角(AZ)组及偏光状态将该照明光束引导朝向一样品以提供光谱椭圆偏光量测，其中该照明光学器件包含用于控制处于该等可选择AOI/AZ组中之各者之该照明光束在该样品上之一光点大小之一切趾器；(iii)收集光学器件，其用于将回应于处于该等可选择AOI/AZ组中之各者及偏光状态之该照明光束之来自该样品之一输出光束引导朝向基于该输出光束产生一输出信号或影像之一侦测器；及(iv)一控制器，其用于基于该输出信号或影像表征化该样品之一特征。

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