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11. 发明专利

TW201531694A 包括可重複使用之子結構的半導體裝置模型审中-公开
简体标题：包括可重复使用之子结构的半导体设备模型
公开(公告)号：TW201531694A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW104101371
申请日：2015-01-15
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：伊羅瑞塔強納森 , ILORETA, JONATHAN , 拉芬馬修A , LAFFIN, MATTHEW A. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 凱克托斯頓 , KAACK, TORSTEN , 趙寬 , ZHAO, QIANG , 李列泉 , LEE, LIE-QUAN
IPC分类号： G01N21/95 , G05B17/02
CPC分类号： H01L22/12
摘要：本發明提出用於基於可重複使用之參數模型產生複雜裝置結構之量測模型的方法及工具。採用此等模型之度量衡系統經組態以量測與不同半導體製程相關聯的結構及材料特性。該可重複使用之參數子結構模型係藉由模型建置工具之一使用者輸入之一組獨立參數來完全定義。與模型形狀及構成之幾何結構元件中之內部約束條件相關聯的全部其他變量係在該模型內予以預定義。在一些實施例中，一或多個可重複使用之參數模型經整合至一複雜半導體裝置之一量測模型中。在另一態樣中，一模型建置工具基於來自一使用者之輸入產生一可重複使用之參數子結構模型。該等所得模型可匯出至可由其他使用者使用之一檔案，且可包括安全性特徵以控制與特定使用者共用敏感智慧財產。
简体摘要：本发明提出用于基于可重复使用之参数模型产生复杂设备结构之量测模型的方法及工具。采用此等模型之度量衡系统经组态以量测与不同半导体制程相关联的结构及材料特性。该可重复使用之参数子结构模型系借由模型建置工具之一用户输入之一组独立参数来完全定义。与模型形状及构成之几何结构组件中之内部约束条件相关联的全部其他变量系在该模型内予以预定义。在一些实施例中，一或多个可重复使用之参数模型经集成至一复杂半导体设备之一量测模型中。在另一态样中，一模型建置工具基于来自一用户之输入产生一可重复使用之参数子结构模型。该等所得模型可导出至可由其他用户使用之一文档，且可包括安全性特征以控制与特定用户共享敏感智能财产。

12. 发明专利

TW201314173A 多分析器角度之光譜的橢圓偏光儀审中-公开
简体标题：多分析器角度之光谱的椭圆偏光仪
公开(公告)号：TW201314173A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101124514
申请日：2012-07-06
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：闊克希東 , KWAK, HIDONG , 迪森華德 , DIXON, WARD , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 凱克托斯頓R , KAACK, TORSTEN R.
IPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02
CPC分类号： G01J4/00 , G01N21/211 , G01N2021/213
摘要：本發明揭示具有改良穩定性之橢圓偏光儀系統及橢圓偏光儀資料收集方法。根據本揭示內容，可利用兩個或兩個以上之分析器角度來收集用於一單一量測之橢圓偏光儀資料。針對一單一量測利用兩個或兩個以上分析器角度改良橢圓偏光儀系統之穩定性。
简体摘要：本发明揭示具有改良稳定性之椭圆偏光仪系统及椭圆偏光仪数据收集方法。根据本揭示内容，可利用两个或两个以上之分析器角度来收集用于一单一量测之椭圆偏光仪数据。针对一单一量测利用两个或两个以上分析器角度改良椭圆偏光仪系统之稳定性。

13. 发明专利

TW201307825A 用於薄膜之組成量測审中-公开
简体标题：用于薄膜之组成量测
公开(公告)号：TW201307825A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101123067
申请日：2012-06-27
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：狄明 , DI, MING , 凱克托斯頓 , KAACK, TORSTEN , 趙寬 , ZHAO, QIANG , 高翔 , GAO, XIANG , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N21/211 , G01N21/8422 , G01N2021/213
摘要：本發明包含：針對複數個半導體晶圓產生一個三維實驗設計(DOE)，該DOE中之一第一維度係薄膜之一第一組分之一相對量，該DOE之一第二維度係該薄膜之一第二組分之一相對量，該DOE之一第三維度係該薄膜之一厚度；獲得該等晶圓之各者之一光譜；藉由推導所獲得之光譜之各者之複折射率之一實分量(n)及一虛分量(k)而產生一組光學色散資料；識別該組光學色散資料之一或多個系統性特徵；及使用該組光學色散資料之該經識別之一或多個系統性特徵而產生一個多分量布魯格曼(Bruggeman)有效中值近似(BEMA)模型。
简体摘要：本发明包含：针对复数个半导体晶圆产生一个三维实验设计(DOE)，该DOE中之一第一维度系薄膜之一第一组分之一相对量，该DOE之一第二维度系该薄膜之一第二组分之一相对量，该DOE之一第三维度系该薄膜之一厚度；获得该等晶圆之各者之一光谱；借由推导所获得之光谱之各者之复折射率之一实分量(n)及一虚分量(k)而产生一组光学色散数据；识别该组光学色散数据之一或多个系统性特征；及使用该组光学色散数据之该经识别之一或多个系统性特征而产生一个多分量布鲁格曼(Bruggeman)有效中值近似(BEMA)模型。

14. 发明专利

TW201300753A 光學系統偏光層之校正审中-公开
简体标题：光学系统偏光层之校正
公开(公告)号：TW201300753A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101119215
申请日：2012-05-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪維爾喬漢斯D , DE VEER, JOHANNES D. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 莊國榮維拉 , ZHUANG, GUORONG VERA , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR
IPC分类号： G01M11/00 , G02B27/28 , G01J4/00
CPC分类号： G01N21/21 , G01J3/504 , G01N21/274
摘要：本發明揭示一種用於藉由將校正與經偏光光學系統之一偏光效應解耦而在任何入射角處校正該系統中之一偏光層之方法，該方法包括以下步驟：提供一校正裝置，該校正裝置包含使一偏光層安置於其一表面上之一基板，其中該基板上之一指示器用於指示該偏光層之一偏光定向；將該校正裝置裝載於該經偏光光學系統中，其中該指示器處於一所預期位置中；判定該偏光定向與該經偏光光學系統之一參考之間的一初始角度；在該偏光定向與該經偏光光學系統之該參考之間的複數個已知角度處使用該經偏光光學系統來獲取光譜；使用該等光譜來標繪指示該經偏光光學系統中之該偏光層之一角度之一曲線；及當該偏光層之該角度係在一所期望範圍之外時，調整該偏光層之該角度，且重複獲取該等光譜及標繪指示該偏光層之該角度之一曲線之該等步驟。
简体摘要：本发明揭示一种用于借由将校正与经偏光光学系统之一偏光效应解耦而在任何入射角处校正该系统中之一偏光层之方法，该方法包括以下步骤：提供一校正设备，该校正设备包含使一偏光层安置於其一表面上之一基板，其中该基板上之一指示器用于指示该偏光层之一偏光定向；将该校正设备装载于该经偏光光学系统中，其中该指示器处于一所预期位置中；判定该偏光定向与该经偏光光学系统之一参考之间的一初始角度；在该偏光定向与该经偏光光学系统之该参考之间的复数个已知角度处使用该经偏光光学系统来获取光谱；使用该等光谱来标绘指示该经偏光光学系统中之该偏光层之一角度之一曲线；及当该偏光层之该角度系在一所期望范围之外时，调整该偏光层之该角度，且重复获取该等光谱及标绘指示该偏光层之该角度之一曲线之该等步骤。

15. 发明专利

TWI701422B 度量系統、用於度量之方法及用於度量之非暫時性電腦可讀媒體有权
简体标题：度量系统、用于度量之方法及用于度量之非暂时性电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI701422B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105113564
申请日：2016-04-29
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李萊寬 , LEE, LIEQUAN , 傑登瑞費歐尚蜜雪兒瑪利 , GETIN, RAPHAEL JEAN MICHEL MARIE , 曹蒙 , CAO, MENG , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 凱克托斯頓魯道夫 , KAACK, TORSTEN RUDOLF , 邱宏 , QIU, HONG
IPC分类号： G01B11/02 , G01N21/95

16. 发明专利

TWI575217B 用於光學量測之次要目標設計有权
简体标题：用于光学量测之次要目标设计
公开(公告)号：TWI575217B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW101140865
申请日：2012-11-02
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：劉性哲 , YOO, SUNGCHUL , 舒傑葛洛夫安德烈V , SHCHEGROV, ANDREI V. , 佐拉陶德斯傑拉德 , DZIURA, THADDEUS GERARD , 金仁教 , KIM, INKYO , 李承桓 , LEE, SEUNGHWAN , 黃炳守 , HWANG, BYEOUNGSU , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID
IPC分类号： G01B11/02 , G01B11/06 , G01B11/24
CPC分类号： G06F17/50 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/70625 , G03F7/70683 , G06F17/10 , G06F17/40 , G06F19/00

17. 发明专利

TW201706559A 使用自動過渡於利用程式庫及利用迴歸之間以用於測量處理之度量系統、方法及電腦程式產品审中-公开
简体标题：使用自动过渡于利用程序库及利用回归之间以用于测量处理之度量系统、方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TW201706559A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105113564
申请日：2016-04-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李萊寬 , LEE, LIEQUAN , 傑登瑞費歐尚蜜雪兒瑪利 , GETIN, RAPHAEL JEAN MICHEL MARIE , 曹蒙 , CAO, MENG , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 凱克托斯頓魯道夫 , KAACK, TORSTEN RUDOLF , 邱宏 , QIU, HONG
IPC分类号： G01B11/02 , G01N21/95
CPC分类号： G01B11/02 , G03F7/70625
摘要：本發明提供一種使用自動過渡於利用一程式庫及利用迴歸之間以用於測量處理之度量系統、方法及電腦程式產品。在使用中，藉由該度量系統來判定已滿足一預定條件。回應於判定已滿足該預定條件，該度量系統自動過渡於利用一程式庫及利用迴歸之間以用於測量處理。
简体摘要：本发明提供一种使用自动过渡于利用一程序库及利用回归之间以用于测量处理之度量系统、方法及电脑进程产品。在使用中，借由该度量系统来判定已满足一预定条件。回应于判定已满足该预定条件，该度量系统自动过渡于利用一程序库及利用回归之间以用于测量处理。

18. 发明专利

TW201702588A 在度量衡系統中度量衡資料之前向饋送审中-公开
简体标题：在度量衡系统中度量衡数据之前向馈送
公开(公告)号：TW201702588A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105110794
申请日：2016-04-06
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：賴威艾迪 , LEVY, ADY , 坎德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL , 艾黛兒麥克E , ADEL, MICHAEL E. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 羅賓森約翰 , ROBINSON, JOHN , 馬西安諾托爾 , MARCIANO, TAL , 布蘭歐里茲巴瑞克 , BRINGOLTZ, BARAK , 格朗茲威格塔札希 , GRUNZWEIG, TZAHI , 克林丹那 , KLEIN, DANA , 伊茲卡維奇托爾 , ITZKOVICH, TAL , 卡梅爾納達夫 , CARMEL, NADAV , 艾米爾紐瑞爾 , AMIR, NURIEL , 雷曼那森維狄亞 , RAMANATHAN, VIDYA , 坎普珍納 , CAMP, JANAY , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/21 , G01B11/27 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/272 , G01N21/211 , G01N21/31 , G01N21/41 , G01N21/4738 , G01N21/4788 , G01N21/6489 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70533 , G03F7/70616
摘要：本發明揭示一種度量衡效能分析系統，其包含含有一或多個偵測器之一度量衡工具及通信地耦合至該一或多個偵測器之一控制器。該控制器經組態以自該度量衡工具接收相關聯於一度量衡目標之一或多個度量衡資料集，其中該一或多個度量衡資料集包含一或多個經量測度量衡度量且該一或多個經量測度量衡度量指示自標稱值之偏差。該控制器進一步經組態以判定介於自該等標稱值之該等偏差與一或多個選定半導體程序變動之間的關係，且基於介於該一或多個度量衡度量之值與該一或多個選定半導體程序變動之間的該等關係來判定自該等標稱值之該等偏差之一或多個根本原因。
简体摘要：本发明揭示一种度量衡性能分析系统，其包含含有一或多个侦测器之一度量衡工具及通信地耦合至该一或多个侦测器之一控制器。该控制器经组态以自该度量衡工具接收相关联于一度量衡目标之一或多个度量衡数据集，其中该一或多个度量衡数据集包含一或多个经量测度量衡度量且该一或多个经量测度量衡度量指示自标称值之偏差。该控制器进一步经组态以判定介于自该等标称值之该等偏差与一或多个选定半导体进程变动之间的关系，且基于介于该一或多个度量衡度量之值与该一或多个选定半导体进程变动之间的该等关系来判定自该等标称值之该等偏差之一或多个根本原因。

19. 发明专利

TWI558975B 多分析器角度之光譜的橢圓偏光儀系統及橢圓偏光儀方法有权
简体标题：多分析器角度之光谱的椭圆偏光仪系统及椭圆偏光仪方法
公开(公告)号：TWI558975B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW101124514
申请日：2012-07-06
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：闊克希東 , KWAK, HIDONG , 迪森華德 , DIXON, WARD , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 凱克托斯頓R , KAACK, TORSTEN R.
IPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02
CPC分类号： G01J4/00 , G01N21/211 , G01N2021/213

20. 发明专利

TW201333416A 用於光學量測之次要目標設計审中-公开
简体标题：用于光学量测之次要目标设计
公开(公告)号：TW201333416A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101140865
申请日：2012-11-02
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：劉性哲 , YOO, SUNGCHUL , 舒傑葛洛夫安德烈V , SHCHEGROV, ANDREI V. , 佐拉陶德斯傑拉德 , DZIURA, THADDEUS GERARD , 金仁教 , KIM, INKYO , 李承桓 , LEE, SEUNGHWAN , 黃炳守 , HWANG, BYEOUNGSU , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID
IPC分类号： G01B11/02 , G01B11/06 , G01B11/24
CPC分类号： G06F17/50 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/70625 , G03F7/70683 , G06F17/10 , G06F17/40 , G06F19/00
摘要：本發明係針對利用定製設計之次要目標來改良具有複合結構屬性之一樣本之光學計量。可控制一次要目標之至少一個參數以改良一主要目標之一選定參數之敏感性及/或以降低該選定參數與該主要目標之其他參數之相關性。可收集該主要目標及該次要目標之參數。可將該等參數併入至散射量測模型中。可實施利用該散射量測模型之模擬以判定該主要目標之該選定參數之一敏感性位準或一相關性位準。可修改該次要目標之該受控參數直至達成一選定敏感性位準或一選定相關性位準為止。
简体摘要：本发明系针对利用定制设计之次要目标来改良具有复合结构属性之一样本之光学计量。可控制一次要目标之至少一个参数以改良一主要目标之一选定参数之敏感性及/或以降低该选定参数与该主要目标之其他参数之相关性。可收集该主要目标及该次要目标之参数。可将该等参数并入至散射量测模型中。可实施利用该散射量测模型之仿真以判定该主要目标之该选定参数之一敏感性位准或一相关性位准。可修改该次要目标之该受控参数直至达成一选定敏感性位准或一选定相关性位准为止。

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