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11. 发明专利

TW201520057A 貼合裝置审中-公开
简体标题：贴合设备
公开(公告)号：TW201520057A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103119060
申请日：2014-05-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： B32B41/00 , B05C13/02
摘要：本發明係關於一種貼合裝置，其係具備：薄膜搬送部、塗佈部、貼合部、位置檢測部、以及位置修正機構，該塗佈部係將塗佈液塗佈於薄膜；該貼合部係將薄膜貼合於基板；該位置檢測部，係檢測於貼合前的薄膜之在與搬送方向交叉的薄膜寬度方向上相對於基板的相對位置；該位置修正機構，係於薄膜之貼合時，至少根據位置檢測部的檢測結果來修正前述相對位置；及一種貼合裝置，其係具備：送出部、貼合部、捲取部、驅動部、檢測部、以及控制部，該送出部係將包含主薄膜材與保護材的長條狀薄膜送出；該貼合部，係於薄膜貼合位置將保護材從主薄膜材剝離並且僅將主薄膜材貼合於基板；該捲取部係將剝離後的保護材捲取；該驅動部係使捲取部旋轉驅動；該檢測部係檢測保護材之捲取直徑；該控制部，係根據檢測結果來控制驅動部以調整捲取部的旋轉轉矩；以及一種貼合裝置，其係具備：搬送部、塗佈部、刀具部、貼合部、以及抵接部，該搬送部係將包含主薄膜材與保護材的薄膜進行搬送；該塗佈部係將塗佈液塗佈於主薄膜材上；該刀具部係將塗佈有塗佈液的主薄膜材切斷成既定的長度；該貼合部，係於薄膜貼合位置將保護材剝離並且僅將主薄膜材透過塗佈液貼合於基板上面；該抵接部，係設置於薄膜貼合位置的附近且比位於薄膜貼合位置之基板的上面更低的位置，並抵接於貼合有主薄膜材的基板上面。
简体摘要：本发明系关于一种贴合设备，其系具备：薄膜搬送部、涂布部、贴合部、位置检测部、以及位置修正机构，该涂布部系将涂布液涂布于薄膜；该贴合部系将薄膜贴合于基板；该位置检测部，系检测于贴合前的薄膜之在与搬送方向交叉的薄膜宽度方向上相对于基板的相对位置；该位置修正机构，系于薄膜之贴合时，至少根据位置检测部的检测结果来修正前述相对位置；及一种贴合设备，其系具备：送出部、贴合部、卷取部、驱动部、检测部、以及控制部，该送出部系将包含主薄膜材与保护材的长条状薄膜送出；该贴合部，系于薄膜贴合位置将保护材从主薄膜材剥离并且仅将主薄膜材贴合于基板；该卷取部系将剥离后的保护材卷取；该驱动部系使卷取部旋转驱动；该检测部系检测保护材之卷取直径；该控制部，系根据检测结果来控制驱动部以调整卷取部的旋转转矩；以及一种贴合设备，其系具备：搬送部、涂布部、刀具部、贴合部、以及抵接部，该搬送部系将包含主薄膜材与保护材的薄膜进行搬送；该涂布部系将涂布液涂布于主薄膜材上；该刀具部系将涂布有涂布液的主薄膜材切断成既定的长度；该贴合部，系于薄膜贴合位置将保护材剥离并且仅将主薄膜材透过涂布液贴合于基板上面；该抵接部，系设置于薄膜贴合位置的附近且比位于薄膜贴合位置之基板的上面更低的位置，并抵接于贴合有主薄膜材的基板上面。

12. 发明专利

TW201709285A 紫外線照射裝置及紫外線照射方法审中-公开
简体标题：紫外线照射设备及紫外线照射方法
公开(公告)号：TW201709285A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105119004
申请日：2016-06-16
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO , 小西清孝 , KONISHI, KIYOTAKA , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/263 , H01L21/31
摘要：可抑制收容部內的顆粒的產生，將基板保持清淨。包含：可將基板以密閉空間而收容的收容部；設於前述收容部的外部，並可對前述基板照射紫外線的照射部；以及設於前述收容部的外部，並以前述紫外線從前述收容部的外部照射在收容於前述收容部的內部的前述基板的方式而使前述照射部在前述收容部的外部移動的移動部。
简体摘要：可抑制收容部内的颗粒的产生，将基板保持清净。包含：可将基板以密闭空间而收容的收容部；设于前述收容部的外部，并可对前述基板照射紫外线的照射部；以及设于前述收容部的外部，并以前述紫外线从前述收容部的外部照射在收容于前述收容部的内部的前述基板的方式而使前述照射部在前述收容部的外部移动的移动部。

13. 发明专利

TW201619722A 阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法审中-公开
简体标题：阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TW201619722A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104126989
申请日：2015-08-19
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/40
摘要：本發明課題為提供一種可得到兼顧透光性及耐久性的高信賴性圖型之阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法。課題解決手段關於一種阻劑圖型形成裝置，其係具備在基板上塗佈阻劑膜之塗佈裝置；進行阻劑膜的顯像處理而形成預圖型之顯像裝置；對顯像後的預圖型進行脫水處理之脫水裝置；對脫水後的預圖型進行照光處理之照光裝置；及將照光後的預圖型加熱而使其硬化之加熱裝置。
简体摘要：本发明课题为提供一种可得到兼顾透光性及耐久性的高信赖性图型之阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法。课题解决手段关于一种阻剂图型形成设备，其系具备在基板上涂布阻剂膜之涂布设备；进行阻剂膜的显像处理而形成预图型之显像设备；对显像后的预图型进行脱水处理之脱水设备；对脱水后的预图型进行照光处理之照光设备；及将照光后的预图型加热而使其硬化之加热设备。

14. 发明专利

TW201523767A 光照射裝置、基板處理裝置及基板處理裝置之製造方法审中-公开
简体标题：光照射设备、基板处理设备及基板处理设备之制造方法
公开(公告)号：TW201523767A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103129714
申请日：2014-08-28
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：島井太 , SHIMAI, FUTOSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20
摘要：一種光照射裝置，係具備有：具有特定面，並可收容基板之腔；和被設置於前述特定面處，並能夠進行前述基板之搬入以及搬出之基板搬入搬出口；和以使通過前述基板搬入搬出口而被搬入至前述腔之內部的前述基板通過前述基板搬入搬出口而被搬出至前述腔之外部的方式來在前述腔之內部使前述基板移動之基板移動部；和對於在前述腔之內部移動的前述基板照射既定之波長之光之光照射部。
简体摘要：一种光照射设备，系具备有：具有特定面，并可收容基板之腔；和被设置于前述特定面处，并能够进行前述基板之搬入以及搬出之基板搬入搬出口；和以使通过前述基板搬入搬出口而被搬入至前述腔之内部的前述基板通过前述基板搬入搬出口而被搬出至前述腔之外部的方式来在前述腔之内部使前述基板移动之基板移动部；和对于在前述腔之内部移动的前述基板照射既定之波长之光之光照射部。

15. 发明专利

TW201401404A 貼附裝置审中-公开
简体标题：贴附设备
公开(公告)号：TW201401404A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102107269
申请日：2013-03-01
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：島井太 , SHIMAI, FUTOSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 丸山健治 , MARUYAMA, KENJI , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： H01L21/67 , B30B15/00 , B65H37/04
CPC分类号： B65H35/0013 , B65H37/002 , B65H37/04 , B65H2301/5143 , H01L21/67132
摘要：藉由本發明，係提供一種能夠藉由將接著劑之塗布以及對於基板之貼附以一貫生產線來進行而有效率地進行貼附作業之貼附裝置。本發明，係有關於一種貼附裝置，其係具備有：搬送薄膜之搬送部；和對於薄膜塗布塗布液之塗布部；和將被塗布有塗布液之薄膜切斷為特定之長度的切刀；和將薄膜材貼附於基板上之貼附部。
简体摘要：借由本发明，系提供一种能够借由将接着剂之涂布以及对于基板之贴附以一贯生产线来进行而有效率地进行贴附作业之贴附设备。本发明，系有关于一种贴附设备，其系具备有：搬送薄膜之搬送部；和对于薄膜涂布涂布液之涂布部；和将被涂布有涂布液之薄膜切断为特定之长度的切刀；和将薄膜材贴附于基板上之贴附部。

16. 发明专利

TWI628080B 貼合裝置有权
简体标题：贴合设备
公开(公告)号：TWI628080B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW103119060
申请日：2014-05-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： B32B41/00 , B05C13/02

17. 发明专利

TW201628057A 紫外線照射裝置、紫外線照射方法、基板處理裝置及基板處理裝置之製造方法审中-公开
简体标题：紫外线照射设备、紫外线照射方法、基板处理设备及基板处理设备之制造方法
公开(公告)号：TW201628057A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104119417
申请日：2015-06-16
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/16
摘要：提供一種能夠對於基板而均勻地照射紫外線之紫外線照射裝置、基板處理裝置及基板處理裝置之製造方法。本發明之紫外線照射裝置，係具備有：基板搬送部，係將基板沿著第1方向進行搬送；和照射部，係包含有對於藉由基板搬送部而在第1方向上移動的基板照射紫外線之光照射面；和集光構件，係被設置在照射部之光照射面側，並將紫外線集光於基板，光照射面，係成為使沿著與第1方向相交叉之第2方向的長邊之寬幅與基板之前述第2方向之寬幅相互對應的矩形狀，集光構件，係由使開口面積隨著從光照射面起朝向基板而擴大的筒狀所成，並至少在第2方向之端部處被設置有反射紫外線之反射板。
简体摘要：提供一种能够对于基板而均匀地照射紫外线之紫外线照射设备、基板处理设备及基板处理设备之制造方法。本发明之紫外线照射设备，系具备有：基板搬送部，系将基板沿着第1方向进行搬送；和照射部，系包含有对于借由基板搬送部而在第1方向上移动的基板照射紫外线之光照射面；和集光构件，系被设置在照射部之光照射面侧，并将紫外线集光于基板，光照射面，系成为使沿着与第1方向相交叉之第2方向的长边之宽幅与基板之前述第2方向之宽幅相互对应的矩形状，集光构件，系由使开口面积随着从光照射面起朝向基板而扩大的筒状所成，并至少在第2方向之端部处被设置有反射紫外线之反射板。

18. 发明专利

TW201624133A 阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法审中-公开
简体标题：阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TW201624133A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104126991
申请日：2015-08-19
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明課題為提供一種可抑制剝離殘渣的產生之阻劑圖型形成裝置及阻劑圖型形成方法。課題解決手段是關於一種阻劑圖型形成裝置，其係具備：塗佈正型阻劑組成物，在基板上形成阻劑膜之塗佈裝置；藉由進行阻劑膜的顯像處理而形成預圖型之顯像裝置；在露點-50~-5℃的氣體環境內使預圖型達到加熱既定時間的狀態之第1加熱裝置；及對加熱後的預圖型進行照光處理使其硬化之照光部。
简体摘要：本发明课题为提供一种可抑制剥离残渣的产生之阻剂图型形成设备及阻剂图型形成方法。课题解决手段是关于一种阻剂图型形成设备，其系具备：涂布正型阻剂组成物，在基板上形成阻剂膜之涂布设备；借由进行阻剂膜的显像处理而形成预图型之显像设备；在露点-50~-5℃的气体环境内使预图型达到加热既定时间的状态之第1加热设备；及对加热后的预图型进行照光处理使其硬化之照光部。

19. 发明专利

TW201524780A 薄膜、薄膜的製造方法、黏貼裝置及黏貼方法审中-公开
简体标题：薄膜、薄膜的制造方法、黏贴设备及黏贴方法
公开(公告)号：TW201524780A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103129729
申请日：2014-08-28
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 佐藤晶彥 , SATO, AKIHIKO , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
IPC分类号： B32B37/14 , B32B38/18 , B32B38/00 , B29D7/01
摘要：本發明提供一種薄膜、薄膜的製造方法、黏貼裝置及黏貼方法，該薄膜能防止黏著劑的塗布不均。薄膜具備：第一薄膜構件，形成為帶狀，具有配置於正反面上的第一面和第二面；及，第二薄膜構件，面向前述第一薄膜構件的第一面而配置，在面向前述第一薄膜構件的面上具有黏合層，隔著前述黏合層黏著於前述第一面；並且，在前述第一薄膜構件的前述第二面上塗布有液狀的黏著劑，該薄膜隔著前述黏著劑而貼合於特定的基板上；其中，在作為前述第一薄膜構件的短邊方向之特定方向上，前述黏合層的端面被配置於前述第一面的內側。
简体摘要：本发明提供一种薄膜、薄膜的制造方法、黏贴设备及黏贴方法，该薄膜能防止黏着剂的涂布不均。薄膜具备：第一薄膜构件，形成为带状，具有配置于正反面上的第一面和第二面；及，第二薄膜构件，面向前述第一薄膜构件的第一面而配置，在面向前述第一薄膜构件的面上具有黏合层，隔着前述黏合层黏着于前述第一面；并且，在前述第一薄膜构件的前述第二面上涂布有液状的黏着剂，该薄膜隔着前述黏着剂而贴合于特定的基板上；其中，在作为前述第一薄膜构件的短边方向之特定方向上，前述黏合层的端面被配置于前述第一面的内侧。

20. 发明专利

TW201521083A 光阻圖型之形成方法审中-公开
简体标题：光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TW201521083A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103126404
申请日：2014-08-01
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：島井太 , SHIMAI, FUTOSHI , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI , 丸山健治 , MARUYAMA, KENJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：一種光阻圖型之形成方法，其為具有，對使用光阻組成物於支撐體上所形成的光阻膜進行曝光之後，經顯影進行圖型形成(Patterning)以形成初始圖型之步驟(1)，與使用紫外線及可見光線之一者或二者進行照射使前述初始圖型(Prepattern)硬化之步驟(2)的光阻圖型之形成方法，其特徵為，前述步驟(2)為，包含使用經阻斷紫外線及可見光線中未達波長300nm後之光，對前述初始圖型進行照射之操作。
简体摘要：一种光阻图型之形成方法，其为具有，对使用光阻组成物于支撑体上所形成的光阻膜进行曝光之后，经显影进行图型形成(Patterning)以形成初始图型之步骤(1)，与使用紫外线及可见光线之一者或二者进行照射使前述初始图型(Prepattern)硬化之步骤(2)的光阻图型之形成方法，其特征为，前述步骤(2)为，包含使用经阻断紫外线及可见光线中未达波长300nm后之光，对前述初始图型进行照射之操作。

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