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141. 发明专利

TW201422735A 硬塗膜审中-公开
简体标题：硬涂膜
公开(公告)号：TW201422735A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102127963
申请日：2013-08-05
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：姜俊求 , KANG, JOON-KOO , 鄭順和 , JUNG, SOON-HWA , 張影來 , CHANG, YEONG RAE
IPC分类号： C09D4/02 , C08J7/04
CPC分类号： C09D133/14 , C08J5/18 , C08J7/04 , C08J7/047 , C08J2351/08 , C08K3/00 , C08K3/36 , C08K2201/011 , C08L33/04 , C08L51/08 , C09D4/06 , C09D105/16 , C09D133/04 , C09D135/02 , C09D143/04 , Y10T428/24917 , Y10T428/24942
摘要：本發明係關於硬塗膜，且，更特別地，係關於具有硬度和極佳的物理性質之硬塗膜。根據本發明，該硬塗膜具有高物理性質，包括硬度、耐污性、耐滑性、耐刮性、透明、耐久性、耐光性、和透光性。因此，由於其極佳的物理性質，該硬塗膜能夠用於各種領域的應用中。
简体摘要：本发明系关于硬涂膜，且，更特别地，系关于具有硬度和极佳的物理性质之硬涂膜。根据本发明，该硬涂膜具有高物理性质，包括硬度、耐污性、耐滑性、耐刮性、透明、耐久性、耐光性、和透光性。因此，由于其极佳的物理性质，该硬涂膜能够用于各种领域的应用中。

142. 发明专利

TW201418350A 硬化性組成物及硬化膜之製造方法审中-公开
简体标题：硬化性组成物及硬化膜之制造方法
公开(公告)号：TW201418350A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102130580
申请日：2013-08-27
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：伊藤昌宏 , ITO, MASAHIRO , 鶴岡薰 , TSURUOKA, KAORI
IPC分类号： C08L33/08 , C08K13/08 , H01L21/312 , H01L21/336
CPC分类号： C09D127/22 , C08F14/185 , C08F299/00 , C08L71/12 , C09D4/06 , H01L29/4908 , H01L29/7869 , H01L51/052
摘要：本發明係提供一種硬化性組成物、使用該硬化性組成物之硬化膜的製造方法、使用由使該硬化性組成物硬化所得之硬化膜的半導體元件，該硬化性組成物係可獲得保持撥水性同時具備能夠塗佈有機溶劑系塗佈液的親油性、且具有充分絕緣性的低介電率硬化膜。本發明之硬化性組成物包含：具有交聯性官能基之含氟聚伸芳基預聚物(A)；數量平均分子量為140~3,000之化合物(B)，其具有2個以上交聯性官能基且不具氟原子；數量平均分子量超過3,000且在50,000以下之化合物(C)，其具有碳原子間可具有醚性氧原子之碳數6~24烷基與交聯性官能基，且不具氟原子；及自由基聚合引發劑(D)。
简体摘要：本发明系提供一种硬化性组成物、使用该硬化性组成物之硬化膜的制造方法、使用由使该硬化性组成物硬化所得之硬化膜的半导体组件，该硬化性组成物系可获得保持拨水性同时具备能够涂布有机溶剂系涂布液的亲油性、且具有充分绝缘性的低介电率硬化膜。本发明之硬化性组成物包含：具有交联性官能基之含氟聚伸芳基预聚物(A)；数量平均分子量为140~3,000之化合物(B)，其具有2个以上交联性官能基且不具氟原子；数量平均分子量超过3,000且在50,000以下之化合物(C)，其具有碳原子间可具有醚性氧原子之碳数6~24烷基与交联性官能基，且不具氟原子；及自由基聚合引发剂(D)。

143. 发明专利

TWI425046B 黏著組成物以及使用彼使構件暫時性固定的方法有权
简体标题：黏着组成物以及使用彼使构件暂时性固定的方法
公开(公告)号：TWI425046B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW095109207
申请日：2006-03-17
申请人：電氣化學工業股份有限公司 , DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
发明人：大島和宏 , OSHIMA, KAZUHIRO , 金井朋之 , KANAI, TOMOYUKI , 入內島邦夫 , IRIUCHIJIMA, KUNIO
IPC分类号： C08L33/08 , C09J4/02 , C09J133/08 , C09J175/14 , C09J5/00
CPC分类号： C09J133/14 , C08G18/672 , C09D4/06 , C09J175/16 , C08G18/69 , C08F290/048

144. 发明专利

TWI405832B 偏光板用壓感黏著劑、壓感黏著片、具有壓感黏著劑之偏光板及其製造方法以及光學薄膜及其製造方法有权
简体标题：偏光板用压感黏着剂、压感黏着片、具有压感黏着剂之偏光板及其制造方法以及光学薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI405832B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW096101186
申请日：2007-01-12
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：永元公市 , NAGAMOTO, KOICHI , 草間健太郎 , KUSAMA, KENTARO , 樫尾幹廣 , KASHIO, MIKIHIRO , 今和弘 , KON, KAZUHIRO , 早川基行 , HAYAKAWA, MOTOYUKI
IPC分类号： C09J133/00 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3083 , B32B37/12 , B32B2307/42 , C09D4/06 , C09J7/00 , C09J7/10 , C09J7/385 , C09J2433/00 , G02B5/3033 , G02B7/00 , G02F1/133528 , G02F1/13363 , G02F2202/28 , Y10T428/14 , Y10T428/2852 , Y10T428/2891 , C08F220/26

145. 发明专利

TW201323536A 硬被覆劑組成物及使用其之硬被覆膜审中-公开
简体标题：硬被覆剂组成物及使用其之硬被覆膜
公开(公告)号：TW201323536A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101135213
申请日：2012-09-26
申请人： TDK股份有限公司 , TDK CORPORATION
发明人：山田千惠子 , YAMADA, CHIEKO , 田中和志 , TANAKA, KAZUSHI
IPC分类号： C09D175/16 , C09D171/00 , C09D5/00
CPC分类号： B82Y30/00 , C08F2222/1026 , C08F2222/1086 , C09D4/06 , Y10T428/3154
摘要：本發明提供一種硬被覆劑組成物，其能夠在各種物體表面形成具優良的透明性、抗汙性、潤滑性、耐溶劑性、耐擦傷性、耐磨損性並同時具優異的衝孔加工性之硬被覆層。該硬被覆劑組成物係包含：具有2個以上(甲基)丙烯醯基之胺甲酸酯丙烯酸酯B；於包含全氟聚醚基之分子鏈的兩末端，分別透過胺甲酸酯鍵具有活性能量線反應性基之第1含有氟之聚醚C；於包含全氟聚醚基之分子鏈的一邊末端透過胺甲酸酯鍵具有活性能量線反應性基，且於另一邊的末端不具活性能量線反應性基之第2含有氟之聚醚D；具有2個以上活性能量線聚合性基之硬化性化合物A。其中相對於A成分與B成分之合計量100重量份，C成分為0.05~0.7重量份，而所含有的D成分係使重量比C/D為1/5~5/2。
简体摘要：本发明提供一种硬被覆剂组成物，其能够在各种物体表面形成具优良的透明性、抗污性、润滑性、耐溶剂性、耐擦伤性、耐磨损性并同时具优异的冲孔加工性之硬被覆层。该硬被覆剂组成物系包含：具有2个以上(甲基)丙烯酰基之胺甲酸酯丙烯酸酯B；于包含全氟聚醚基之分子链的两末端，分别透过胺甲酸酯键具有活性能量线反应性基之第1含有氟之聚醚C；于包含全氟聚醚基之分子链的一边末端透过胺甲酸酯键具有活性能量线反应性基，且于另一边的末端不具活性能量线反应性基之第2含有氟之聚醚D；具有2个以上活性能量线聚合性基之硬化性化合物A。其中相对于A成分与B成分之合计量100重量份，C成分为0.05~0.7重量份，而所含有的D成分系使重量比C/D为1/5~5/2。

146. 发明专利

TWI396724B 用於電路連接薄膜之組成物及使用其之電路連接薄膜有权
简体标题：用于电路连接薄膜之组成物及使用其之电路连接薄膜
公开(公告)号：TWI396724B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW098142272
申请日：2009-12-10
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：南宮賢熺 , NAMKUNG, HYUN HEE , 朴憬修 , PARK, KYOUNG SOO , 金奉龍 , KIM, BONG YONG , 尹康培 , YOON, KANG BAE , 裵相植 , BAE, SANG SIK , 徐賢柱 , SEO, HYUN JOO
IPC分类号： C09J7/00 , C09J9/02 , C09J4/00 , C09J175/04 , C09J109/02 , C09J113/02 , C09J11/06
CPC分类号： C09D4/06 , C08F283/008 , C08G18/672 , C09D175/16 , C08G18/40 , C08L2666/08

147. 发明专利

TW201213462A 硬塗層膜及前面保護板 HARD COAT FILM AND FRONT PROTECTION PLATE 审中-公开
简体标题：硬涂层膜及前面保护板 HARD COAT FILM AND FRONT PROTECTION PLATE
公开(公告)号：TW201213462A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100131748
申请日：2011-09-02
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：鍋島泰彥 , 庄子惠子 , 舟見英太
IPC分类号： C09D , B05D , G02B
CPC分类号： B32B27/308 , B32B27/08 , C08F2/38 , C08F220/14 , C08F222/1006 , C08J7/047 , C08J2333/06 , C08J2333/12 , C08J2433/06 , C09D4/06 , Y10T428/265 , Y10T428/269 , Y10T428/31504 , C08F2222/1013 , C08F265/06
摘要：本發明提供一種外觀良好，透明性、耐衝擊性、及耐擦傷性或表面硬度優異的硬塗層膜。一種硬塗層膜，其是於含有下述式(1)所表示的含有二(甲基)丙烯酸酯(A)單元與單(甲基)丙烯酸酯(B)單元的聚合物(C)的基材膜的至少單面積層有硬塗層的硬塗層膜。式(1)中，X表示選自聚烷二醇殘基、聚酯二醇殘基及聚碳酸酯二醇殘基中的至少1種數量平均分子量為500以上的二醇殘基，R 1 表示H或CH3。
简体摘要：本发明提供一种外观良好，透明性、耐冲击性、及耐擦伤性或表面硬度优异的硬涂层膜。一种硬涂层膜，其是于含有下述式(1)所表示的含有二(甲基)丙烯酸酯(A)单元与单(甲基)丙烯酸酯(B)单元的聚合物(C)的基材膜的至少单面积层有硬涂层的硬涂层膜。式(1)中，X表示选自聚烷二醇残基、聚酯二醇残基及聚碳酸酯二醇残基中的至少1种数量平均分子量为500以上的二醇残基，R 1 表示H或CH3。

148. 发明专利

TW201207061A 多層黏著片及電子零件之製造方法 MULTILAYER ADHESIVE SHEET AND PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC PARTS 审中-公开
简体标题：多层黏着片及电子零件之制造方法 MULTILAYER ADHESIVE SHEET AND PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC PARTS
公开(公告)号：TW201207061A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100124744
申请日：2011-07-13
申请人：電氣化學工業股份有限公司
发明人：齊藤岳史 , 鹿野和典
IPC分类号： C09J , C08J , H01L
CPC分类号： H01L21/78 , C08F220/18 , C08F222/1006 , C08F265/04 , C08F290/147 , C08F2222/104 , C08F2222/1086 , C08G18/673 , C08G18/792 , C08G18/8029 , C08G77/442 , C08L75/14 , C09D4/06 , C09J7/20 , C09J7/22 , C09J7/243 , C09J7/38 , C09J151/003 , C09J2203/326 , C09J2205/114 , C09J2423/006 , C09J2433/00 , C09J2475/00 , C09J2483/00 , H01L21/6836 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/83 , H01L2224/274 , H01L2224/27436 , H01L2224/29 , H01L2224/2919 , H01L2224/2929 , H01L2224/29299 , H01L2224/83191 , H01L2224/838 , H01L2924/00013 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01025 , H01L2924/01033 , H01L2924/01082 , H01L2924/0665 , H01L2924/10253 , Y10T156/1052 , Y10T428/14 , H01L2924/00 , H01L2924/00014 , H01L2224/29099 , H01L2224/29199 , C08F2220/1808 , C08F2220/1825 , C08F2220/281 , C08F220/06 , C08F220/20
摘要：本發明提供一種多層黏著片，其即使在將丙烯酸酯共聚物使用於晶片貼膜之情況下，於拾取時亦可容易地將黏著層與晶片貼膜間予以剝離，因此使得切割後之半導體晶片之拾取作業可容易地進行；該多層黏著片具有基材膜、積層於基材膜之一側表面之黏著層、及積層於黏著層之露出面之晶片貼膜，構成黏著層之黏著劑具有(甲基)丙烯酸酯共聚物(A)、紫外線聚合性化合物(B)、多官能異氰酸酯硬化劑(C)、光聚合起始劑(D)、及聚矽氧聚合物(E)。
简体摘要：本发明提供一种多层黏着片，其即使在将丙烯酸酯共聚物使用于芯片贴膜之情况下，于十取时亦可容易地将黏着层与芯片贴膜间予以剥离，因此使得切割后之半导体芯片之十取作业可容易地进行；该多层黏着片具有基材膜、积层于基材膜之一侧表面之黏着层、及积层于黏着层之露出面之芯片贴膜，构成黏着层之黏着剂具有(甲基)丙烯酸酯共聚物(A)、紫外线聚合性化合物(B)、多官能异氰酸酯硬化剂(C)、光聚合起始剂(D)、及聚硅氧聚合物(E)。

149. 发明专利

TWI340141B 用以製備稜鏡層的組成以及使用該組成所製成的稜鏡膜 COMPOSITION FOR FORMING PRISM LAYER AND PRISM FILM MANUFACTURED USING THE SAME 有权
简体标题：用以制备棱镜层的组成以及使用该组成所制成的棱镜膜 COMPOSITION FOR FORMING PRISM LAYER AND PRISM FILM MANUFACTURED USING THE SAME
公开(公告)号：TWI340141B
公开(公告)日：2011-04-11
申请号：TW095103211
申请日：2006-01-26
申请人：可隆工業股份有限公司
发明人：鄭雨澈 , 金昌建 , 朴種旼
IPC分类号： C07F , C08F , G02B
CPC分类号： C08F222/1006 , C08F2/48 , C08F220/30 , C08F2220/302 , C09D4/06
摘要：一種用以製備稜鏡層的組成，以及使用該組成所製成的稜鏡膜。用以製備稜鏡層的組成包括一種含有以下列化學式1或2所表示之芴衍生二丙烯酸單體的紫外線硬化單體A；一種含有至少一丙烯酸單體的紫外線硬化單體B；一種光引發劑；和一種添加劑，因而表面強度、對基片膜的黏著性、和抗發黃性均優越，且具有適於製備該稜鏡層的黏性：
其中X1和X2各是個氫基(H)或CH3基(甲基)，Y1到Y4各是個氫基，CH3基或羥基(OH)，而a和b則各是個0到4的整數；以及
其中X3和X4各是個氫基或CH3基，Y5和Y6各是個氫基或CH3基，而c和d則各是個0到4的整數。
简体摘要：一种用以制备棱镜层的组成，以及使用该组成所制成的棱镜膜。用以制备棱镜层的组成包括一种含有以下列化学式1或2所表示之芴衍生二丙烯酸单体的紫外线硬化单体A；一种含有至少一丙烯酸单体的紫外线硬化单体B；一种光引发剂；和一种添加剂，因而表面强度、对基片膜的黏着性、和抗发黄性均优越，且具有适于制备该棱镜层的黏性：其中X1和X2各是个氢基(H)或CH3基(甲基)，Y1到Y4各是个氢基，CH3基或羟基(OH)，而a和b则各是个0到4的整数；以及其中X3和X4各是个氢基或CH3基，Y5和Y6各是个氢基或CH3基，而c和d则各是个0到4的整数。

150. 发明专利

TWI336424B 負型光阻組合物 NEGATIVE RESIST COMPOSITION 有权
简体标题：负型光阻组合物 NEGATIVE RESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TWI336424B
公开(公告)日：2011-01-21
申请号：TW094124598
申请日：2005-07-20
申请人：三養EMS股份有限公司
发明人：柳美善 , 文奉錫 , 裵琉璃 , 車爀鎮 , 李壽鉉 , 金永會 , 金碩根 , 趙行圭 , 朴陳圭 , 申大浩
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/033 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/32 , C08F222/1006 , C09D4/06 , G03F7/0007 , G03F7/0751
摘要：在此揭示一用於液晶顯示元件的負型光阻組合物，其包括(a)3至40份重量份的黏合樹脂，其係由包括下列(i)至(iv)之單體的共聚物所組成；(i)10-50莫耳%之一種酸其包括一具有3至10個碳原子之不飽和基團、包括該不飽和基團之酸酐或其之混合物；(ii)5-50莫耳%之一含有一環氧取代基之(甲)丙烯酸衍生物，其中該環氧取代基具有3-10個碳原子；(iii)1-35莫耳%之一含有一烷基取代基的(甲)丙烯酸衍生物，其中該烷基取代基具有7-16個碳原子；(iv)5-55莫耳%之一含有一烷基取代基的(甲)丙烯酸衍生物，其中該烷基取代基具有1-6個碳原子；或一具有一不飽和雙鍵之包括4-14個碳原子的化合物，其係選自下列：(甲)丙烯酸甲酯、(甲)丙烯酸乙酯、(甲)丙烯酸丙酯、(甲)丙烯酸丁酯、(甲)丙烯酸戊酯、(甲)丙烯酸己酯、(甲)丙烯酸環己酯、(甲)丙烯酸異冰片酯、(甲)丙烯酸金剛烷酯、(甲)丙烯酸二環戊酯、(甲)丙烯酸二環戊烯酯、(甲)丙烯酸苯甲酯、(甲)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲)丙烯酸2-乙氧乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙醯氧苯乙烯、N-甲基順丁烯二醯亞胺、N-乙基順丁烯二醯亞胺、N-丙基順丁烯二醯亞胺、N-丁基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、(甲)丙烯醯胺及N-甲基(甲)丙烯醯胺；(b)1至40份重量份之一(甲)丙烯醛單體，其包括至少3個(甲)丙烯醛基；(c)1至40份重量份之一(甲)丙烯醛單體，其包括一或兩個(甲)丙烯醛基；及(d)0.01至10份重量份之一光起始劑。藉由使用所揭示負型光阻組合物所生成的圖樣具有良好的物理性質，例如滯留比、圖樣穩定度、與基板間的黏合性、及生成圖樣後的耐化學性及在黏合製程或熱製程間絕佳的順服性所致之極低的碎裂度。
简体摘要：在此揭示一用于液晶显示组件的负型光阻组合物，其包括(a)3至40份重量份的黏合树脂，其系由包括下列(i)至(iv)之单体的共聚物所组成；(i)10-50莫耳%之一种酸其包括一具有3至10个碳原子之不饱和基团、包括该不饱和基团之酸酐或其之混合物；(ii)5-50莫耳%之一含有一环氧取代基之(甲)丙烯酸衍生物，其中该环氧取代基具有3-10个碳原子；(iii)1-35莫耳%之一含有一烷基取代基的(甲)丙烯酸衍生物，其中该烷基取代基具有7-16个碳原子；(iv)5-55莫耳%之一含有一烷基取代基的(甲)丙烯酸衍生物，其中该烷基取代基具有1-6个碳原子；或一具有一不饱和双键之包括4-14个碳原子的化合物，其系选自下列：(甲)丙烯酸甲酯、(甲)丙烯酸乙酯、(甲)丙烯酸丙酯、(甲)丙烯酸丁酯、(甲)丙烯酸戊酯、(甲)丙烯酸己酯、(甲)丙烯酸环己酯、(甲)丙烯酸异冰片酯、(甲)丙烯酸金刚烷酯、(甲)丙烯酸二环戊酯、(甲)丙烯酸二环戊烯酯、(甲)丙烯酸苯甲酯、(甲)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲)丙烯酸2-乙氧乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酰氧苯乙烯、N-甲基顺丁烯二酰亚胺、N-乙基顺丁烯二酰亚胺、N-丙基顺丁烯二酰亚胺、N-丁基顺丁烯二酰亚胺、N-环己基顺丁烯二酰亚胺、(甲)丙烯酰胺及N-甲基(甲)丙烯酰胺；(b)1至40份重量份之一(甲)丙烯醛单体，其包括至少3个(甲)丙烯醛基；(c)1至40份重量份之一(甲)丙烯醛单体，其包括一或两个(甲)丙烯醛基；及(d)0.01至10份重量份之一光起始剂。借由使用所揭示负型光阻组合物所生成的图样具有良好的物理性质，例如滞留比、图样稳定度、与基板间的黏合性、及生成图样后的耐化学性及在黏合制程或热制程间绝佳的顺服性所致之极低的碎裂度。

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