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121. 发明专利

TW201638061A 化合物、樹脂、微影用下層膜形成材料、微影用下層膜、圖型形成方法及化合物或樹脂之純化方法审中-公开
简体标题：化合物、树脂、微影用下层膜形成材料、微影用下层膜、图型形成方法及化合物或树脂之纯化方法
公开(公告)号：TW201638061A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105106741
申请日：2016-03-04
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：堀內淳矢 , HORIUCHI, JUNYA , 越後雅敏 , ECHIGO, MASATOSHI , 牧野嶋高史 , MAKINOSHIMA, TAKASHI
IPC分类号： C07C39/15 , C08G8/04 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/308
CPC分类号： C07C37/20 , C07C37/72 , C07C39/15 , C08G8/02 , C08G8/04 , C08G8/20 , G03F7/11 , H01L21/3081
摘要：一種下述式(1)所表示之化合物。式(1)中，R1係各自獨立為碳數1~30之2價之基，R2~R7係各自獨立為碳數1~10之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基、碳數6~10之芳基、碳數2~10之烯基、巰基或羥基，在此，R5之至少一個為羥基或巰基，m2、m3及m6係各自獨立為0~9之整數，m4及m7係各自獨立為0~8之整數，m5為1~9之整數，n為1~4之整數，p2~p7係各自獨立為0~2之整數。
简体摘要：一种下述式(1)所表示之化合物。式(1)中，R1系各自独立为碳数1~30之2价之基，R2~R7系各自独立为碳数1~10之直链状、分枝状或环状之烷基、碳数6~10之芳基、碳数2~10之烯基、巯基或羟基，在此，R5之至少一个为羟基或巯基，m2、m3及m6系各自独立为0~9之整数，m4及m7系各自独立为0~8之整数，m5为1~9之整数，n为1~4之整数，p2~p7系各自独立为0~2之整数。

122. 发明专利

TW201636205A 樹脂片及印刷電路板审中-公开
简体标题：树脂片及印刷电路板
公开(公告)号：TW201636205A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104140027
申请日：2015-12-01
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：出井秀和 , IDEI, HIDEKAZU , 四家誠司 , SHIKA, SEIJI , 長谷部惠一 , HASEBE, KEIICHI
IPC分类号： B32B9/00 , B32B7/02 , H05K3/38 , H05K3/46
CPC分类号： B32B7/02 , B32B9/00 , H05K3/38 , H05K3/46
摘要：依本發明可提供一種之樹脂片，包括能使用在印刷電路板材料之絕緣層之樹脂組成物，絕緣層與在其表面鍍敷形成之導體層之密合性優異，完全硬化時之熱膨脹率低。一種樹脂片，包括:為選自於由高分子膜、金屬箔及金屬膜構成之群組中之任一種的外層、與疊層在該外層上之絕緣層;該絕緣層含有: 環氧化合物(A)、氰酸酯化合物(B)、無機填充材(C)、經胺基矽烷處理之二氧化矽(C)及可溶於酸之無機填充材(D)。
简体摘要：依本发明可提供一种之树脂片，包括能使用在印刷电路板材料之绝缘层之树脂组成物，绝缘层与在其表面镀敷形成之导体层之密合性优异，完全硬化时之热膨胀率低。一种树脂片，包括:为选自于由高分子膜、金属箔及金属膜构成之群组中之任一种的外层、与叠层在该外层上之绝缘层;该绝缘层含有: 环氧化合物(A)、氰酸酯化合物(B)、无机填充材(C)、经胺基硅烷处理之二氧化硅(C)及可溶于酸之无机填充材(D)。

123. 发明专利

TW201634454A 新穎脂環式酯化合物、（甲基）丙烯酸共聚物及包含此之機能性樹脂組成物审中-公开
简体标题：新颖脂环式酯化合物、（甲基）丙烯酸共聚物及包含此之机能性树脂组成物
公开(公告)号：TW201634454A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105103863
申请日：2016-02-04
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：棚木宏幸 , TANAGI, HIROYUKI , 田中博康 , TANAKA, HIROYASU , 水阪哲彥 , MIZUSAKA, TETSUHIKO , 古川喜久夫 , FURUKAWA, KIKUO , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI
IPC分类号： C07D307/94 , C07D307/33 , C08F220/32 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D307/33 , C07D307/94 , C08F20/28 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種作為化學增幅型光阻不會損及基盤密著性、乾蝕刻耐性等之作為光阻之基本物性，而提升線邊緣粗糙度(LER)之平衡良好之光阻及化合物。一般式(1)所表示之內酯酯化合物、及其製造方法、由一般式(1)所構成之(甲基)丙烯酸共聚物與其感光性樹脂組成物。 (式(1)中，R1表示氫原子或甲基； R2表示氫、碳數1~10之脂肪族烷基、或具有碳數3~10之脂環構造之烷基；R3表示氫、式(2)所表示之烷氧基羰基、碳數1~10之脂肪族烷基、或具有碳數3~10之脂環構造之烷基；此時，R2及R3亦可互相結合而形成碳數3~10之脂環構造；n1表示0~2之整數。) (式(2)中，R4表示碳數1~13之脂肪族烷基或具有碳數3~13之脂環構造之烷基；虛線表示式(1)之化合物中之結合處。)
简体摘要：本发明提供一种作为化学增幅型光阻不会损及基盘密着性、干蚀刻耐性等之作为光阻之基本物性，而提升线边缘粗糙度(LER)之平衡良好之光阻及化合物。一般式(1)所表示之内酯酯化合物、及其制造方法、由一般式(1)所构成之(甲基)丙烯酸共聚物与其感光性树脂组成物。 (式(1)中，R1表示氢原子或甲基； R2表示氢、碳数1~10之脂肪族烷基、或具有碳数3~10之脂环构造之烷基；R3表示氢、式(2)所表示之烷氧基羰基、碳数1~10之脂肪族烷基、或具有碳数3~10之脂环构造之烷基；此时，R2及R3亦可互相结合而形成碳数3~10之脂环构造；n1表示0~2之整数。) (式(2)中，R4表示碳数1~13之脂肪族烷基或具有碳数3~13之脂环构造之烷基；虚线表达式(1)之化合物中之结合处。)

124. 发明专利

TW201634250A 多層中空成形體审中-公开
简体标题：多层中空成形体
公开(公告)号：TW201634250A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104143038
申请日：2015-12-22
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：佐藤和哉 , SATO, KAZUYA , 加藤智則 , KATO, TOMONORI , 菊地麻由美 , KIKUCHI, MAYUMI
IPC分类号： B32B1/08 , B32B27/28 , F16L11/12
CPC分类号： B32B1/08 , B32B3/28 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/22 , B32B27/28 , B32B27/304 , B32B27/306 , B32B27/32 , B32B27/322 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B2250/02 , B32B2250/03 , B32B2250/05 , B32B2250/24 , B32B2250/40 , B32B2270/00 , B32B2307/306 , B32B2307/558 , B32B2307/7265 , B32B2307/732 , B32B2597/00 , C08G69/26 , C08L23/08 , C08L77/06 , F16L11/04 , F16L11/125
摘要：本發明係關於具有充分阻隔性、高耐破裂性及高耐熱性，耐衝擊性也良好，適合使用作為輸送高溫液體燃料之燃料輸送管線材料等之多層中空成形體。本發明之多層中空成形體其特徵為：具有至少一層之脂肪族聚醯胺層(A)及至少一層之阻隔層(B)，脂肪族聚醯胺層(A)係由以脂肪族聚醯胺(a)作為主成分之樹脂組成物構成；阻隔層(B)係由含有乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)與半芳香族聚醯胺(b)之樹脂組成物構成。
简体摘要：本发明系关于具有充分阻隔性、高耐破裂性及高耐热性，耐冲击性也良好，适合使用作为输送高温液体燃料之燃料输送管线材料等之多层中空成形体。本发明之多层中空成形体其特征为：具有至少一层之脂肪族聚酰胺层(A)及至少一层之阻隔层(B)，脂肪族聚酰胺层(A)系由以脂肪族聚酰胺(a)作为主成分之树脂组成物构成；阻隔层(B)系由含有乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)与半芳香族聚酰胺(b)之树脂组成物构成。

125. 发明专利

TWI550342B 感放射線性組成物、下層膜、及光阻圖案形成方法有权
简体标题：感放射线性组成物、下层膜、及光阻图案形成方法
公开(公告)号：TWI550342B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW103118403
申请日：2007-11-02
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：越後雅敏 , ECHIGO, MASATOSHI , 小黑大 , OGURO, DAI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , C07C39/205 , H01L21/027 , H01L21/3065
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C37/20 , C07C39/12 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C45/49 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D307/33 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/109 , C07C47/546

126. 发明专利

TWI547358B 鑽孔用蓋板有权
简体标题：钻孔用盖板
公开(公告)号：TWI547358B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW100149246
申请日：2011-12-28
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：龜井孝幸 , KAMEI, TAKAYUKI , 堀江茂 , HORIE, SHIGERU , 羽崎拓哉 , HASAKI, TAKUYA , 松山洋介 , MATSUYAMA, YOUSUKE , 宮平哲郎 , MIYAHIRA, TETSUROU
IPC分类号： B26F1/16 , B32B27/18
CPC分类号： H05K3/0047 , H05K2203/0214

128. 发明专利

TW201628860A 壓力容器、襯墊及壓力容器之製造方法审中-公开
简体标题：压力容器、衬垫及压力容器之制造方法
公开(公告)号：TW201628860A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104137650
申请日：2015-11-16
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：加藤智則 , KATO, TOMONORI , 松本信彥 , MATSUMOTO, NOBUHIKO
IPC分类号： B32B27/04 , B32B27/34 , F17C1/02
CPC分类号： F17C1/06 , C08G69/26 , C08J5/042 , C08J5/06 , C08J2377/06 , F16J12/00 , F17C1/16 , F17C2201/0109 , F17C2203/0604 , F17C2203/0663 , F17C2209/21 , F17C2221/011 , F17C2221/012 , F17C2221/013 , F17C2221/014 , F17C2221/016 , F17C2221/033 , F17C2221/035 , F17C2260/036 , F17C2270/01
摘要：提供提高阻氣性之壓力容器、襯墊以及壓力容器之製造方法。本發明之壓力容器具有襯墊及該襯墊之外層，該外層係由包括連續纖維及含浸於該連續纖維之聚醯胺樹脂之複合材料構成，該聚醯胺樹脂含有來自二胺之構成單元及來自二羧酸之構成單元，該來自二胺之構成單元之50莫耳%以上來自亞二甲苯二胺。
简体摘要：提供提高阻气性之压力容器、衬垫以及压力容器之制造方法。本发明之压力容器具有衬垫及该衬垫之外层，该外层系由包括连续纤维及含浸于该连续纤维之聚酰胺树脂之复合材料构成，该聚酰胺树脂含有来自二胺之构成单元及来自二羧酸之构成单元，该来自二胺之构成单元之50莫耳%以上来自亚二甲苯二胺。

130. 发明专利

TW201627533A 液體組成物及利用該液體組成物的蝕刻方法审中-公开
简体标题：液体组成物及利用该液体组成物的蚀刻方法
公开(公告)号：TW201627533A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104138367
申请日：2015-11-20
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹內秀範 , TAKEUCHI, HIDENORI , 夕部邦夫 , YUBE, KUNIO
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/3213 , H01L21/465 , H01L29/786
摘要：本發明關於一種液體組成物，該液體組成物係用以蝕刻在由銦、鎵、鋅及氧構成之氧化物上形成之銅或銅作為主成分之金屬化合物；並係關於一種蝕刻方法，其特徵為：使該液體組成物接觸具有銅或銅作為主成分之金屬化合物之基板。本發明之液體組成物，其特徵為：含有(A)過氧化氫、(B)不含氟原子之酸、(C)選自於由膦酸類、磷酸酯類、1H－四唑－1－乙酸、1H－四唑－5－乙酸及4－胺基－1,2,4－三唑構成之群組中之1種以上之化合物、及(D)水，且pH值為5以下。藉由使用本發明之液體組成物，可抑制對由銦、鎵、鋅及氧構成之氧化物的損傷，並蝕刻在由銦、鎵、鋅及氧構成之氧化物上形成之銅或銅作為主成分之金屬化合物。
简体摘要：本发明关于一种液体组成物，该液体组成物系用以蚀刻在由铟、镓、锌及氧构成之氧化物上形成之铜或铜作为主成分之金属化合物；并系关于一种蚀刻方法，其特征为：使该液体组成物接触具有铜或铜作为主成分之金属化合物之基板。本发明之液体组成物，其特征为：含有(A)过氧化氢、(B)不含氟原子之酸、(C)选自于由膦酸类、磷酸酯类、1H－四唑－1－乙酸、1H－四唑－5－乙酸及4－胺基－1,2,4－三唑构成之群组中之1种以上之化合物、及(D)水，且pH值为5以下。借由使用本发明之液体组成物，可抑制对由铟、镓、锌及氧构成之氧化物的损伤，并蚀刻在由铟、镓、锌及氧构成之氧化物上形成之铜或铜作为主成分之金属化合物。

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