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    • 93. 发明专利
    • 介電體磁器組成物及陶瓷電子零件
    • 介电体磁器组成物及陶瓷电子零件
    • TW201821387A
    • 2018-06-16
    • TW106135339
    • 2017-10-16
    • 日商昭榮化學工業股份有限公司SHOEI CHEMICAL INC.
    • 野村武史NOMURA, TAKESHI根本淳史NEMOTO, ATSUSHI佐佐木紫SASAKI, YUKARI竹本和彥TAKEMOTO, KAZUHIKO木下菜緒美KINOSHITA, NAOMI高橋由美TAKAHASHI, YUMI
    • C04B35/00H01G4/12H01G4/30
    • 本發明係一種介電體磁器組成物,其特徵在於:包含第一成分與第二成分,第一成分包含相對於氧化物換算之第一成分之合計mol數之含有比率為0~35.85mol%的Ca之氧化物、0~47.12mol%之Sr之氧化物、0~51.22mol%之Ba之氧化物、0~17.36mol%之Ti之氧化物、0~17.36mol%之Zr之氧化物、0~2.60mol%之Sn之氧化物、0~35.32mol%之Nb之氧化物、0~35.32mol%之Ta之氧化物、0~2.65mol%之V之氧化物,該第一成分含有選自Ca之氧化物、Sr之氧化物及Ba之氧化物中之至少1種、選自Ti之氧化物及Zr之氧化物中之至少1種、及選自Nb之氧化物及Ta之氧化物中之至少1種作為必須成分,且相對於氧化物換算之第一成分之合計mol數,CaO換算之Ca之氧化物、SrO換算之Sr之氧化物及BaO換算之Ba之氧化物的合計之含有比率為48.72~51.22mol%,TiO2換算之Ti之氧化物、ZrO2換算之Zr氧化物及SnO2換算之Sn之氧化物的合計之含有比率為15.97~17.36mol%,Nb2O5換算之Nb之氧化物、Ta2O5換算之Ta氧化物及V2O5換算之V之氧化物的合計之含有比率為31.42~35.31mol%,且該介電體磁器組成物至少含有Mn之氧化物作為第二成分。根據本發明,可提供一種能夠於還原氛圍下燒成,相對介電常數較高,於用作積層陶瓷電容器等陶瓷電子零件之介電體層之情形時,即便在150~200℃之條件下靜電電容之變化亦較少,且25℃及200℃下之介電損失較小之介電體磁器組成物。
    • 本发明系一种介电体磁器组成物,其特征在于:包含第一成分与第二成分,第一成分包含相对于氧化物换算之第一成分之合计mol数之含有比率为0~35.85mol%的Ca之氧化物、0~47.12mol%之Sr之氧化物、0~51.22mol%之Ba之氧化物、0~17.36mol%之Ti之氧化物、0~17.36mol%之Zr之氧化物、0~2.60mol%之Sn之氧化物、0~35.32mol%之Nb之氧化物、0~35.32mol%之Ta之氧化物、0~2.65mol%之V之氧化物,该第一成分含有选自Ca之氧化物、Sr之氧化物及Ba之氧化物中之至少1种、选自Ti之氧化物及Zr之氧化物中之至少1种、及选自Nb之氧化物及Ta之氧化物中之至少1种作为必须成分,且相对于氧化物换算之第一成分之合计mol数,CaO换算之Ca之氧化物、SrO换算之Sr之氧化物及BaO换算之Ba之氧化物的合计之含有比率为48.72~51.22mol%,TiO2换算之Ti之氧化物、ZrO2换算之Zr氧化物及SnO2换算之Sn之氧化物的合计之含有比率为15.97~17.36mol%,Nb2O5换算之Nb之氧化物、Ta2O5换算之Ta氧化物及V2O5换算之V之氧化物的合计之含有比率为31.42~35.31mol%,且该介电体磁器组成物至少含有Mn之氧化物作为第二成分。根据本发明,可提供一种能够于还原氛围下烧成,相对介电常数较高,于用作积层陶瓷电容器等陶瓷电子零件之介电体层之情形时,即便在150~200℃之条件下静电电容之变化亦较少,且25℃及200℃下之介电损失较小之介电体磁器组成物。
    • 95. 发明专利
    • 積層陶瓷電容
    • 积层陶瓷电容
    • TW201816809A
    • 2018-05-01
    • TW106123337
    • 2017-07-12
    • 太陽誘電股份有限公司TAIYO YUDEN CO., LTD.
    • 佐藤壮SATO, SO飯島淑明IIJIMA, YOSHIAKI笹木隆SASAKI, TAKASHI
    • H01G4/232H01G4/30
    • 本發明係提供一種即便於電容本體於其至少高度方向一面具有將各外部電極之環繞部之間覆蓋之介電層之情形時,亦可減小因各外部電極之環繞部與介電層之間之間隙導致耐濕性下降之擔憂之積層陶瓷電容。 積層陶瓷電容10具有輔助介電層11d,該輔助介電層11d係以與該第1基底導體膜11c各者之間空出間隙CL之方式覆蓋電容元件11'之高度方向兩面各自之2個第1基底導體膜11c之間。各外部電極12及13具有第2基底導體膜12a及13a、及表面導體膜12b及13b,且各表面導體膜12b及13b之環繞部位12b1及13b1具有嵌入至上述間隙CL之插入部12b2及13b2。
    • 本发明系提供一种即便于电容本体于其至少高度方向一面具有将各外部电极之环绕部之间覆盖之介电层之情形时,亦可减小因各外部电极之环绕部与介电层之间之间隙导致耐湿性下降之担忧之积层陶瓷电容。 积层陶瓷电容10具有辅助介电层11d,该辅助介电层11d系以与该第1基底导体膜11c各者之间空出间隙CL之方式覆盖电容组件11'之高度方向两面各自之2个第1基底导体膜11c之间。各外部电极12及13具有第2基底导体膜12a及13a、及表面导体膜12b及13b,且各表面导体膜12b及13b之环绕部位12b1及13b1具有嵌入至上述间隙CL之插入部12b2及13b2。