专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW202010712A 電氣式脫離子裝置，超純水製造系統及超純水製造方法审中-公开
简体标题：电气式脱离子设备，超纯水制造系统及超纯水制造方法
公开(公告)号：TW202010712A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108119447
申请日：2019-06-05
申请人：日商野村微科學股份有限公司 , NOMURA MICRO SCIENCE CO., LTD.
发明人：渡辺祥生 , WATANABE, YOSHIKI
IPC分类号： C02F1/469 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F9/06 , C02F103/04
摘要：提供一種能夠使硼除去性能及離子成分的除去效率提升之電氣式脫離子裝置及使用其之超純水製造系統以及超純水製造方法。一種電氣式脱離子裝置，係具有：電氣式脫離子堆疊(stack)，其具有具陽極之陽極室、及具陰極之陰極室、及在前述陽極室與前述陰極室之間交互配置之複數個陰離子交換膜及陽離子交換膜、及在前述複數個陰離子交換膜及前述陽離子交換膜之間交互形成之濃縮室及脫鹽室、及充填於前述脫鹽室內之離子交換體；及用來對前述電氣式脫離子堆疊施加電壓之陽極及陰極；及電源裝置，對前述陽極與前述陰極之間施加直流電壓；之電氣式脱離子裝置，前述電源裝置供給之直流電壓，當將規定期間的最大電壓訂為Vmax，最小電壓訂為Vmin時，滿足關係式：(Vmax-Vmin)/(Vmax+Vmin)≦0.3。
简体摘要：提供一种能够使硼除去性能及离子成分的除去效率提升之电气式脱离子设备及使用其之超纯水制造系统以及超纯水制造方法。一种电气式脱离子设备，系具有：电气式脱离子堆栈(stack)，其具有具阳极之阳极室、及具阴极之阴极室、及在前述阳极室与前述阴极室之间交互配置之复数个阴离子交换膜及阳离子交换膜、及在前述复数个阴离子交换膜及前述阳离子交换膜之间交互形成之浓缩室及脱盐室、及充填于前述脱盐室内之离子交换体；及用来对前述电气式脱离子堆栈施加电压之阳极及阴极；及电源设备，对前述阳极与前述阴极之间施加直流电压；之电气式脱离子设备，前述电源设备供给之直流电压，当将规定期间的最大电压订为Vmax，最小电压订为Vmin时，满足关系式：(Vmax-Vmin)/(Vmax+Vmin)≦0.3。

2. 发明专利

TW201946878A 超純水之製造方法、超純水製造系統及離子交換體充填模組审中-公开
简体标题：超纯水之制造方法、超纯水制造系统及离子交换体充填模块
公开(公告)号：TW201946878A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108117012
申请日：2019-05-17
申请人：日商奧璐佳瑙股份有限公司 , ORGANO CORPORATION
发明人：蔦野恭平 , TSUTANO, KYOHEI , 高田仁 , TAKADA, HITOSHI
IPC分类号： C02F1/42 , B01J47/022 , B01J47/028 , C02F103/04
摘要：一種超純水之製造方法，用於藉由超純水製造裝置處理超純水製造用原料水並將製得之超純水供給至使用點，其特徵為該超純水製造用原料水含有B、As、Al、Ti、Cr、Fe、Cu、Zn、Sn、V、Ga及Pb中之至少1種以上元素，且在該超純水製造裝置之處理路徑中或在由該超純水製造裝置到該使用點之傳送路徑中，設置至少充填了單塊狀有機多孔質陰離子交換體之離子交換體充填模組，並將被處理水通入該離子交換體充填模組進行處理。依據本發明，可提供一種使用至少含有B、As、Al、Ti、Cr、Fe、Cu、Zn、Sn、及Sb中之任1種以上元素的超純水製造用原料水作為超純水製造用原料水，製造半導體製程用之超純水的方法。
简体摘要：一种超纯水之制造方法，用于借由超纯水制造设备处理超纯水制造用原料水并将制得之超纯水供给至使用点，其特征为该超纯水制造用原料水含有B、As、Al、Ti、Cr、Fe、Cu、Zn、Sn、V、Ga及Pb中之至少1种以上元素，且在该超纯水制造设备之处理路径中或在由该超纯水制造设备到该使用点之发送路径中，设置至少充填了单块状有机多孔质阴离子交换体之离子交换体充填模块，并将被处理水通入该离子交换体充填模块进行处理。依据本发明，可提供一种使用至少含有B、As、Al、Ti、Cr、Fe、Cu、Zn、Sn、及Sb中之任1种以上元素的超纯水制造用原料水作为超纯水制造用原料水，制造半导体制程用之超纯水的方法。

3. 发明专利

TW201821375A 超純水製造裝置及超純水製造裝置的運轉方法审中-公开
简体标题：超纯水制造设备及超纯水制造设备的运转方法
公开(公告)号：TW201821375A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106131337
申请日：2017-09-13
申请人：日商栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：港康晴 , MINATO, YASUHARU , 中馬高明 , CHUUMAN, TAKAAKI
IPC分类号： C02F1/72 , B01J23/42 , B01J23/44 , C02F1/42 , C02F1/46 , C02F103/04
摘要：超純水製造裝置1包括前處理裝置2與一次純水製造裝置3及子系統4。一次純水製造裝置3具有槽5、紫外線氧化裝置6、鉑族金屬觸媒樹脂塔7、再生型離子交換裝置8、以及膜式脫氣裝置9。子系統4包括子槽11、對自該子槽11補給的一次純水進行處理的紫外線氧化裝置12、鉑族金屬觸媒樹脂塔13、膜式脫氣裝置14、非再生型混床式離子交換裝置15、以及超濾（UF）膜16。鉑族金屬觸媒樹脂為於載體樹脂上擔載鉑族金屬而成者，較佳為特別是於載體樹脂上擔載鉑族金屬的奈米級粒徑的粒子而成者。根據所述超純水製造裝置1，藉由於子系統4具有紫外線氧化裝置12與鉑族金屬觸媒樹脂塔13，可抑制過氧化氫去除能力的降低。
简体摘要：超纯水制造设备1包括前处理设备2与一次纯水制造设备3及子系统4。一次纯水制造设备3具有槽5、紫外线氧化设备6、铂族金属触媒树脂塔7、再生型离子交换设备8、以及膜式脱气设备9。子系统4包括子槽11、对自该子槽11补给的一次纯水进行处理的紫外线氧化设备12、铂族金属触媒树脂塔13、膜式脱气设备14、非再生型混床式离子交换设备15、以及超滤（UF）膜16。铂族金属触媒树脂为于载体树脂上担载铂族金属而成者，较佳为特别是于载体树脂上担载铂族金属的奈米级粒径的粒子而成者。根据所述超纯水制造设备1，借由于子系统4具有紫外线氧化设备12与铂族金属触媒树脂塔13，可抑制过氧化氢去除能力的降低。

4. 发明专利

TWI620717B 特別用於獲得超純度水之水處理有权
简体标题：特别用于获得超纯度水之水处理
公开(公告)号：TWI620717B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW102142171
申请日：2013-11-20
申请人：沃威沃盧森堡私人有限責任公司 , OVIVO LUXEMBOURG S. A. R. L.
发明人：基恩斯貝特多米尼克 , GENSBITTEL, DOMINIQUE
IPC分类号： C02F1/42 , B01J41/04 , C02F101/10 , C02F103/04
CPC分类号： C02F1/42 , B01D15/363 , B01J41/05 , B01J47/022 , B01J49/07 , B01J49/85 , C02F2001/422 , C02F2101/10 , C02F2101/108 , C02F2103/04 , C02F2301/08 , C02F2303/16

5. 发明专利

TWI568688B 水處理方法以及超純水製造方法有权
简体标题：水处理方法以及超纯水制造方法
公开(公告)号：TWI568688B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW100107357
申请日：2011-03-04
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：新井伸說 , ARAI, NOBUKAZU , 育野望 , IKUNO, NOZOMU
IPC分类号： C02F9/14 , C02F1/72 , C02F1/70 , C02F103/04
CPC分类号： C02F9/00 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/4695 , C02F1/70 , C02F1/76 , C02F1/766 , C02F3/06 , C02F3/302 , C02F3/308 , C02F2101/38 , C02F2103/04 , C02F2103/06 , C02F2303/185 , C02F2303/20 , C02F2305/06 , Y02W10/15

6. 发明专利

TWI490171B 用於純化及分配水且具有消除細菌污染之分離障壁之系統及裝置有权
简体标题：用于纯化及分配水且具有消除细菌污染之分离障壁之系统及设备
公开(公告)号：TWI490171B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW101122543
申请日：2012-06-22
申请人： EMD明尼玻公司 , EMD MILLIPORE CORPORATION
发明人：蓋格納特依夫斯 , GAIGNET, YVES , 梅爾帝迪爾 , MEYER, DIDIER , 波爾裘莉安 , BOLE, JULIEN
IPC分类号： C02F1/32 , C02F1/28 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F103/04
CPC分类号： C02F1/32 , C02F1/44 , C02F9/005

7. 发明专利

TWI433715B 中空絲膜模組及使用其之過濾方法、以及超純水製造系統有权
简体标题：中空丝膜模块及使用其之过滤方法、以及超纯水制造系统
公开(公告)号：TWI433715B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100135344
申请日：2011-09-29
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：石橋讓 , ISHIBASHI, YUZURU , 中田秀一 , NAKATA, SHUICHI , 谷口超 , TANIGUCHI, TOHRU
IPC分类号： B01D61/18 , B01D61/22 , B01D69/08 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F103/04
CPC分类号： C02F1/44 , B01D63/02 , B01D65/003 , B01D2313/04 , C02F2103/026 , C02F2103/04

8. 发明专利

TWI664149B 重氫低減之水的製造方法、重水與輕水的分離方法以及重氫濃縮水的製造方法有权
简体标题：重氢低减之水的制造方法、重水与轻水的分离方法以及重氢浓缩水的制造方法
公开(公告)号：TWI664149B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW104127130
申请日：2015-08-20
申请人：國立大學法人信州大學 , SHINSHU UNIVERSITY , 日商壽通商股份有限公司 , KOTOBUKI TSUSHOU CO., LTD.
发明人：金子克美 , KANEKO, KATSUMI , 高城壽雄 , TAKAGI, TOSHIO , 村田克之 , MURATA, KATSUYUKI
IPC分类号： C02F1/28 , B01D59/26 , C01B5/02 , C02F103/04

9. 发明专利

TW201735978A 離子交換裝置及其使用方法审中-公开
简体标题：离子交换设备及其使用方法
公开(公告)号：TW201735978A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106108823
申请日：2017-03-17
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：宮崎洋一 , MIYAZAKI, YOICHI , 飯野秀章 , IINO, HIDEAKI , 深澤直樹 , FUKASAWA, NAOKI
IPC分类号： B01D15/04 , B01J47/026 , C02F1/42 , C02F103/04
CPC分类号： B01J47/022 , B01J47/028 , B01J49/08 , C02F1/42
摘要：本發明提供一種為設置面積少即可的精簡尺寸、原水處理能力大且可有效率地進行離子交換樹脂的再生的裝置。本發明使用離子交換裝置，所述離子交換裝置包括陰離子交換槽、陽離子交換槽、及塔體側部，藉由在陰離子交換槽及陽離子交換槽之外引繞的連通單元而陰離子交換槽與陽離子交換槽連通，具備用以對陰離子交換槽的上部及下部供給或排出液體的供給排出配管及用以對所述陽離子交換槽的上部及下部供給或排出液體的供給排出配管，在平板配置著供水透過而阻止離子交換樹脂的通過的水收集輸送構件，上部供給排出配管、第1連通配管、第2連通配管及下部供給排出配管的末端分別連接於所述水收集輸送構件。
简体摘要：本发明提供一种为设置面积少即可的精简尺寸、原水处理能力大且可有效率地进行离子交换树脂的再生的设备。本发明使用离子交换设备，所述离子交换设备包括阴离子交换槽、阳离子交换槽、及塔体侧部，借由在阴离子交换槽及阳离子交换槽之外引绕的连通单元而阴离子交换槽与阳离子交换槽连通，具备用以对阴离子交换槽的上部及下部供给或排出液体的供给排出配管及用以对所述阳离子交换槽的上部及下部供给或排出液体的供给排出配管，在平板配置着供水透过而阻止离子交换树脂的通过的水收集输送构件，上部供给排出配管、第1连通配管、第2连通配管及下部供给排出配管的末端分别连接于所述水收集输送构件。

10. 发明专利

TWI592207B 超純水製造裝置有权
简体标题：超纯水制造设备
公开(公告)号：TWI592207B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW101126270
申请日：2012-07-20
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：育野望 , IKUNO, NOZOMU
IPC分类号： B01D61/08 , C02F1/44 , C02F103/04

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式