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1. 发明专利

TWI423079B 輸入裝置、操作方法及光學反射板模組有权
简体标题：输入设备、操作方法及光学反射板模块
公开(公告)号：TWI423079B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW099126475
申请日：2010-08-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：藍永松 , LAN, YUNG SUNG , 鄭坤銓 , CHENG, KUEN CHIUAN
IPC分类号： G06F3/033 , G06F3/042
CPC分类号： G06F3/03548

2. 发明专利

TWI416275B 曝光系統及其調校方法有权
简体标题：曝光系统及其调校方法
公开(公告)号：TWI416275B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW099119091
申请日：2010-06-11
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：黃俊傑 , HUANG, JUNEJEI , 李源欽 , LEE, YUAN CHIN , 楊錦添 , YANG, CHIN TIEN , 鄭坤銓 , CHENG, KUEN CHIUAN , 陳順成 , CHEN, SHUEN CHEN , 陳志宇 , CHEN, CHIH YU
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/16 , G03B27/54 , G03B27/72 , G03F7/70383

3. 发明专利

TWI456254B 螢光顯微影像系統有权
简体标题：萤光显微影像系统
公开(公告)号：TWI456254B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW099116015
申请日：2010-05-19
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：巫秉融 , WU, PING JUNG , 鄭坤銓 , CHENG, KUEN CHIUAN , 余興政 , YU, HSING CHENG , 朱朝居 , JU, JAU JIU , 黃俊傑 , HUANG, CHUN CHIEH , 李源欽 , LEE, YUAN CHIN
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/16 , G02B21/245

4. 发明专利

TW201032875A 力回饋裝置與具有該力回饋裝置之互動系統 IMPACT FORCE FEEDBACK DEVICE AND INTERACTIVE SYSTEM USING THE SAME 审中-公开
简体标题：力回馈设备与具有该力回馈设备之交互系统 IMPACT FORCE FEEDBACK DEVICE AND INTERACTIVE SYSTEM USING THE SAME
公开(公告)号：TW201032875A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW098107520
申请日：2009-03-09
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：鄭坤銓 , 陳宏岳 , 陳柏璋 , 張啟伸 , 王群元
IPC分类号： A63F , G06F
CPC分类号： H02K33/16 , G06F3/016 , H01F7/066 , H01F7/1615 , H02K41/0356
摘要：一種衝擊式力回饋裝置與系統，可產生較大的撞擊式力回饋，能提供人們更真實的力回饋感受。此衝擊式力回饋裝置包含一基座、一磁鐵以及至少一致動器總成。此基座用以承載致動器總成。上述的致動器總成至少包括一導軌裝置、一質量塊與一組線圈。導軌裝置固定於基座上。質量塊以可滑動方式固定於導軌裝置上。此組線圈用以通入電流產生電場，其中利用通電於線圈方向正交於磁場產生電磁力，而施力於質量塊，以使質量塊在導軌裝置上運動並撞擊基座，產生單方向衝擊式力回饋。
简体摘要：一种冲击式力回馈设备与系统，可产生较大的撞击式力回馈，能提供人们更真实的力回馈感受。此冲击式力回馈设备包含一基座、一磁铁以及至少一致动器总成。此基座用以承载致动器总成。上述的致动器总成至少包括一导轨设备、一质量块与一组线圈。导轨设备固定于基座上。质量块以可滑动方式固定于导轨设备上。此组线圈用以通入电流产生电场，其中利用通电于线圈方向正交于磁场产生电磁力，而施力于质量块，以使质量块在导轨设备上运动并撞击基座，产生单方向冲击式力回馈。

5. 发明专利

TW201144945A 曝光系統及其調校方法 EXPOSURE SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：曝光系统及其调校方法 EXPOSURE SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201144945A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW099119091
申请日：2010-06-11
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：黃俊傑 , 李源欽 , 楊錦添 , 鄭坤銓 , 陳順成 , 陳志宇
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/16 , G03B27/54 , G03B27/72 , G03F7/70383
摘要：一種曝光系統,包括一第一雷射光源、一第二雷射光源、一聚焦模組、一像散產生元件及一光偵測器。第一雷射光源適於發出一第一雷射光束,第二雷射光源適於發出一第二雷射光束。聚焦模組包括一聚光單元,配置於第一雷射光束與第二雷射光束的傳遞路徑上,以將第一雷射光束與第二雷射光束投射於一材料。至少部分第一雷射光束反射成一第一反射光束。聚光單元與像散產生元件配置於第一反射光束的傳遞路徑上。光偵測器配置於來自像散產生元件的第一反射光束之傳遞路徑上,且與聚焦模組電性連接。一種曝光系統的調校方法亦被提出。
简体摘要：一种曝光系统,包括一第一激光光源、一第二激光光源、一聚焦模块、一像散产生组件及一光侦测器。第一激光光源适于发出一第一激光光束,第二激光光源适于发出一第二激光光束。聚焦模块包括一聚光单元,配置于第一激光光束与第二激光光束的传递路径上,以将第一激光光束与第二激光光束投射于一材料。至少部分第一激光光束反射成一第一反射光束。聚光单元与像散产生组件配置于第一反射光束的传递路径上。光侦测器配置于来自像散产生组件的第一反射光束之传递路径上,且与聚焦模块电性连接。一种曝光系统的调校方法亦被提出。

6. 发明专利

TW201009525A 雷射刻錄方法及系統 LASER MARKING METHOD AND LASER MARKING SYSTEM 审中-公开
简体标题：激光刻录方法及系统 LASER MARKING METHOD AND LASER MARKING SYSTEM
公开(公告)号：TW201009525A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW097131475
申请日：2008-08-18
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：柯朝元 , 黃俊傑 , 李源欽 , 鄭坤銓
IPC分类号： G05D
CPC分类号： B23K26/0673 , B23K26/0087 , B23K26/046 , B23K26/0853 , B23K26/40 , B23K2201/35
摘要：一種雷射刻錄方法及系統。雷射刻錄方法包括以下步驟：提供一基板，基板已刻錄至少M條刻錄線，M係為大於或等於1的整數。提供一雷射光束。將雷射光束分為至少兩道子雷射光束，此些子雷射光束包含一第一子雷射光束及一第二子雷射光束。將第二子雷射光束對準於第N-M條刻錄線，並以第一子雷射光束刻錄一第N條刻錄線，N為大於或等於M的整數。
简体摘要：一种激光刻录方法及系统。激光刻录方法包括以下步骤：提供一基板，基板已刻录至少M条刻录线，M系为大于或等于1的整数。提供一激光光束。将激光光束分为至少两道子激光光束，此些子激光光束包含一第一子激光光束及一第二子激光光束。将第二子激光光束对准于第N-M条刻录线，并以第一子激光光束刻录一第N条刻录线，N为大于或等于M的整数。

7. 发明专利

TWI369232B 力回饋裝置與具有該力回饋裝置之互動系統 IMPACT FORCE FEEDBACK DEVICE AND INTERACTIVE SYSTEM USING THE SAME 有权
简体标题：力回馈设备与具有该力回馈设备之交互系统 IMPACT FORCE FEEDBACK DEVICE AND INTERACTIVE SYSTEM USING THE SAME
公开(公告)号：TWI369232B
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW098107520
申请日：2009-03-09
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：鄭坤銓 , 陳宏岳 , 陳柏璋 , 張啟伸 , 王群元
IPC分类号： A63F , G06F
CPC分类号： H02K33/16 , G06F3/016 , H01F7/066 , H01F7/1615 , H02K41/0356
摘要：一種衝擊式力回饋裝置與系統，可產生較大的撞擊式力回饋，能提供人們更真實的力回饋感受。此衝擊式力回饋裝置包含一基座、一磁鐵以及至少一致動器總成。此基座用以承載致動器總成。上述的致動器總成至少包括一導軌裝置、一質量塊與一組線圈。導軌裝置固定於基座上。質量塊以可滑動方式固定於導軌裝置上。此組線圈用以通入電流產生電場，其中利用通電於線圈方向正交於磁場產生電磁力，而施力於質量塊，以使質量塊在導軌裝置上運動並撞擊基座，產生單方向衝擊式力回饋。
简体摘要：一种冲击式力回馈设备与系统，可产生较大的撞击式力回馈，能提供人们更真实的力回馈感受。此冲击式力回馈设备包含一基座、一磁铁以及至少一致动器总成。此基座用以承载致动器总成。上述的致动器总成至少包括一导轨设备、一质量块与一组线圈。导轨设备固定于基座上。质量块以可滑动方式固定于导轨设备上。此组线圈用以通入电流产生电场，其中利用通电于线圈方向正交于磁场产生电磁力，而施力于质量块，以使质量块在导轨设备上运动并撞击基座，产生单方向冲击式力回馈。

8. 发明专利

TW201142352A 螢光顯微影像系統 FLUORESCENCE MICRO IMAGING SYSTEM 审中-公开
简体标题：萤光显微影像系统 FLUORESCENCE MICRO IMAGING SYSTEM
公开(公告)号：TW201142352A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099116015
申请日：2010-05-19
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：巫秉融 , 鄭坤銓 , 余興政 , 朱朝居 , 黃俊傑 , 李源欽
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B21/16 , G02B21/245
摘要：一種螢光顯微影像系統，用於檢測樣品的螢光訊號，包括：一螢光偵測模組，具有一螢光激發光源產生器和一螢光偵測器，螢光激發光源產生器可以產生具有第一波長的激發光束用以激發樣品發出螢光，再利用螢光偵測器讀取樣品的螢光訊號，以及一對焦控制模組，對焦控制模組可產生具有第二波長的伺服光束，再利用配置在觀察面的伺服光束反射膜反射伺服光束，然後以對焦偵測法分析回光訊號，再利用一致動器移動物鏡進行自動對焦，使螢光激發光束能激發樣品發出螢光。
简体摘要：一种萤光显微影像系统，用于检测样品的萤光信号，包括：一萤光侦测模块，具有一萤光激发光源产生器和一萤光侦测器，萤光激发光源产生器可以产生具有第一波长的激发光束用以激发样品发出萤光，再利用萤光侦测器读采样品的萤光信号，以及一对焦控制模块，对焦控制模块可产生具有第二波长的伺服光束，再利用配置在观察面的伺服光束反射膜反射伺服光束，然后以对焦侦测法分析回光信号，再利用一致动器移动物镜进行自动对焦，使萤光激发光束能激发样品发出萤光。

9. 发明专利

TW201106209A 輸入裝置、操作方法及光學反射板模組 INPUT APPARATUS, OPERATION METHOD THEREOF AND OPTICAL REFLECTION MODULE 审中-公开
简体标题：输入设备、操作方法及光学反射板模块 INPUT APPARATUS, OPERATION METHOD THEREOF AND OPTICAL REFLECTION MODULE
公开(公告)号：TW201106209A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099126475
申请日：2010-08-09
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：藍永松 , 鄭坤銓
IPC分类号： G06F
CPC分类号： G06F3/03548
摘要：一種輸入裝置,包括一光學滑鼠模組及一滑鼠板模組。光學滑鼠模組包括一光源與一光感測器,其中光源適於發出一光束,且光感測器具有一感測距離。滑鼠板模組配置於光學滑鼠模組上。滑鼠板模組包括一滑片,其彈性地耦接至光學滑鼠模組。滑片適於在三度空間中移動。光感測器與滑片沿著一排列方向排列。當滑片被按壓至光感測器的感測距離內且在垂直於排列方向的方向上移動時,光感測器會感測到滑片相對光學滑鼠模組的移動。當滑片不被按壓時,滑片耦接至光學滑鼠模組的彈力會使滑片回復至感測距離外。一種輸入裝置的操作方法及光學反射板模組亦被提出。
简体摘要：一种输入设备,包括一光学鼠标模块及一鼠标板模块。光学鼠标模块包括一光源与一光传感器,其中光源适于发出一光束,且光传感器具有一传感距离。鼠标板模块配置于光学鼠标模块上。鼠标板模块包括一滑片,其弹性地耦接至光学鼠标模块。滑片适于在三度空间中移动。光传感器与滑片沿着一排列方向排列。当滑片被按压至光传感器的传感距离内且在垂直于排列方向的方向上移动时,光传感器会传感到滑片相对光学鼠标模块的移动。当滑片不被按压时,滑片耦接至光学鼠标模块的弹力会使滑片回复至传感距离外。一种输入设备的操作方法及光学反射板模块亦被提出。

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