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1. 发明专利

TWI413823B 影像檢查裝置有权
简体标题：影像检查设备
公开(公告)号：TWI413823B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW094145235
申请日：2005-12-20
申请人：奧林巴斯股份有限公司 , OLYMPUS CORPORATION
发明人：倉田俊輔 , KURATA, SHUNSUKE , 小室孝廣 , KOMURO, TAKAHIRO
IPC分类号： G02B7/28 , G03B13/36
CPC分类号： G02B21/245

2. 发明专利

TWI406025B 自動聚焦裝置及方法有权
简体标题：自动聚焦设备及方法
公开(公告)号：TWI406025B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW099140848
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：劉建聖 , LIU, CHIEN SHENG , 胡平浩 , HU, PIN HAO
IPC分类号： G02B7/09
CPC分类号： G02B27/16 , G02B7/36 , G02B21/245

3. 发明专利

TW201222054A 自動聚焦裝置及方法 AUTOMATIC FOCUSING APPARATUS AND METHOD 审中-公开
简体标题：自动聚焦设备及方法 AUTOMATIC FOCUSING APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW201222054A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW099140848
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：劉建聖 , 胡平浩
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B27/16 , G02B7/36 , G02B21/245
摘要：一種自動聚焦裝置及方法。此裝置包括一光源、一成像單元、一光感測器以及一對焦調整單元。成像單元包括一物鏡以及一分光鏡。分光鏡用以將反射光束分為一第一子光束以及一第二子光束。成像單元對應於第一子光束以及第二子光束分別具有不同成像精度的一第一成像光路以及一第二成像光路。光感測器用以判斷待測物的一離焦位置。對焦調整單元根據待測物的離焦位置,對待測物與物鏡的距離進行對焦並選擇成像精度,以使待測物的離焦位置依序位於第一成像光路的成像精度內及第二成像光路的成像精度內。
简体摘要：一种自动聚焦设备及方法。此设备包括一光源、一成像单元、一光传感器以及一对焦调整单元。成像单元包括一物镜以及一分光镜。分光镜用以将反射光束分为一第一子光束以及一第二子光束。成像单元对应于第一子光束以及第二子光束分别具有不同成像精度的一第一成像光路以及一第二成像光路。光传感器用以判断待测物的一离焦位置。对焦调整单元根据待测物的离焦位置,对待测物与物镜的距离进行对焦并选择成像精度,以使待测物的离焦位置依序位于第一成像光路的成像精度内及第二成像光路的成像精度内。

4. 发明专利

TW201617744A 聚焦監控之配置及包括此種配置之檢測裝置审中-公开
简体标题：聚焦监控之配置及包括此种配置之检测设备
公开(公告)号：TW201617744A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104132280
申请日：2015-09-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：席恩阿曼帝 , SINGH, AMANDEV , 皮勒曼漢瑞克皮杜斯瑪利亞 , PELLEMANS, HENRICUS PETRUS MARIA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70641 , G02B21/245 , G03F7/70616 , G03F9/7026
摘要：一種檢測裝置(300)包括一聚焦監控配置(500、500')。聚焦輻射(505)包含具有一第一波長之輻射及具有一第二波長之輻射。在每一波長下之參考輻射及聚焦輻射具備至少一相對頻移，使得在偵測系統中偵測之干涉輻射包括具有一特性頻率之一時變分量。一聚焦偵測系統(520)包含一或多個鎖定偵測器(520b、520c、900)。參考第一特性頻率及第二特性頻率兩者而操作該等鎖定偵測器會允許該配置選擇使用該第一聚焦輻射及該第二聚焦輻射中之哪一者來判定該光學系統是否焦點對準。可自不同結構之目標獲得良好品質信號。
简体摘要：一种检测设备(300)包括一聚焦监控配置(500、500')。聚焦辐射(505)包含具有一第一波长之辐射及具有一第二波长之辐射。在每一波长下之参考辐射及聚焦辐射具备至少一相对频移，使得在侦测系统中侦测之干涉辐射包括具有一特性频率之一时变分量。一聚焦侦测系统(520)包含一或多个锁定侦测器(520b、520c、900)。参考第一特性频率及第二特性频率两者而操作该等锁定侦测器会允许该配置选择使用该第一聚焦辐射及该第二聚焦辐射中之哪一者来判定该光学系统是否焦点对准。可自不同结构之目标获得良好品质信号。

5. 发明专利

TW558629B 使待檢測之平坦物件表面以平行面之方式對準至物鏡之聚焦面所用之裝置及方法有权
简体标题：使待检测之平坦对象表面以平行面之方式对准至物镜之聚焦面所用之设备及方法
公开(公告)号：TW558629B
公开(公告)日：2003-10-21
申请号：TW091121240
申请日：2002-09-17
申请人：西門斯股份有限公司
发明人：德雷夫吉哈德 , 約翰雷雀爾
IPC分类号： G01B , G01N
CPC分类号： G02B21/245 , G01N21/9501 , G02B21/24 , G02B21/241
摘要：一種使待檢測之平坦物件表面以平行面之方式對準至物鏡之聚焦面所用之裝置，其特徵為包含：一種容納該物件所用之上(upper)物件載體，其支撐在至少三個位置上，其中在此三個位置中之至少二個位置上以一種與下(lower)物件載體一起作用之定位驅動器來抓握著，一種定位在物件表面上且可相對於該物件表面而橫向運行之測量頭，其上之物鏡用來對物件表面進行檢測，物件表面藉由定位驅動器而可運行至物鏡之聚焦範圍中且進行對準。第2圖
简体摘要：一种使待检测之平坦对象表面以平行面之方式对准至物镜之聚焦面所用之设备，其特征为包含：一种容纳该对象所用之上(upper)对象载体，其支撑在至少三个位置上，其中在此三个位置中之至少二个位置上以一种与下(lower)对象载体一起作用之定位驱动器来抓握着，一种定位在对象表面上且可相对于该对象表面而横向运行之测量头，其上之物镜用来对对象表面进行检测，对象表面借由定位驱动器而可运行至物镜之聚焦范围中且进行对准。第2图

6. 发明专利

TWI571709B 聚焦監控之配置及包括此種配置之檢測裝置有权
简体标题：聚焦监控之配置及包括此种配置之检测设备
公开(公告)号：TWI571709B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW104132280
申请日：2015-09-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：席恩阿曼帝 , SINGH, AMANDEV , 皮勒曼漢瑞克皮杜斯瑪利亞 , PELLEMANS, HENRICUS PETRUS MARIA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70641 , G02B21/245 , G03F7/70616 , G03F9/7026

7. 发明专利

TW200944921A 自動對焦控制單元、電子裝置及自動對焦控制方法 AUTOMATIC FOCUS CONTROL UNIT, ELECTRONIC DEVICE AND AUTOMATIC FOCUS CONTROL METHOD 审中-公开
简体标题：自动对焦控制单元、电子设备及自动对焦控制方法 AUTOMATIC FOCUS CONTROL UNIT, ELECTRONIC DEVICE AND AUTOMATIC FOCUS CONTROL METHOD
公开(公告)号：TW200944921A
公开(公告)日：2009-11-01
申请号：TW098107013
申请日：2009-03-04
申请人：新力股份有限公司
发明人：佐藤英樹 , 星光男 , 菊地清幸 , 松木康記 , 武山宅壽
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G02B21/245 , G02B21/247
摘要：本發明揭示一種自動對焦控制單元，其包括：一第一發光元件；一線感測器；一第二發光元件；一狹縫部件；一偏移機構及一控制器。
简体摘要：本发明揭示一种自动对焦控制单元，其包括：一第一发光组件；一线传感器；一第二发光组件；一狭缝部件；一偏移机构及一控制器。

8. 发明专利

TW200632398A 追蹤式自動對焦系統 TRACKING AUTO FOCUS SYSTEM 审中-公开
简体标题：追踪式自动对焦系统 TRACKING AUTO FOCUS SYSTEM
公开(公告)号：TW200632398A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW095102281
申请日：2006-01-20
申请人：光子動力股份有限公司 PHOTON DYNAMICS, INC.
发明人：威斯亞當 WEISS, ADAM
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B21/245 , G02B7/282 , G02B7/285
摘要：一種追蹤式自動對焦系統維持一顯微鏡連續對焦指向TFT陣列，以免除所需要之自動對焦時間。該追蹤式自動對焦系統部份包含一顯微鏡Z致動器、一自動對焦感應器、一類比至數轉換器(ADC)、一信號調整器、一數位比例積分微分(PID)控制器、及一數位至類比轉換器。該致動器調整顯微鏡物鏡與目標間之距離，並部份包含一放大器、線性馬達、及一線性編碼器，其提供位置回授。自動對焦感應器與ADC及信號調整器一起連續監視並檢測於顯微鏡物鏡與目標間之距離，並供給所量測的距離給放大器。PID控制器與DAC穩定化於顯微鏡物鏡與目標間之距離，以維持最佳對焦。
简体摘要：一种追踪式自动对焦系统维持一显微镜连续对焦指向TFT数组，以免除所需要之自动对焦时间。该追踪式自动对焦系统部份包含一显微镜Z致动器、一自动对焦感应器、一模拟至数转换器(ADC)、一信号调整器、一数码比例积分微分(PID)控制器、及一数码至模拟转换器。该致动器调整显微镜物镜与目标间之距离，并部份包含一放大器、线性马达、及一线性编码器，其提供位置回授。自动对焦感应器与ADC及信号调整器一起连续监视并检测于显微镜物镜与目标间之距离，并供给所量测的距离给放大器。PID控制器与DAC稳定化于显微镜物镜与目标间之距离，以维持最佳对焦。

9. 发明专利

TW200628868A 影像檢查裝置 IMAGE INSPECTION SYSTEM FOR CORRECTING FOCAL POSITION IN AUTOFOCUSING 审中-公开
简体标题：影像检查设备 IMAGE INSPECTION SYSTEM FOR CORRECTING FOCAL POSITION IN AUTOFOCUSING
公开(公告)号：TW200628868A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094145235
申请日：2005-12-20
申请人：奧林巴斯股份有限公司 OLYMPUS CORPORATION
发明人：倉田俊輔 KURATA, SHUNSUKE , 小室孝廣 KOMURO, TAKAHIRO
IPC分类号： G02B , G03B
CPC分类号： G02B21/245
摘要：一種影像檢查裝置，係作成即使被檢查體的種類及製造程序等改變，也可將自動聚焦的聚焦位置修正到適當位置，且可提高檢查效率者。為了進行自動聚焦，藉由自聚焦位置檢測部，通過色校正機構、對物鏡，將檢測光照射於基板上，並以光檢測器檢測出其反射光的位置，來檢測出第1目標聚焦位置。另一方面，於儲存於儲存部之工作程序中，儲存使第1目標聚焦位置偏移之偏移值。然後，視前述偏移值移動色校正物鏡群的位置，以設定於第2目標聚焦位置，並對此位置驅動試料移動台。
简体摘要：一种影像检查设备，系作成即使被检查体的种类及制造进程等改变，也可将自动聚焦的聚焦位置修正到适当位置，且可提高检查效率者。为了进行自动聚焦，借由自聚焦位置检测部，通过色校正机构、对物镜，将检测光照射于基板上，并以光检测器检测出其反射光的位置，来检测出第1目标聚焦位置。另一方面，于存储于存储部之工作进程中，存储使第1目标聚焦位置偏移之偏移值。然后，视前述偏移值移动色校正物镜群的位置，以设置于第2目标聚焦位置，并对此位置驱动试料移动台。

10. 发明专利

TWI456254B 螢光顯微影像系統有权
简体标题：萤光显微影像系统
公开(公告)号：TWI456254B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW099116015
申请日：2010-05-19
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：巫秉融 , WU, PING JUNG , 鄭坤銓 , CHENG, KUEN CHIUAN , 余興政 , YU, HSING CHENG , 朱朝居 , JU, JAU JIU , 黃俊傑 , HUANG, CHUN CHIEH , 李源欽 , LEE, YUAN CHIN
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/16 , G02B21/245

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