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1. 发明专利

TW201836002A 基板處理裝置以及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201836002A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107107976
申请日：2018-03-09
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/00
摘要：基板處理裝置包括：液體處理單元，在處理室內對基板的表面供給處理液，在基板的表面上形成處理液膜；固化單元，在固化室內使所述處理液膜固化而在所述基板的表面上形成固化膜；去除處理單元，在去除室內將用以去除所述固化膜的去除液供給至所述基板的表面；主搬運單元，向所述處理室搬入基板，自所述去除室搬出基板；以及局部搬運單元，自所述處理室搬出基板並向所述固化室搬入基板。
简体摘要：基板处理设备包括：液体处理单元，在处理室内对基板的表面供给处理液，在基板的表面上形成处理液膜；固化单元，在固化室内使所述处理液膜固化而在所述基板的表面上形成固化膜；去除处理单元，在去除室内将用以去除所述固化膜的去除液供给至所述基板的表面；主搬运单元，向所述处理室搬入基板，自所述去除室搬出基板；以及局部搬运单元，自所述处理室搬出基板并向所述固化室搬入基板。

2. 发明专利

TWI686856B 基板處理裝置以及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI686856B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107106069
申请日：2018-02-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：太田喬 , OTA, TAKASHI , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/304

3. 发明专利

TW201841688A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201841688A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107100660
申请日：2018-01-08
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C21/00
摘要：一種基板處理裝置係包含：塗布膜形成單元，係具有塗布室，且在前述塗布室內部對基板之表面塗布表面張力比水更小的低表面張力液體以形成塗布膜；昇華單元，係具有昇華室，且在前述昇華室內部使形成於前述基板之表面的塗布膜昇華；減壓手段，係將前述昇華室內部減壓至比大氣壓更低的壓力；主搬運手段，係將基板搬入至前述塗布室；局部搬運手段，係從前述塗布室往前述昇華室搬運基板；以及塗布膜狀態保持手段，用以在前述局部搬運手段從前述塗布室往前述昇華室搬運前述基板的期間保持前述塗布膜之狀態。
简体摘要：一种基板处理设备系包含：涂布膜形成单元，系具有涂布室，且在前述涂布室内部对基板之表面涂布表面张力比水更小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，系具有升华室，且在前述升华室内部使形成于前述基板之表面的涂布膜升华；减压手段，系将前述升华室内部减压至比大气压更低的压力；主搬运手段，系将基板搬入至前述涂布室；局部搬运手段，系从前述涂布室往前述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持手段，用以在前述局部搬运手段从前述涂布室往前述升华室搬运前述基板的期间保持前述涂布膜之状态。

4. 发明专利

TWI686244B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI686244B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107100660
申请日：2018-01-08
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C21/00

5. 发明专利

TW201836000A 基板處理裝置以及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201836000A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107106069
申请日：2018-02-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：太田喬 , OTA, TAKASHI , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/304
摘要：基板處理裝置包括：液體處理單元，在處理室內將處理液供給至基板的表面；乾燥單元，在乾燥室內使基板表面的處理液乾燥；主搬運單元，將基板搬入至所述處理室；本地搬運單元，自所述處理室將基板搬運至所述乾燥室；以及防乾燥流體供給單元，在利用所述本地搬運單元搬運基板的期間，將防止所述基板表面的處理液的乾燥的防乾燥流體供給至所述基板表面。
简体摘要：基板处理设备包括：液体处理单元，在处理室内将处理液供给至基板的表面；干燥单元，在干燥室内使基板表面的处理液干燥；主搬运单元，将基板搬入至所述处理室；本地搬运单元，自所述处理室将基板搬运至所述干燥室；以及防干燥流体供给单元，在利用所述本地搬运单元搬运基板的期间，将防止所述基板表面的处理液的干燥的防干燥流体供给至所述基板表面。

6. 发明专利

TWI574896B 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置有权
简体标题：基板收纳容器、装载端口设备及基板处理设备
公开(公告)号：TWI574896B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW104128368
申请日：2015-08-28
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：本莊一大 , HONSHO, KAZUHIRO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 波多野章人 , HATANO, AKITO , 橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI
IPC分类号： B65D85/86 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67309 , B65D43/0202 , B65D85/30 , H01L21/67369 , H01L21/67373 , H01L21/67383 , H01L21/67393 , H01L21/67772

7. 发明专利

TW201620808A 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板收纳容器、装载端口设备及基板处理设备
公开(公告)号：TW201620808A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104128366
申请日：2015-08-28
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：波多野章人 , HATANO, AKITO , 橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI , 本莊一大 , HONSHO, KAZUHIRO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU
IPC分类号： B65G49/06 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67383 , H01L21/67346 , H01L21/67369 , H01L21/67772
摘要：本發明之基板收納容器，其具備有：框體、架構件、支撐基板之端部之框體用支撐構件、使基板移動之移動機構、蓋、及支撐基板之端部之蓋用支撐構件。框體用支撐構件具有不能使基板W之端部朝上方移動地支撐該基板W之端部之最裡部。在蓋被裝接於框體之狀態下，框體用支撐構件與蓋用支撐構件，係以基板之下表面不與架構件接觸之狀態挾持基板之端部，且框體用支撐構件係以最裡部支撐基板之端部。當蓋自框體脫離時，移動機構係使由最裡部所支撐之基板移動，將基板之端部自最裡部卸除，而使基板以大致水平姿勢被載置於架構件。
简体摘要：本发明之基板收纳容器，其具备有：框体、架构件、支撑基板之端部之框体用支撑构件、使基板移动之移动机构、盖、及支撑基板之端部之盖用支撑构件。框体用支撑构件具有不能使基板W之端部朝上方移动地支撑该基板W之端部之最里部。在盖被装接于框体之状态下，框体用支撑构件与盖用支撑构件，系以基板之下表面不与架构件接触之状态挟持基板之端部，且框体用支撑构件系以最里部支撑基板之端部。当盖自框体脱离时，移动机构系使由最里部所支撑之基板移动，将基板之端部自最里部卸除，而使基板以大致水平姿势被载置于架构件。

8. 发明专利

TWI574903B 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置有权
简体标题：基板收纳容器、装载端口设备及基板处理设备
公开(公告)号：TWI574903B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW104128366
申请日：2015-08-28
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：波多野章人 , HATANO, AKITO , 橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI , 本莊一大 , HONSHO, KAZUHIRO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU
IPC分类号： B65G49/06 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67383 , H01L21/67346 , H01L21/67369 , H01L21/67772

9. 发明专利

TWI600476B 洗淨用治具、洗淨用治具組、洗淨用基板、洗淨方法及基板處理裝置有权
简体标题：洗净用治具、洗净用治具组、洗净用基板、洗净方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI600476B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW103127831
申请日：2014-08-13
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：吉住明日香 , YOSHIZUMI, ASUKA , 樋口鮎美 , HIGUCHI, AYUMI , 本庄一大 , HONSHO, KAZUHIRO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU , 島野達矢 , SHIMANO, TATSUYA , 二木哲也 , FUTATSUGI, TETSUYA
IPC分类号： B08B3/04 , B08B11/02
CPC分类号： H01L21/67051

10. 发明专利

TW201705249A 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理系统以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201705249A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105103499
申请日：2016-02-03
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：村元僚 , MURAMOTO, RYO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：頂板係於第一位置中被對向構件保持部保持，並於第二位置中被基板保持部保持且與基板保持部一起旋轉。在基板處理裝置中，控制部係控制第一處理液供給部、第二處理液供給部以及噴嘴移動機構，藉此第一處理液噴嘴係在位於頂板的被保持部內的供給位置的狀態下經由對向構件開口將第一處理液供給至基板，且第一處理液噴嘴係從供給位置移動至退避位置。並且，第二處理液噴嘴係從退避位置移動至供給位置，並經由對向構件開口將第二處理液供給至基板。如此，與從一個處理液噴嘴依序供給複數種類的處理液的情形相比，能抑制或防止複數種類的處理液的混液。
简体摘要：顶板系于第一位置中被对向构件保持部保持，并于第二位置中被基板保持部保持且与基板保持部一起旋转。在基板处理设备中，控制部系控制第一处理液供给部、第二处理液供给部以及喷嘴移动机构，借此第一处理液喷嘴系在位于顶板的被保持部内的供给位置的状态下经由对向构件开口将第一处理液供给至基板，且第一处理液喷嘴系从供给位置移动至退避位置。并且，第二处理液喷嘴系从退避位置移动至供给位置，并经由对向构件开口将第二处理液供给至基板。如此，与从一个处理液喷嘴依序供给复数种类的处理液的情形相比，能抑制或防止复数种类的处理液的混液。

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