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1. 发明公开

KR1020090023361A 레이저 삭마 레지스트 无效
标题翻译：激光消除阻力
公开(公告)号：KR1020090023361A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：KR1020087029039
申请日：2007-05-15
申请人： 이스트맨 코닥 캄파니
发明人： 필립스스콧트이 , 트레드웰티모씨존 , 튜트리더블유 , 피어스글렌토마스 , 느구엔켈빈 , 웩슬러로날드마이론
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/00 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , G03F7/202 , B82Y40/00 , G03F7/095
摘要： A method of making micro-structure devices by coating a first layer of resist (12) on a substrate (10). A pattern is created on the substrate by radiation induced thermal removal of the resist.
摘要翻译：一种通过在基板（10）上涂覆第一抗蚀剂层（12）来制造微结构器件的方法。通过抗蚀剂的辐射诱导热去除在衬底上产生图案。

2. 发明授权

KR100853969B1 이미징 시스템 有权
标题翻译：成像系统
公开(公告)号：KR100853969B1
公开(公告)日：2008-08-25
申请号：KR1020057016135
申请日：2004-02-27
申请人： 징크 이메징, 엘엘씨
发明人： 추피터케이 , 류치엔 , 텔퍼스티븐제이
IPC分类号： B41M5/26 , B41M5/28
CPC分类号： B41M5/385 , B41M5/1455 , B41M5/284 , B41M5/3275 , B41M5/34 , C07D311/02 , C07D493/10 , C09B11/24 , C09B67/006 , Y10S430/145 , Y10S430/146
摘要： 결정질 형태의 화학 화합물이 적어도 부분적으로, 그리고 바람직하게 실질적으로 완전히 또는 완전히 비정질 형태의 액체로 변환되며, 액체는 본질적으로 결정질 형태와 다른 색상을 갖는 이미징 부재를 개시한다. 또한, 이미징 부재를 이용하는 이미징 방법이 개시된다. 결정질 형태로부터 액체 형태로의 변환은 열에너지의 인가에 의해 또는 다른 이미징 기술에 의해 달성될 수 있다.
열 이미징 부재, 열 이미징 방법
摘要翻译：晶体形式的化合物至少部分并且优选基本上完全或完全以无定形形式转化为液体，并且液体基本上公开了具有与晶体形式不同的颜色的成像元件。还公开了使用成像构件的成像方法。从结晶形式向液体形式的转换可以通过应用热能或通过其他成像技术来完成。

3. 发明授权

KR100616056B1 전계방출형 표시장치용 전극 형성 조성물 및 이러한조성물의 사용 방법 失效
标题翻译：用于场发射型显示装置的电极形成组合物和使用这种组合物的方法
公开(公告)号：KR100616056B1
公开(公告)日：2006-08-28
申请号：KR1020040009515
申请日：2004-02-13
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 하야까와,게이이찌로
IPC分类号： H01B1/02
CPC分类号： G03F7/0047 , H01J9/025 , Y10S430/101 , Y10S430/102 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , Y10S430/151
摘要： 본 발명은 전계방출형 표시장치에 사용되는 전극을 형성하는데 사용되는 조성물 및 그 방법에 관한 것으로, 이 조성물은 (a) 구리 분말 100중량％를 기준으로 입자 크기 0.2 내지 3㎛의 구리 분말 70중량％ 이상 및 (b) 구리 분말 100중량％를 기준으로, 연화점 380 내지 580℃의 무기 결합제 1 내지 40중량％를 함유하는 혼합물을 포함하고, 상기 혼합물이 (c) 유기 중합체 결합제, (d) 광개시제, (e) 광경화성 단량체, 및 유기 용매를 포함하는 유기 부형제에 분산되어 있고, 환원 분위기하에 450 내지 600℃의 온도에서 소성가능한 감광성 구리 전도성 조성물이다.
전계방출, 표시장치, 게이트 전극, 감광성, 구리, 니켈, 무기 결합제, 중합체, 광개시제, 광경화성, 소결, 전소, 유리 기판, 베이스층

4. 发明公开

KR1020040012609A 개별적인 도펀트 층을 포함하는 레이저 열 전달 공여체 및 공여체를 사용하는 방법 有权
标题翻译：激光热转移元件，包括单独的多晶硅层
公开(公告)号：KR1020040012609A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：KR1020030053606
申请日：2003-08-02
申请人： 글로벌 오엘이디 테크놀러지 엘엘씨
发明人： 투트리윌리암 , 컬버마이론윌리암 , 탕칭완
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/28 , B41M5/265 , B41M2205/02 , C09K11/06 , C09K2211/1011 , C09K2211/1029 , C09K2211/1033 , C09K2211/1044 , C09K2211/182 , C09K2211/185 , C23C14/048 , C23C14/12 , H01L51/0013 , H01L51/0052 , H01L51/0059 , H01L51/0062 , H01L51/0084 , H01L51/0085 , H01L51/0089 , H01L51/56 , H05B33/10 , H05B33/22 , Y10S430/145 , Y10S430/146
摘要： PURPOSE: Provided is a donor element adapted for use in making an OLED(Organic Light-Emitting Diode) device. CONSTITUTION: A donor element(10) comprises a donor support element(14), a light-absorbing layer(16) disposed on the donor support element, which produces heat in response to light, a host material layer(18) disposed on the light-absorbing layer, and a dopant layer so disposed on the host material layer. When the donor element is disposed in a transfer relationship with the organic light-emitting diode device and when light is absorbed by the light-absorbing layer(16), heat is produced from the light-absorbing layer to cause vaporization transfer of a host material and a dopant material, thereby causing at least partial mixing in the organic light emitting diode device.
摘要翻译：目的：提供适用于制造OLED（有机发光二极管）器件的施主元件。构成：施主元件（10）包括供体支撑元件（14），设置在供体支撑元件上的光吸收层（16），其响应于光而产生热量;主体材料层（18）光吸收层和如此设置在主体材料层上的掺杂剂层。当施主元件与有机发光二极管器件以转印关系设置时，并且当光被光吸收层（16）吸收时，从光吸收层产生热量以引起主体材料的蒸发转移和掺杂剂材料，从而在有机发光二极管器件中引起至少部分混合。

5. 发明授权

KR100218768B1 포토레지스트조성물 및 포토레지스트의 노광방법 失效
标题翻译：光电组合物和曝光光电子的方法
公开(公告)号：KR100218768B1
公开(公告)日：1999-09-01
申请号：KR1019920019300
申请日：1992-10-21
申请人： 소니 주식회사
发明人： 오쓰까요이찌
IPC分类号： H01L21/27
CPC分类号： G03F7/70583 , G03F7/091 , Y10S430/145
摘要： 적외흡수염료를 함유하는 포토레지스트조성물로 함으로써, 및 포토레지스트의 노광에 있어서, 적외광(31)에 의해 퍼커스를 정하고, 또한 그 포토레지스트로서, 적외흡수염료를 함유하는 포토레지스트를 사용하는 노광방법으로 함으로써, 2차 반사등에 의해 포커스검출계가 영향을 받지 않고, 즉 기판(1a), (1b)이 적외선반사성에서도 적외선투과성에서도 거기서 투과 또는 반사한 광에 의해 포커스검출계가 영향을 받지 않으며, 따라서 정밀도가 양호한 포커스검출에 의해 양호한 레지스트패턴을 형성할 수 있는 구성으로 하였다.

6. 发明公开

KR1020130014554A 로우 ｋ 유전체의 집적 방법 审中-实审
标题翻译：用于集成低K电介质的方法
公开(公告)号：KR1020130014554A
公开(公告)日：2013-02-07
申请号：KR1020127027107
申请日：2011-03-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 리우준준 , 토마도렐아이 , 유에홍유 , 파게자크
IPC分类号： H01L21/311 , H01L21/263
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B7/0042 , B08B7/005 , B08B7/0057 , H01L21/67115 , Y10S430/145
摘要： 기판 상의 유전체막을 처리하기 위한 방법, 구체적으로 로우 k 유전체막을, 후속하여 형성된 금속 상호접속부와 집적하는 방법을 개시한다. 이 방법은 기판 상에 유전체막을 준비하는 단계로서, 상기 유전체막은 유전율 값이 약 4 이하인 로우 k 유전체막이다. 그 후, 이 방법은 유전체막에 예비 경화 공정을 수행하는 단계와, 리소그래피 공정과 에칭 공정을 이용하여 유전체막에 패턴을 형성하는 단계와, 기판으로부터 원하지 않는 잔여물을 제거하는 단계와, 유전체막에 최종 경화 공정을 수행하는 단계를 더 포함하고, 상기 최종 경화 공정은 기판에 자외(UV) 방사선을 조사하는 단계를 포함한다.

7. 发明授权

KR100831782B1 개질된 안료 생성물을 포함하는 인쇄판 有权
标题翻译：包含改性颜料产品的印刷板
公开(公告)号：KR100831782B1
公开(公告)日：2008-05-27
申请号：KR1020037000114
申请日：2001-06-29
申请人： 캐보트 코포레이션
发明人： 갈로웨이,콜린,피. , 벨몬트,제임스,에이. , 카사도-포르틸라,로사
IPC分类号： B41C1/00
CPC分类号： B41M5/465 , B41C1/05 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C1/1033 , B41C1/1041 , B41C2201/02 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/38214 , Y10S430/145
摘要： The present invention discloses printing plates comprising a substrate and a radiation-absorptive layer, wherein the radiation-absorptive layer comprises at least one modified pigment product. The modified pigment product comprises a pigment having attached at least one organic group and at least one amphiphilic counterion. Methods of imaging printing plates are also disclosed.

8. 发明公开

KR1020040073991A 전계방출형 표시장치용 전극 형성 조성물 및 이러한조성물의 사용 방법 失效
标题翻译：感光铜导电组合物，使用组合物和真空微电子器件的FED装置的栅极电极的形成或构成方法以及包含电极的照明装置以获得高分辨率和必要的电导率
公开(公告)号：KR1020040073991A
公开(公告)日：2004-08-21
申请号：KR1020040009515
申请日：2004-02-13
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 하야까와,게이이찌로
IPC分类号： H01B1/02
CPC分类号： G03F7/0047 , H01J9/025 , Y10S430/101 , Y10S430/102 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , Y10S430/151
摘要： PURPOSE: A photosensitive copper conductive composition, a method for forming or constituting the electrode of a field emission display device by using the composition, and a vacuum microelectronic device and a lighting device containing the electrode prepared by the method are provided, to obtain a thick film conductor having a low resistivity of 100 μ¥Ø or less at a sintering temperature of 450-600 deg.C relatively easily, a high resolution and a good adhesive strength. CONSTITUTION: The photosensitive copper conductive composition comprises a mixture comprising 70 wt% or more of a copper powder having a particle size of 0.2-3 micrometers based on 100 wt% of a copper powder and 1-40 wt% of an inorganic binder having a softening point of 380-580 deg.C based on 100 wt% of a copper powder, wherein the mixture is dispersed in an organic diluent comprising an organic polymer binder, a photoinitiator, a radiation curable monomer and an organic solvent. The composition can be sintered at a temperature of 450-600 deg.C under reductive condition.
摘要翻译：目的：提供一种光敏铜导电组合物，通过使用该组合物形成或构成场发射显示装置的电极的方法，以及真空微电子器件和含有通过该方法制备的电极的照明装置，以获得厚的薄膜导体在450-600℃的烧结温度下具有100μΩØ以下的低电阻率，相对容易，高分辨率和良好的粘合强度。构成：光敏铜导电组合物包含基于100重量％的铜粉末和70重量％以上的粒径为0.2-3微米的铜粉末和1-40重量％的具有软化点为380-580℃，基于100重量％的铜粉末，其中该混合物分散在包含有机聚合物粘合剂，光引发剂，可辐射固化单体和有机溶剂的有机稀释剂中。该组合物可在还原条件下在450-600℃的温度下烧结。

9. 发明公开

KR1020040047702A 배선형성용 하층막 형성재료, 매립재료 및 이들을 사용한배선형성방법 失效
标题翻译：下层材料用于接线和接线形成方法
公开(公告)号：KR1020040047702A
公开(公告)日：2004-06-05
申请号：KR1020030085194
申请日：2003-11-27
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 나까무라에쯔꼬 , 와끼야가즈마사
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/075 , G03F7/091 , H01L21/312 , H01L21/76802 , H01L21/76808 , Y10S430/145 , Y10S430/146
摘要： PURPOSE: Lower film material with higher exposure light absorption and excellent resistance to developer used in wiring formation with and a process for wiring formation are provided to use the film material in photoresist stripping solution. CONSTITUTION: The process for wiring formation comprises steps of preparing a lower film; forming a pattern of photoresist; patterning the lower film; forming pattern of wiring; and removing the lower film. The first step is to form the lower film(102) on a semiconductor substrate(101) prepared of a dielectric layer(101b) over a silicon wafer substrate(101a). The second step is to form a photoresist pattern by forming, exposing and developing a photoresist(103) on the lower film(102). The third step is to remove an exposed part of the lower film(102) without the photoresist pattern(104). The fourth step(d) is to form a desired wiring pattern(105) by etching the dielectric layer(101b) using the lower film(102) and the photoresist pattern(104) as a mask. The fifth step is to remove the film(102) and the photoresist pattern(104) remaining on the substrate using photoresist stripping solution.
摘要翻译：目的：在光刻胶剥离溶液中使用薄膜材料，其具有较高的曝光光吸收和对布线形成所使用的显影剂的优良抗性和布线形成工艺。构成：布线形成工艺包括制备下膜的步骤; 形成光致抗蚀剂图案; 图案化下膜; 形成布线图案; 并除去下膜。第一步是在硅晶片衬底（101a）上形成介电层（101b）的半导体衬底（101）上形成下膜（102）。第二步是通过在下膜（102）上形成，曝光和显影光致抗蚀剂（103）形成光致抗蚀剂图案。第三步骤是除去没有光致抗蚀剂图案（104）的下部薄膜（102）的暴露部分。第四步（d）是通过使用下膜（102）和光致抗蚀剂图案（104）作为掩模蚀刻电介质层（101b）来形成期望的布线图案（105）。第五步骤是使用光致抗蚀剂剥离溶液去除残留在基板上的膜（102）和光刻胶图案（104）。

10. 发明公开

KR1020040026121A 비노출 부분의 제거가 불필요한 열 민감성 조성물, 상기조성물로 코팅된 네거티브 석판 및 상기 판에 네거티브이미지를 형성하기 위한 방법 无效
标题翻译：去除非特定区域的不确定性的热敏组合物，包含组合物的负面平版印刷板，以及形成负片图像的方法
公开(公告)号：KR1020040026121A
公开(公告)日：2004-03-27
申请号：KR1020030046818
申请日：2003-07-10
申请人： 아그파 그래픽스 엔브이
发明人： 볼리안젤로 , 테타만티안드레아
IPC分类号： G03F7/022
CPC分类号： B41C1/1041 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , Y10S430/165
摘要： PURPOSE: A heat-sensitive composition in which removal of the unexposed regions is unnecessary, a negative lithographic plate coated with the composition and a method for forming a negative image thereon are provided to form the image without removing materials and development treatment after the state of exposure with low energy. CONSTITUTION: A heat-sensitive composition forms an image without the removal of material, and does not require any developing treatment after the stage of exposure to heat. The heat-sensitive composition comprises (a) a switchable polymer, (b) an IR absorber(formula I), (c) a triazine compound(formula II), and (d) a novolak resin. A negative lithographic plate comprises a substrate coated with the composition. In a method for obtaining a negative image on the substrate coated with the composition, the heat-sensitive composition is first hydrophilic and then lipophilic after exposure to heat without the removal of material. The negative image is obtained by applying the small quantity of energy to the composition.
摘要翻译：目的：提供不需要去除未曝光区域的热敏组合物，涂覆有组合物的负版印刷板及其上形成负像的方法，以形成图像而不去除材料和显影处理低能量曝光构成：热敏组合物在没有去除材料的情况下形成图像，并且在曝光阶段之后不需要任何显影处理。热敏组合物包含（a）可切换聚合物，（b）IR吸收剂（式I），（c）三嗪化合物（式II）和（d）酚醛清漆树脂。负平版印刷版包括涂覆有该组合物的基材。在涂覆有组合物的基材上获得负像的方法中，热敏组合物首先是亲水性的，然后暴露于热而不去除材料的亲油性。通过对组合物施加少量的能量来获得负像。

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