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1. 发明公开

KR1020010015610A 하전입자빔과 관련한 개선된 장치 有权
标题翻译：一种改进的带电粒子束装置
公开(公告)号：KR1020010015610A
公开(公告)日：2001-02-26
申请号：KR1020007003112
申请日：1998-09-24
申请人： 더 웰딩 인스티튜트
发明人： 앨런샌더슨
IPC分类号： H01J37/063
CPC分类号： H01J37/075 , H01J37/063 , H01J37/065 , H01J37/301 , H01J2237/3104
摘要： 하전입자방출어셈블리가한 극성의하전입자를방출하기위한에미터부재(5)를구비하여구성된다. 관형상쉴드전극(6)이에미터부재를주위에서에워싸고, 사용에있어서하전입자로서동일극성으로유지된다. 관형상가속전극(7)이쉴드전극(6)과동축상에실질적으로위치되고, 사용에있어서쉴드전극과대향하는전극으로유지된다. 장비는, 에미터부재(5)로부터의하전입자를초기에측면외부로퍼지게하고관형상가속전극(7)을통해통과하는빔내로초점이맞추어진다.
摘要翻译：带电粒子发射组件由用于发射一种极性的带电粒子的发射器部件（5）构成。管状屏蔽电极6从周边围绕仪表部件，并保持与使用中的带电粒子相同的极性。管状加速电极7基本上位于屏蔽电极6的同轴轴线上，并在使用中作为面向屏蔽电极的电极而被保持。该设备聚焦成束，最初引起来自发射器构件5的带电粒子横向扩散并穿过管状加速电极7。

2. 发明授权

KR100586050B1 하전입자빔과 관련한 개선된 장치 有权
标题翻译：关于充电颗粒物的改进
公开(公告)号：KR100586050B1
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：KR1020007003112
申请日：1998-09-24
申请人： 더 웰딩 인스티튜트
发明人： 앨런샌더슨
IPC分类号： H01J37/063
CPC分类号： H01J37/075 , H01J37/063 , H01J37/065 , H01J37/301 , H01J2237/3104
摘要： 하전입자 방출 어셈블리가 한 극성의 하전입자를 방출하기 위한 에미터부재(5)를 구비하여 구성된다. 관형상 쉴드전극(6)이 에미터부재를 주위에서 에워싸고, 사용 중에 하전입자로서 동일 극성으로 유지된다. 관형상 가속전극(7)이 쉴드전극(6)과 동축상에 실질적으로 위치되고, 사용 중에 쉴드전극과 대향하는 전극으로 유지된다. 상기 구성은, 에미터부재(5)로부터의 하전입자를 초기에 측면 외부로 퍼지게 하고, 관형상 가속전극(7)을 통과하는 빔에 집속된다.

3. 发明公开

KR1020150021573A 하전 입자 빔을 생성하기 위한 플라즈마 소스 장치 및 방법들 审中-实审
标题翻译：等离子体源装置和产生充电颗粒的方法
公开(公告)号：KR1020150021573A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：KR1020157000888
申请日：2013-05-20
申请人： 더 웰딩 인스티튜트
发明人： 립톤,콜린 , 샌더슨,앨런
IPC分类号： H01J27/18 , H01J37/077
CPC分类号： H01J37/077 , H01J27/18 , H01J37/3002 , H01J2237/061 , H01J2237/063 , H01J2237/0817 , H01J2237/083 , H01J2237/31 , H01J2237/3104
摘要： 하전 입자들의 빔을 생성하기 위한 플라즈마 소스 장치가 개시된다. 상기 장치는 가스의 유입을 위한 입구 및 플라즈마 챔버로부터 하전 입자들의 추출을 위한 애퍼처(aperture)가 구비된 플라즈마 챔버; 상기 플라즈마 챔버 내부에 플라즈마를 생성하기 위한 무선 주파수(RF) 플라즈마 생성 단위; 및 상기 플라즈마로부터 하전 입자들을 추출하고 빔을 형성하기 위한 상기 하전 입자들을 가속시키기 위한 입자 가속 단위를 포함하고, 상기 무선 주파수 플라즈마 생성 단위는 실질적으로 같은 공진 주파수에서 공진하기 위해 각각 동조된 제1 및 제2 공진 회로들을 포함하고, 상기 제1 공진 회로는 제1 안테나 및 제1, 실질적으로 그의 공진 주파수에서 상기 제1 공진 회로를 구동시키기 위해 적용된 RF 전력 소스를 포함하고, 상기 제2 공진 회로는 제2 안테나를 포함하고, 이에 의해 사용시 RF 신호가 공진 커플링으로 인하여 상기 제1 공진 회로에 의해 상기 제2 안테나에 유도되고, 상기 제2 공진 회로는 그 안에 플라즈마를 생성하기 위한 상기 플라즈마 챔버에 유도 RF 신호를 인가하기 위해 구성되고, 상기 입자 가속 단위는 상기 플라즈마 챔버 및 가속 전 극 사이에 퍼텐셜을 인가하기 위해 구성되는 제2 전력 소스를 포함하고, 상기 플라즈마 챔버 및 가속 전극 사이의 구역은 가속 컬럼을 구성한다. 상기 제2 전력 소스는 상기 제1, RF 전력 소스에 의한 출력에 상대적으로 높은 전압 출력을 출력하기 위해 적용된다.

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