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1. 发明授权

KR101641387B1 외주 절단날의 제조 방법 및 외주 절단날 제조용 지그 어셈블리 有权
标题翻译：用于制造外刀片切割轮的方法和装配
公开(公告)号：KR101641387B1
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020100040930
申请日：2010-04-30
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 가사시마,마사끼 , 도이,유히또 , 마에가와,하루까즈 , 미노와,다께히사
IPC分类号： B24D18/00 , B24D3/10 , B24D5/12
CPC分类号： B23D65/00 , B23D61/028 , B24D3/06 , B24D5/12 , B24D18/0018 , B25B11/002 , C23C18/1608 , C23C18/1662 , C23C18/1673 , C23C18/1882 , C23C18/1896 , C23C18/32 , C25D5/024 , C25D5/10 , C25D7/001 , C25D15/02 , C25D17/06
摘要： 본발명은, 초경박판으로형성된원반상대판의외주부에절단날부를형성한초경외주절단날의제조방법에서, 상기대판의외주단보다내측의대판면위에영구자석을배치하고, 미리자성체를코팅하여이루어지는다이아몬드지립및/또는 CBN 지립에이 자장을작용시키고, 대판외주단에자기흡인력을발생시키며, 상기대판외주단부에전기또는무전해도금을실시하여절단날을형성하는것에의한외주절단날의제조방법에관한것이다.

2. 发明公开

KR1020140044776A 무전해 도금조 조성물 및 입자상 물질 도금 방법 有权
标题翻译：电沉积浴组合物及其制备方法
公开(公告)号：KR1020140044776A
公开(公告)日：2014-04-15
申请号：KR1020137021141
申请日：2012-01-11
申请人： 맥더미드 앤손 아메리카 엘엘씨
发明人： 페닉,스테펜,이.,주니어
IPC分类号： C23C18/50 , C23C18/30 , C23C18/16
CPC分类号： C23C18/34 , C23C18/1635 , C23C18/1639 , C23C18/1651 , C23C18/1658 , C23C18/1662 , C23C18/30 , C23C18/36 , Y10T428/2991
摘要： 입자상 물질 도금을 위한 무전해 도금조 조성물이 제공된다. 도금조 조성물은 금속-함유 성분 및 환원 성분을 포함한다. 입자상 물질은 마모 저항성이 개선된 절삭 및 연마 공구를 제공하기 위해 무전해 금속 증착에 의해 2 이상의 금속을 포함하는 하나 이상의 금속층으로 도금된다.

3. 发明公开

KR1020130081250A 외주 날 절삭 휠의 드레싱 방법 및 제조방법 审中-实审
标题翻译：外刀片切割车轮的切割和制造
公开(公告)号：KR1020130081250A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：KR1020130001016
申请日：2013-01-04
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 마에가와하루카즈 , 야마구치타카하루 , 시마오마사노부
IPC分类号： B24D5/12 , B24D3/00 , B28D1/24
CPC分类号： B24D18/0018 , B23H7/02 , B23H9/00 , B24B53/001 , B24D3/00 , B24D5/12 , C23C18/1603 , C23C18/1651 , C23C18/1662 , C23C18/36 , C25D3/12 , C25D5/006 , C25D5/02 , C25D5/10 , C25D5/14 , C25D15/00 , C25D17/06 , C25D17/12 , C25F3/22 , C25F7/00
摘要： PURPOSE: A method for dressing a cutting wheel with a peripheral blade and a method for manufacturing the same are provided to secure an effective and satisfactory dressing of a blade and to manufacture a cutting wheel with a peripheral blade in an effective and consistent manufacturing method. CONSTITUTION: A method for dressing a cutting wheel with a peripheral blade comprises the following steps; the opposite surface of a cutting wheel (1) is covered with jigs across a predetermined area and a blade is protruding through the outer edge of circular jigs (2); the cutting wheel clamped between jigs is dipped into an electrolytic polishing liquid within an electrolytic polishing tank; the electrodes which are surrounding and separated from the outer circumference and a pair of electrodes on the opposite side which is separated from the surface of a blade side are provided as counter-electrodes; and electricity is conducted between the cutting wheel and counter electrodes in order to dissolve a part of metal or alloy with an electrolytic method until abrasive grains partially rise from the surface of the blade between abrasive grains and chips kept in a chip pocket on the surface of the blade.
摘要翻译：目的：提供一种用周边刀片修整切割轮的方法及其制造方法，以确保叶片的有效和令人满意的修整，并以有效且一致的制造方法制造具有外围刀片的切割轮。构成：用周边刀片修整切割轮的方法包括以下步骤：切割轮（1）的相对表面用夹具覆盖预定区域，并且刀片通过圆形夹具（2）的外边缘突出; 夹在夹具之间的切割轮被浸入电解抛光槽内的电解抛光液中; 设置与外周围并分离的电极和与叶片侧面分离的相对侧的一对电极作为对电极设置; 并且在切割轮和对电极之间传导电，以便通过电解方法溶解金属或合金的一部分，直到磨粒从刀片表面部分地从刀片表面上保持在芯片凹槽的表面上刀片。

4. 发明公开

KR1020120103547A 기재 상에 금속-세라믹 코팅을 생성시키기 위한 도금 또는 코팅 방법 有权
标题翻译：在基材上生产金属陶瓷涂层的涂层或涂层方法
公开(公告)号：KR1020120103547A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：KR1020127002266
申请日：2010-06-29
申请人： 오클랜드 유니서비시즈 리미티드
发明人： 가오,웨이 , 쳉,웨이웨이
IPC分类号： C25D3/00 , C23C18/16 , C23C18/54
CPC分类号： C25D15/02 , C23C18/1637 , C23C18/1662 , C23C18/31 , C25D3/12 , C25D3/562 , C25D21/14
摘要： 기재 상에 증가된 경도를 갖는 금속-세라믹 복합 코팅을 생성시키는 본 발명의 방법은 세라믹 상의 졸을 도금 용액 또는 전해질에 첨가하는 것을 포함한다. 상기 졸은 도금 또는 코팅 전 및/또는 동안에 그리고 세라믹 상의 나노입자가 직접 기재 상에 또는 기재에 형성되기에, 및/또는 금속-세라믹 코팅이 주로 결정질 구조로 기재 상에 형성되기에, 및/또는 도금 용액 또는 전해질 중에서의 세라믹 상 나노입자의 형성 및/또는 세라믹 상 입자의 응집을 실질적으로 방지하기에 충분히 적도록 조절되는 졸 첨가 비율로 첨가될 수 있다. 세라믹 상은 Ti, W, Si, Zr, Al, Y, Cr, Fe, Pb, Co, 또는 희토류 원소의 단일 또는 혼합 산화물, 탄화물, 질화물, 실리케이트, 붕소화물일 수 있다. 세라믹 상이 아닌 다른 코팅은 Ni, Ni-P, Ni-WP, Ni-Cu-P, Ni-B, Cu, Ag, Au, Pd를 포함할 수 있다.

5. 发明授权

KR100991005B1 금속 나노물질의 존재하의 금속이온의 광여기 환원에 기초된 전극 형성 有权
标题翻译：金属纳米材料存在下金属离子光诱导还原电极形成
公开(公告)号：KR100991005B1
公开(公告)日：2010-10-29
申请号：KR1020080124071
申请日：2008-12-08
申请人： 고려대학교 산학협력단
发明人： 이광렬
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC分类号： G03F7/0042 , C23C18/14 , C23C18/1605 , C23C18/1612 , C23C18/165 , C23C18/1662 , C23C18/1667 , C23C18/42 , C23C18/44 , H01L31/022425 , Y02E10/50 , Y10T428/24909
摘要： Systems and methods of forming an electrode on a substrate are disclosed. The methods can include applying a solution including metal ions and metal nanomaterials to a surface of a substrate. The methods further can include exposing a selected portion of the solution with light having a wavelength capable of inducing reduction of the metal ions, wherein the selected portion corresponds to at least a portion of the electrode.

6. 发明公开

KR1020100026936A 금속 나노물질의 존재하의 금속이온의 광여기 환원에 기초된 전극 형성 有权
标题翻译：金属纳米材料存在下金属离子光诱导还原电极形成
公开(公告)号：KR1020100026936A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：KR1020080124071
申请日：2008-12-08
申请人： 고려대학교 산학협력단
发明人： 이광렬
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC分类号： G03F7/0042 , C23C18/14 , C23C18/1605 , C23C18/1612 , C23C18/165 , C23C18/1662 , C23C18/1667 , C23C18/42 , C23C18/44 , H01L31/022425 , Y02E10/50 , Y10T428/24909
摘要： PURPOSE: An electrode formation based on photo-induced reduction of metal ions in the presence metal nano-materials is provided to form the electrode with improved power generation on a substrate by applying a solution including metal ions and metal nano-materials on the substrate and sintering the substrate. CONSTITUTION: A solution(120) including metal ions(111) and metal nano-materials(113) is applied on a substrate(110). The selected part of the solution is exposed to a light(140) including a wavelength which cause the reduction of the metal ions. The reduced metal particle forms metal aggregate around the nano-materials. At least part of the solution which is not radiated is removed to form a patterned electrode. The patterned electrode includes at least part of the metal aggregate and the metal nano-materials.
摘要翻译：目的：提供在金属纳米材料的存在下基于金属离子的光诱导还原的电极形成，以通过在基底上施加包括金属离子和金属纳米材料的溶液来在衬底上形成具有改善的发电的电极，以及烧结基板。构成：将包含金属离子（111）和金属纳米材料（113）的溶液（120）施加到基板（110）上。溶液的选定部分暴露于包括引起金属离子还原的波长的光（140）。还原金属颗粒在纳米材料周围形成金属骨料。去除未辐射的溶液的至少一部分以形成图案化电极。图案化电极包括金属骨料和金属纳米材料的至少一部分。

7. 发明公开

KR1020070052775A 나노미터 입자들을 사용하는 무전해 도금 无效
标题翻译：具有纳米颗粒的电镀
公开(公告)号：KR1020070052775A
公开(公告)日：2007-05-22
申请号：KR1020077005080
申请日：2005-08-01
申请人： 유씨티 코팅스, 인코포레이티드. , 맥코마스, 에드워드
发明人： 맥코마스,에드워드
IPC分类号： C23C18/16 , C23C18/54 , B82Y30/00
CPC分类号： C23C18/1662 , C23C18/34 , Y10T428/31678
摘要： 무전해 금속 도금조에 대한 나노미터 입자들의 첨가는 무전해 도금조에서 씨딩을 감소시키거나 제거한다. 감소된 씨딩은 코팅에서의 내포(inclusion) 또는 공식(pitting)을 더 적게 하는 결과를 가져온다. 통상적으로 유지 및 빈번한 탱크-정화 일정은 일반적으로 2-3일 이상으로 증가될 수도 있다. 코팅의 성질은 코팅조 내부로의 입자들의 공-증착에 의해 개선될 수 있다. 경도, 내식성, 및 내마모성과 같은 성질들이 개선되었다.

8. 发明公开

KR1020060086873A 고효능 운동에 대한 표면복층의 제조방법 无效
标题翻译：用于高效运动的重叠表面的制造方法
公开(公告)号：KR1020060086873A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：KR1020060007973
申请日：2006-01-25
申请人： 렁, 칭융
发明人： 렁,칭융
IPC分类号： B22F3/00
CPC分类号： C23C26/00 , C23C18/1662 , C23C18/32 , F16C33/14 , F16C2220/20
摘要： 본 발명은 고효능 운동에 대한 표면복층의 제조방법이다. 이 방법은 서브 미크론과 나노 레벨의 테트라플루오로에틸렌 고분자 분말과립을 적당한 비례와 배합기술을 통해 니켈-인(Ni-P)계의 화학도금액 중에 골고루 뿌리고 전기화학반응을 통해 그로 하여금 나노레벨로부터 미크론 레벨의 서로 다른 입경들로 성형된 동-주석계 분말야금 소결체의 표면에 피복되게 하고 양자(兩者)의 초 미립화 과립의 고활화성 작용을 통해 테트라플루오로에틸렌과 동-주석계 성형체 표면의 미소 분말과립이 저온하에서 직접 복합반응을 완성하게 한다. 이 기술로 제조한 제품은 낮은 마찰계수를 가지고, 마모에 견디고, 경도가 높으며, 크기가 정밀하고, 제조비용이 비교적 낮으며, 시스템의 동력에너지 효능을 제고시킨다.
분말야금, 표면복층, 분말과립, 소결체, 니켈-인(Ni-P)계, 동-주석계
摘要翻译：本发明涉及一种运动对系统的高效表面包层制造方法，特别涉及一种能够使亚微米和纳米基四氟乙烯大分子颗粒通过各种比例和分配技术在Ni-P基复合电解质中良好混合的方法从而通过基于不同比例的纳米颗粒和/或微米尺寸的颗粒，通过电化学反应使这些颗粒均匀地包覆在由铜 - 锡基底粉末冶金形成的烧结部件的表面上。由于超细颗粒的激活性高，本发明能够使四氟乙烯和铜 - 锡基组分的表面上的超微粒子的复合反应在低温下直接完成。因此，本发明使得由该技术生产的产品具有耐磨性，高硬度，低摩擦系数，尺寸精度，制造成本低，系统容量效率高等特点。

9. 发明公开

KR1020160005773A 물품의 도금 审中-实审
标题翻译：文艺画
公开(公告)号：KR1020160005773A
公开(公告)日：2016-01-15
申请号：KR1020157034902
申请日：2014-05-09
申请人： 더 로얄 민트 리미티드
发明人： 제임스,데이비드매튜 , 토마스,엘리스리스 , 히버트,길리엄
IPC分类号： C25D5/20 , C25D5/50 , C25D3/22 , C25D3/38 , C25D7/00 , C25D21/10 , C25D15/00 , C23C18/16 , C25D3/56
CPC分类号： C25D15/00 , C23C18/1651 , C23C18/1653 , C23C18/1662 , C25D3/12 , C25D3/22 , C25D3/30 , C25D3/38 , C25D3/56 , C25D3/562 , C25D3/565 , C25D3/58 , C25D5/20 , C25D5/36 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D7/005 , C25D21/10 , G07D5/00
摘要： 본발명은금속성물품, 예를들어주화(coin)로서사용되거나이로변환될수 있는금속성디스크를전기도금하는것을포함하지만이로제한되지않는, 도금분야에관한것이다. 본원에기술된본 발명의구체예는보안목적을위해발광입자가검색될수 있도록도금된금속성층에발광입자를도입한다.

10. 发明公开

KR1020140106384A 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체 审中-实审
标题翻译：导电颗粒，导电材料和连接结构
公开(公告)号：KR1020140106384A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：KR1020137029906
申请日：2012-12-19
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 니시오까,게이조
IPC分类号： H01B1/22 , B22F1/02 , C23C18/52 , H01B5/16 , H01R11/01
CPC分类号： B22F1/02 , C23C18/1662 , C23C18/32 , H01B1/02 , H01B1/22
摘要： 본 발명은 전극 사이의 접속 저항을 낮게 할 수 있는 도전성 입자를 제공한다. 본 발명에 따른 도전성 입자 (1)은 기재 입자 (2)와, 기재 입자 (2)를 피복하고 있는 도전층 (3)과, 도전층 (3) 내에 매입되어 있는 복수의 코어 물질 (4)를 구비한다. 도전층 (3)은 외측의 표면에 복수의 돌기 (3a)를 갖는다. 도전층 (3)의 돌기 (3a)의 내측에 코어 물질 (4)가 배치되어 있다. 기재 입자 (2)의 표면과 코어 물질 (4)의 표면이 거리를 두고 있다. 기재 입자 (2)의 표면과 코어 물질 (4)의 표면 사이의 평균 거리는 5 nm를 초과한다.

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