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    • 8. 发明授权
    • 파티클 제거를 위한 세정 재료의 조성물
    • 用于颗粒去除的清洁材料的组成
    • KR101486625B1
    • 2015-01-26
    • KR1020117010351
    • 2009-10-01
    • 램 리써치 코포레이션
    • 주지맨디라타아준무이데이비드
    • C11D3/37C11D7/50C11D3/22
    • C11D7/5004C11D3/222C11D3/3765C11D3/3773C11D3/3776
    • 본 발명의 실시형태는 미세한 피쳐를 갖는 패터닝데 기판들을 세정하는 개선된 재료를 제공한다. 이 세정 재료는 피쳐들을 실질적으로 손상시키지 않고 미세 피쳐들을 가진 패터닝된 기판들의 세정 시 유익하다. 세정 재료는, 액상 또는 액상/기상 이중 상 중 어느 하나인 유체이고, 디바이스 피쳐 주위를 변형시킨다; 따라서, 세정 재료는 디바이스 피쳐를 손상시키지 않거나 다 함께 손상을 감소시킨다. 웨이퍼 (또는 기판) 표면으로부터 파티클의 제거를 돕기 위해서, 중합체의 고분자 화합물은 웨이퍼 표면 상의 가수분해된 파티클과 수소 결합 및 극성-극성 분자 상호작용을 구축할 수 있는 극성 관능기를 포함할 수 있다. 고분자량을 가진 중합체 화합물(들)의 중합체는 긴 중합체 사슬 및 그물을 형성한다. 긴 중합체 사슬 및/또는 중합체 그물은 종래의 세정 재료와 비교하여 오염물질을 포획하고 인트랩하는 우수한 능력을 보여준다. 중합체의 고분자 화합물(들)은 또한 세정 용액에서 전하를 운반하는 관능기를 포함할 수도 있다. 중합체의 관능기의 전하는 파티클 제거 효율을 개선한다.