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1. 发明授权

KR101533981B1 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치 및 이를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 방법 有权
标题翻译：使用超声波和等离子体进行破碎和分散陶瓷的装置及其破碎和分散方法
公开(公告)号：KR101533981B1
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR20150070418
申请日：2015-05-20
申请人： KOREA INST CERAMIC ENG & TECH , SEWON HARD FACING CO
发明人： OH YOON SUK , KIM HYUNG TAE , CHOI KYOON , KWAK CHAN WON , MOON HEUNG SOO
IPC分类号： C04B35/622 , C04B35/626
摘要： 초음파에의해진동을발생시킴으로써, 세라믹분말의이물질을제거할수 있으며, 메쉬전극을포함하는전극부에서발생하는플라즈마를통해, 세라믹분말을분쇄및 분산함으로써기계적특성이우수하여하드코팅등에활용할수 있는세라믹분말을제조할수 있는장치에대하여개시한다. 본발명에따른초음파와플라즈마를이용한세라믹분쇄및 분산장치는, 세라믹분말과분산액이수용되는처리용기; 초음파를발생시켜상기세리믹분말을분산및 세척하는봉 형태의초음파인가부; 및메쉬전극을포함하여플라즈마를발생시켜, 세라믹분말을분쇄하는플라즈마인가부;를포함하고, 상기봉 형태의초음파인가부는회전하면서분산액을회전시키며, 처리용기상부에배치되는지그에장착되고, 상기초음파인가부및 플라즈마인가부는상기분산액내에위치하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种陶瓷粉末的制造装置，其能够通过超声波产生振动来除去陶瓷粉末中的异物，并且由于通过粉碎和分散陶瓷粉末而具有优异的机械性能，可用于硬涂层等在包括网状电极的电极单元中产生的等离子体。使用超声波和等离子体对陶瓷进行粉碎和分散的装置包括：用于容纳陶瓷粉末和分散溶液的处理容器; 用于通过产生超声波分散和洗涤陶瓷粉末的棒状超声应用单元; 以及等离子体施加单元，用于通过产生包括网状电极的等离子体来粉碎陶瓷粉末，其中棒状的超声波施加单元在旋转的同时旋转分散溶液，并且被安装到设置在处理容器的上部的夹具，并且超声波应用单元和等离子体施加单元位于分散溶液中。

2. 发明公开

KR20100132792A Manufacturing method for silicon ingot 有权
标题翻译：硅胶制造方法
公开(公告)号：KR20100132792A
公开(公告)日：2010-12-20
申请号：KR20090051566
申请日：2009-06-10
申请人： KOREA INST CERAMIC ENG & TECH
发明人： CHOI KYOON , EUM JUNG HYUN , HWANG KWANG TAEK , KIM KYUNG JA
IPC分类号： C30B21/02 , C30B29/06
摘要： PURPOSE: A method for easily manufacturing a silicon ingot is provided to remove dopant impurity from silicon powder and a molded product through a plasma process. CONSTITUTION: A metallic silicon lump is ground to silicon powder(S10). The silicon powder is dipped in an acid solution and remove impurity material from the silicon powder(S20). The silicon powder is formed as a silicon molding product through acid processing(S30). The silicon molding product is plasma-processed(S40).
摘要翻译：目的：提供一种用于容易地制造硅锭的方法，以通过等离子体工艺从硅粉末和模制产品中除去掺杂剂杂质。构成：将金属硅团磨成硅粉（S10）。将硅粉浸入酸溶液中，从硅粉中除去杂质物质（S20）。通过酸处理将硅粉形成为硅成型体（S30）。硅成型产品经等离子体处理（S40）。

3. 发明公开

KR20120074697A Apparatus for coating silicon carbide 有权
标题翻译：涂有碳化硅的装置
公开(公告)号：KR20120074697A
公开(公告)日：2012-07-06
申请号：KR20100136614
申请日：2010-12-28
申请人： KOREA INST CERAMIC ENG & TECH
发明人： CHOI KYOON , KIM KYUNG JA , KIM HYUNG TAE
IPC分类号： C04B41/87 , C04B35/52 , C04B35/565
CPC分类号： H01L21/205 , C04B41/87 , C23C16/42 , C30B25/08
摘要： PURPOSE: A silicon carbide coating apparatus is provided to uniformly form silicon carbide layer on a graphite material by providing a mixed gas including silicon source gas and carbon source gas to the graphite material. CONSTITUTION: A silicon carbide coating apparatus(100) comprises an inner chamber(110), a chamber cover(120), heating tools(140), housing(150), a reactive gas feeding pipe(160) and a carrier gas feeding pipe(170). The inner chamber has an opening in the lower part and accepts the graphite material to inside. The inner chamber provides a mixed gas including carrier gas and reactive gas to the graphite material. The chamber cover comprises a cover hole(121) and closes the lower part of the inner chamber. The cover hole flows out the gas used in the inner chamber to outside. The heating tool heats the inner chamber from the side of the inner chamber. The outer housing and the inner chamber has a space in between and carrier gas is provided through the space. The reactive gas feeding pipe is connected to the inner chamber and provides the reactive gas. The carrier gas supply pipe is connected to the outer housing and provides the carrier gas.
摘要翻译：目的：提供一种碳化硅涂层装置，通过向石墨材料提供包括硅源气体和碳源气体的混合气体，在石墨材料上均匀地形成碳化硅层。构成：碳化硅涂覆装置（100）包括内室（110），室盖（120），加热工具（140），壳体（150），反应气体供给管（160）和载气供给管（170）。内室在下部具有开口，并将石墨材料接纳到内部。内室向石墨材料提供包括载气和反应性气体的混合气体。室盖包括盖孔（121）并封闭内室的下部。盖孔将内室中使用的气体流出到外部。加热工具从内腔侧加热内腔。外部壳体和内部腔室之间具有空间，并且通过该空间提供载气。反应气体供给管连接到内室并提供反应气体。载气供应管连接到外壳并提供载气。

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