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1. 发明公开

KR1020060055547A 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트배선판의 제조방법 无效
标题翻译：感光元件，形成电阻图案的方法以及印刷线路板的制造方法
公开(公告)号：KR1020060055547A
公开(公告)日：2006-05-23
申请号：KR1020067005557
申请日：2004-09-17
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 쿠마키타카시 , 미야사카마사히로 , 이치하시야스히사 , 이토토시키 , 카지마코토
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , C08F2/50 , G03F7/031 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： A photosensitive element which is excellent in sensitivity and resolution in exposure to light having a wavelength of especially 400 to 450 nm and which, through development, gives a resist pattern having a rectangular section. The photosensitive element comprises a substrate and a photosensitive resin composition layer constituted of a photosensitive resin composition comprising (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, and (C) a photopolymerization initiator, and is characterized in that the photosensitive resin composition contains as the ingredient (C) a thioxanthone compound represented by the following formula (I) and that when the amount of the thioxanthone compound, in pts.wt. per 100 pts.wt. of the sum of the ingredients (A) and (B), is expressed by P and the thickness of the photosensitive resin composition layer is expressed by Q [mum], then R, which is the product of P and Q, satisfies the relationship (1). In the following formula (I), R1 to R8 each represents hydrogen, halogeno, or a hydrocarbon group. (1) 25.5
摘要翻译：一种感光元件，其在曝光于特别是400〜450nm的光下的灵敏度和分辨率优异，并且通过显影，得到具有矩形截面的抗蚀剂图案。感光元件包括基材和感光性树脂组合物层，该感光性树脂组合物由（A）粘合剂聚合物，（B）光聚合性化合物和（C）光聚合引发剂组成的感光性树脂组合物，其特征在于，所述感光性树脂组合物含有作为成分（C）由下式（I）表示的噻吨酮化合物，并且当噻吨酮化合物的量以重量计每100 pts.wt （A）和（B）之和的总和由P表示，感光性树脂组合物层的厚度由Q [mum]表示，则作为P和Q的乘积的R满足关系式（1）。在下式（I）中，R 1至R 8各自表示氢，卤素或烃基。（1）25.5 <= R <= 79.0

2. 发明公开

KR1020060060029A 감광성 수지 조성물, 이것을 이용한 감광성 엘리먼트,레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법 및광경화물의 제거방법 有权
标题翻译：感光性树脂组合物，使用其的感光元件，形成电阻图案的方法，生产印刷线路板的方法以及移除光电产品的方法
公开(公告)号：KR1020060060029A
公开(公告)日：2006-06-02
申请号：KR1020067003687
申请日：2004-08-25
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 미야사카마사히로 , 이토토시키
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/42
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/42 , G03F7/40
摘要： A photosensitive resin composition containing a photopolymerizable compound (A) having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule and a photopolymerization initiator (B) for initiating photopolymerization of the photopolymerizable compound (A) is characterized in that the photopolymerizable compound (A) further contains in the molecule a characteristic group having a bond which is broken when the photopolymerizable compound (A) is heated at 130-250°C.
摘要翻译：含有分子中具有2个以上烯属不饱和键的光聚合性化合物（A）和光聚合性化合物（A）的光聚合用光聚合引发剂（B））的感光性树脂组合物的特征在于，光聚合性化合物（A）还含有在分子中具有当光聚合性化合物（A）在130-250℃下加热时断裂的特征基团。

3. 发明授权

KR100907368B1 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트배선판의 제조방법 有权
标题翻译：感光元件，形成电阻图案的方法以及印刷线路板的制造方法
公开(公告)号：KR100907368B1
公开(公告)日：2009-07-10
申请号：KR1020087001994
申请日：2004-09-17
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 쿠마키타카시 , 미야사카마사히로 , 이치하시야스히사 , 이토토시키 , 카지마코토
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , C08F2/50 , G03F7/031 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： 특히 파장 400∼450nm의 광에 의한 노광에 대하여 감도 및 해상도가 우수하고, 현상후의 레지스트의 단면형상이 직사각형인 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 지지체와, (A) 바인더 폴리머, (B) 광중합성 화합물 및 (C) 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로 구성되는 감광성 수지 조성물층을 구비하는 감광성 엘리먼트로서,
감광성 수지 조성물이 (C)성분으로서 하기 식(I)로 표시되는 티옥산톤계 화합물을 함유하고 있고,
(A)성분 및 (B)성분의 총량 100중량부에 대하여 티옥산톤계 화합물의 중량부를 P, 감광성 수지 조성물층의 막두께를 Q[㎛]로 했을 때의 P와 Q와의 곱인 R이, 식(1)의 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다. 하기 식(I)중, R
1 ∼R
8 은 수소원자, 할로겐 원자 또는 탄화수소기를 나타낸다.
25.5 ≤ R ≤ 79.0 (1)

4. 发明公开

KR1020080017492A 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트배선판의 제조방법 有权
标题翻译：感光元件，形成电阻图案的方法以及印刷线路板的制造方法
公开(公告)号：KR1020080017492A
公开(公告)日：2008-02-26
申请号：KR1020087001994
申请日：2004-09-17
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 쿠마키타카시 , 미야사카마사히로 , 이치하시야스히사 , 이토토시키 , 카지마코토
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , C08F2/50 , G03F7/031 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： A photosensitive element which is excellent in sensitivity and resolution in exposure to light having a wavelength of especially 400 to 450 nm and which, through development, gives a resist pattern having a rectangular section. The photosensitive element comprises a substrate and a photosensitive resin composition layer constituted of a photosensitive resin composition comprising (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, and (C) a photopolymerization initiator, and is characterized in that the photosensitive resin composition contains as the ingredient (C) a thioxanthone compound represented by the following formula (I) and that when the amount of the thioxanthone compound, in pts.wt. per 100 pts.wt. of the sum of the ingredients (A) and (B), is expressed by P and the thickness of the photosensitive resin composition layer is expressed by Q [mum], then R, which is the product of P and Q, satisfies the relationship (1). In the following formula (I), R1 to R8 each represents hydrogen, halogeno, or a hydrocarbon group. (1) 25.5
摘要翻译：一种感光元件，其在曝光于特别是400〜450nm的光下的灵敏度和分辨率优异，并且通过显影，得到具有矩形截面的抗蚀剂图案。感光元件包括基材和感光性树脂组合物层，该感光性树脂组合物由（A）粘合剂聚合物，（B）光聚合性化合物和（C）光聚合引发剂组成的感光性树脂组合物，其特征在于，所述感光性树脂组合物含有作为成分（C）由下式（I）表示的噻吨酮化合物，并且当噻吨酮化合物的量以重量计每100 pts.wt （A）和（B）之和的总和由P表示，感光性树脂组合物层的厚度由Q [mum]表示，则作为P和Q的乘积的R满足关系式（1）。在下式（I）中，R 1至R 8各自表示氢，卤素或烃基。（1）25.5 <= R <= 79.0

5. 发明授权

KR100768364B1 감광성 수지 조성물, 이것을 이용한 감광성 엘리먼트,레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법 및광경화물의 제거방법 有权
标题翻译：感光性树脂组合物，使用其的感光元件，形成电阻图案的方法，生产印刷线路板的方法以及移除光电产品的方法
公开(公告)号：KR100768364B1
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：KR1020067003687
申请日：2004-08-25
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 미야사카마사히로 , 이토토시키
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/42
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/42
摘要： 본 발명의 감광성 수지 조성물은, 2 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 분자내에 갖는 (A) 광중합성 화합물과, 상기 (A) 광중합성 화합물의 광중합 반응을 개시시키는 (B) 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 (A) 광중합성 화합물의 분자내에는, 상기 (A) 광중합성 화합물을 130∼250℃의 온도조건에서 가열한 경우에 절단되는 결합을 갖는 특성기가 더 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다.

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