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1. 发明公开

KR1020080020591A 영구 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：永久性图案
公开(公告)号：KR1020080020591A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：KR1020077019405
申请日：2006-06-08
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타카시마마사노부 , 스미카츠토 , 코와다카즈테루 , 스즈키잇세이 , 우에무라타카유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70425 , H05K3/0082 , C08F2/50 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要： A permanent patterning method capable of forming a high resolution permanent pattern efficiently by averaging the impact of variation in amount of exposure due to distortion of pattern thereby suppressing distortion of an image being formed on a photosensitive layer. In the permanent patterning method, after a photosensitive layer is formed on the surface of a substrate by using a photosensitive composition, a writing part being used for N-fold exposure (N is a natural number of 2 or above) is specified for the photosensitive layer by a use writing part specifying section by using an exposure head comprising a light irradiating means and an optical modulation means and arranged such that the array direction of writing portions makes a predetermined set inclination angle R with respect to the scanning direction, a writing portion control means controls the writing portions such that only a specified writing portion participates in exposure, and then the photosensitive layer is exposed and developed by moving the exposure head relatively to the layer in the scanning direction. ® KIPO & WIPO 2008
摘要翻译：一种永久性图案形成方法，其能够通过平均由于图案变形引起的曝光量的变化的影响而有效地形成高分辨率永久图案，从而抑制在感光层上形成的图像的变形。在永久性图案化方法中，在通过使用光敏组合物在基板的表面上形成感光层之后，为感光层指定用于N倍曝光的写入部分（N为2以上的自然数）通过使用包括光照射装置和光调制装置的曝光头通过使用写入部指定部分层叠，并且被布置为使得写入部分的阵列方向相对于扫描方向形成预定的设定倾斜角R，控制装置控制书写部分，使得只有指定的书写部分参与曝光，然后通过在扫描方向上相对于该层移动曝光头来使感光层曝光和显影。 ®KIPO＆WIPO 2008

2. 发明公开

KR1020070115909A 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：图案形成方法
公开(公告)号：KR1020070115909A
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：KR1020077019483
申请日：2006-02-22
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타카시마마사노부 , 스미카츠토 , 코와다카즈테루 , 스즈키잇세이 , 우에무라타카유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G02B26/0833 , G03F7/70583
摘要： It is possible to provide a pattern forming method capable of reducing the resolution irregularities and concentration irregularities of a pattern formed on an exposed surface of a pattern forming material so as to effectively form the pattern with a high resolution. For this, a photosensitive layer of a pattern forming material formed on a support body is layered on a substrate to be treated. After this, an exposure head including light irradiation means and light modulation means having n plotting units arranged two-dimensionally and with the column direction of the plotting units at a set inclination angle R with respect to the scan direction is used for the photosensitive layer so as to execute: a step for specifying the use plotting units used for N-degree exposure by the plotting unit specification means for the exposure head; a step for controlling the plotting units by the plotting unit control means for the exposure head; and a step for relatively shifting the exposure head in the scan direction with respect to the photosensitive layer for performing exposure.
摘要翻译：可以提供能够降低形成在图案形成材料的露出表面上的图案的分辨率不规则性和浓缩不规则性的图案形成方法，从而以高分辨率有效地形成图案。为此，形成在支撑体上的图案形成材料的感光层层叠在待处理的基板上。之后，使用包括光照射装置和光调制装置的曝光头用于感光层，所述光调制装置具有二维排列的n个绘制单元，并且绘图单元的列方向相对于扫描方向以设定的倾斜角度R，因此执行：通过用于曝光头的绘图单元指定装置来指定用于N度曝光的使用绘图单元的步骤; 用于通过用于曝光头的绘图单元控制装置控制绘图单元的步骤; 以及相对于用于进行曝光的感光层使扫描方向相对移动曝光头的步骤。

3. 发明授权

KR101229808B1 투영 헤드 포커스 위치 측정 방법 및 노광 방법 有权
标题翻译：投影头聚焦位置测量方法和曝光方法
公开(公告)号：KR101229808B1
公开(公告)日：2013-02-15
申请号：KR1020077023441
申请日：2006-03-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 코와다카즈테루
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70275
摘要： 투영 헤드(10)로부터 감광 재료(1)까지의 투영 거리(Fz)와 포커스 위치(Pz) 중 하나를 변경하면서 투영 헤드(10)에 의해 기판(2)상의 감광 재료(1) 중 상이한 영역(R)에 동일한 검사용 화상 패턴(Gk)를 투영한다. 따라서, 감광 재료(1)의 각 영역(R)이 노광된다. 노광된 감광 재료(1)가 현상된다. 이어서, 투영 헤드(10)의 포커스 위치는 현상에 의해 기판(2)으로부터 감광 재료(1)가 제거되는 영역에 대응하는 투영 거리(Fz) 또는 포커스 위치(Pz)와 현상에 의해 기판(2)으로부터 감광 재료(1)가 제거되지 않은 영역에 대응하는 투영 거리(Fz) 또는 포커스 위치(Pz) 사이의 관계에 의거하여 취득된다.
투영 헤드 포커스 위치 측정 방법, 노광 방법

4. 发明授权

KR101112008B1 묘화장치 및 묘화방법 有权
标题翻译：绘图装置和绘图方法
公开(公告)号：KR101112008B1
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：KR1020050052294
申请日：2005-06-17
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 스미카쯔토 , 코와다카즈테루 , 스즈키잇세이
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H04N1/19 , B41J2/465 , H04N1/00734 , H04N1/00745 , H04N1/1008 , H04N1/1906 , H04N1/193 , H04N1/1933 , H04N1/195 , H04N1/19573 , H04N2201/0436
摘要： 다중묘화 형식의 묘화장치 및 묘화방법에 있어서, 묘화헤드의 부착각도 오차나 패턴변형의 영향에 의한 해상성이나 농도의 불균일을 경감한다.
노광장치(묘화장치)의 각 노광헤드(30)에 구비되어 있는 직사각형의 2차원 화소 어레이가, 주사방향에 대하여 소정의 설정 경사각도를 이루도록 감광재료(12)의 노광면에 대하여 부착되어 있다. 각 화소 어레이의 중심부근의 화소열에 대응하는 대표 광점열의 노광면상에 있어서의 실제 경사각도가, 슬릿과 광검출기의 세트에 의해 측정된다. 측정된 실제 경사각도로부터 대표 광점열 부근의 영역에 있어서, 노광의 과도나 부족을 최소한으로 억제한 이상적인 것에 가까운 다중노광이 실현되도록, 화소 어레이상의 사용 화소가 선택된다. 선택된 사용 화소만을 실제동작시켜서, 각 노광헤드(30)를 스테이지(14)에 대하여 상대이동시키면서, 노광처리가 행하여진다.

5. 发明公开

KR1020060049397A 묘화장치 및 묘화방법 有权
标题翻译：绘图装置和绘图方法
公开(公告)号：KR1020060049397A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：KR1020050052294
申请日：2005-06-17
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 스미카쯔토 , 코와다카즈테루 , 스즈키잇세이
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H04N1/19 , B41J2/465 , H04N1/00734 , H04N1/00745 , H04N1/1008 , H04N1/1906 , H04N1/193 , H04N1/1933 , H04N1/195 , H04N1/19573 , H04N2201/0436
摘要： 다중묘화 형식의 묘화장치 및 묘화방법에 있어서, 묘화헤드의 부착각도 오차나 패턴변형의 영향에 의한 해상성이나 농도의 얼룩을 경감한다.
노광장치(묘화장치)의 각 노광헤드(30)에 구비되어 있는 직사각형의 2차원 화소 어레이가, 주사방향에 대하여 소정의 설정 경사각도를 이루도록 감광재료(12)의 노광면에 대하여 부착되어 있다. 각 화소 어레이의 중심부근의 화소열에 대응하는 대표 광점열의 노광면상에 있어서의 실제 경사각도가, 슬릿과 광검출기의 세트에 의해 측정된다. 측정된 실제 경사각도로부터 대표 광점열 부근의 영역에 있어서, 노광의 과도나 부족을 최소한으로 억제한 이상적으로 가까운 다중노광이 실현되도록, 화소 어레이상의 사용 화소가 선택된다. 선택된 사용 화소만을 실제동작시켜서, 각 노광헤드(30)를 스테이지(14)에 대하여 상대이동시키면서, 노광처리가 행하여진다.

6. 发明公开

KR1020080014983A 묘화 방법 및 장치 无效
标题翻译：绘图方法和装置
公开(公告)号：KR1020080014983A
公开(公告)日：2008-02-15
申请号：KR1020077028097
申请日：2006-05-24
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 스미카츠토 , 코와다카즈테루 , 스즈키이세이 , 후쿠이타카시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/2057 , G03F7/2051
摘要： A method and a device for exposing an image on an exposure plane by moving a plurality of exposure heads relatively to a the exposure plane in a predetermined scanning direction in which the image is exposed appropriately without causing any deviation of images between the exposure heads. Reference points (rp21, rp12) for respective exposure heads (3021, 3012) are formed on the exposure plane by using reference micromirrors (r21, r12) preset for the respective exposure heads (3021, 3012), and exposure timing by the respective exposure heads (2021, 3012) is controlled such that the reference points (rp21, rp12) for the respective exposure heads (3021, 3012) are arranged on a reference line (RL).
摘要翻译：一种用于通过在曝光图像曝光的预定扫描方向上相对于曝光平面移动多个曝光头而使曝光平面上的图像曝光而不引起曝光头之间的图像偏差的方法和装置。通过使用为各个曝光头（3021,3012）预设的参考微镜（r21，r12）和曝光时间，通过相应的曝光来形成各曝光头（3021,3012）的参考点（rp21，rp12）控制头（2021,3012），使得各个曝光头（3021,3012）的参考点（rp21，rp12）被布置在参考线（RL）上。

7. 发明公开

KR1020070116098A 투영 헤드 포커스 위치 측정 방법 및 노광 방법 有权
标题翻译：投影头聚焦位置测量方法和曝光方法
公开(公告)号：KR1020070116098A
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：KR1020077023441
申请日：2006-03-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 코와다카즈테루
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70275 , G03F7/70291
摘要： The same test image pattern (Gk) is projected onto different regions (R) of a photosensitive material (1) on a substrate (2) by a projection head (10) while one of a projection distance (Fz) from the projection head (10) to the photosensitive material (1) and a focus position (Pz) is changed. Accordingly, each of the regions (R) of the photosensitive material (1) is exposed to light. The photosensitive material (1) which has been exposed to light is developed. Then, the focus position of the projection head (10) is obtained based on a relationship between a projection distance (Fz) or focus position (Pz) corresponding to a region in which the photosensitive material (1) has been removed from the substrate (2) by development and a projection distance (Fz) or focus position (Pz) corresponding to a region in which the photosensitive material (1) has not been removed from the substrate (2) by development.
摘要翻译：通过投影头（10）将相同的测试图像图案（Gk）投影到基板（2）上的感光材料（1）的不同区域（R）上，同时从投影头的投影距离（Fz） 10）到感光材料（1）并且聚焦位置（Pz）改变。因此，感光材料（1）的每个区域（R）都被曝光。已曝光的感光材料（1）被显影。然后，基于与从基板去除感光材料（1）的区域对应的投影距离（Fz）或聚焦位置（Pz）之间的关系，获得投影头（10）的聚焦位置（ 2）通过显影和与感光材料（1）未通过显影从基板（2）去除的区域相对应的投影距离（Fz）或聚焦位置（Pz）。

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