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1. 发明授权

KR101659826B1 분산 조성물, 이것을 이용한 경화성 조성물, 투명막, 마이크로렌즈 및 고체 촬상 소자 有权
标题翻译：分散组合物和可固化组合物透明薄膜和固态成像元件
公开(公告)号：KR101659826B1
公开(公告)日：2016-09-26
申请号：KR1020157005037
申请日：2013-08-29
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 아라야마쿄우헤이 , 이데이히로아키 , 쿠보타마코토 , 타카쿠와히데키
IPC分类号： C08F2/44 , C08G59/18 , C08G65/18 , C08L101/02 , C08K3/22
CPC分类号： C08K9/04 , C08F22/02 , C08G59/18 , C08G65/18 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K2003/2241 , C08L63/00 , C08L81/02 , C08L101/02 , C09D4/00 , C09D133/10 , C09D135/00 , C09D201/02 , C09D201/08 , G02B1/04 , G02B1/041 , G03F7/0007 , G03F7/0047 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , C08L101/08
摘要： 1차입자지름이 1㎚~100㎚인금속산화물입자(A)와, 산가 120mgKOH/g 미만의하기일반식(1)으로나타내어지는고분자화합물(B)과, 용매(C)를함유하는굴절률이높고도포후의막면의면상이우수한분산조성물, 이것을이용한경화성조성물, 투명막, 마이크로렌즈및 고체촬상소자를제공한다.
摘要翻译：提供一种分散组合物，其具有高折射率，并且具有优异的涂布后的膜表面的表面状态，使用其的可固化组合物，透明膜，微透镜和固态成像装置。含有一次粒径为1nm〜100nm（A）的金属氧化物粒子，由下式（1）（B）表示的酸值小于120mgKOH / g的高分子化合物的分散组合物，，和溶剂（C）。在式（1）中，R 1表示（m + n）价连接基团，R 2表示单键或二价连接基团。 A 1表示具有至少一个选自酸基，脲基，氨基甲酸酯基，具有配位氧原子的基团，具有碱性氮原子的基团，酚基，烷基，芳基，具有亚烷基氧基的基团，酰亚胺基，烷氧基羰基，烷基氨基羰基，羧酸酯基，磺酰胺基，杂环基，烷氧基甲硅烷基，环氧基，异氰酸酯基团和羟基。 n A 1和n R 2可以相同或不同。 m表示8以下的正数，n表示1〜9，m + n表示3〜10 .P 1表示聚合物链。 m P 1可以相同或不同。

3. 发明授权

KR101780663B1 감광성 수지 조성물, 릴리프 패턴 형성 재료, 감광성막, 폴리이미드막, 경화 릴리프 패턴, 그 제조 방법, 및 반도체 장치 有权
标题翻译：光敏树脂组合物，一个浮雕图案形成材料中，感光膜，聚酰亚胺膜，固化浮雕图案，其制造方法，以及半导体器件
公开(公告)号：KR101780663B1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020147002626
申请日：2012-07-12
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 와다켄지 , 아라야마쿄우헤이 , 아메미야타쿠마
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08G73/10 , G03F7/038 , G03F7/40
CPC分类号： C08G73/10 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/40
摘要： 해상성및 감도에뛰어난리소그래피성능을갖고, 소위저온큐어에있어서응력이낮음으로써웨이퍼휨을방지하는경화릴리프패턴을형성할수 있는감광성수지조성물, 그감광성수지조성물을사용하는릴리프패턴형성재료, 감광성막, 폴리이미드막, 경화릴리프패턴, 그제조방법, 및그 경화릴리프패턴을포함하는반도체장치를제공한다. (a) 하기일반식(1)으로나타내어지는반복단위를갖는수지, 및 (b) 활성광선또는방사선의조사에의해산을발생시키는화합물을함유하는감광성수지조성물.[상기일반식(1) 중, R은 4가의유기기를나타낸다. 복수의 R은서로동일하거나달라도좋다. R는 2가의유기기를나타낸다. 복수의 R는서로동일하거나달라도좋다. 단, 복수의 R중적어도 1개는지환기를갖는 2가의유기기이다. R은각각독립적으로수소원자또는유기기를나타낸다. 단, 복수의 -COR중적어도 1개는산의작용에의해분해되어알칼리가용성기를발생시키는기이다]
摘要翻译：分辨率，并具有在灵敏度优异的光刻性能，在应力固化所谓低温是低至晶片翘曲防止可形成固化浮雕图案的感光性树脂组合物，使用该感光性树脂组合物的浮雕图案形成材料中，感光膜，其中，聚酰亚胺膜，并提供一种半导体器件，包括一个固化浮雕图案，其制造，mitgeu固化浮雕图案的方法。的（a）具有由式（1），并且表示的重复单元的树脂（b）一种用光化射线或其中包含产生照射[上述通式的溶解的化合物的感光性树脂组合物（1）并且R表示四价有机基团。多个R可以相同或不同。 R表示二价有机基团。多个R可以相同或不同。只要多个R基中的至少一个是具有取代基的二价有机基团即可。每个R独立地表示氢原子或有机基团。然而，即使多个-COR普遍被酸的作用而分解中的一个是用于产生碱溶性基团的基团;

4. 发明公开

KR1020160127786A 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서 审中-实审
标题翻译：用于形成彩色滤光片固态成像装置和红外传感器的形成方法的彩色组合物膜彩色滤光片方法
公开(公告)号：KR1020160127786A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020167026657
申请日：2015-04-09
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 타키시타히로타카 , 카미무라테츠야 , 츠루타타쿠야 , 아라야마쿄우헤이 , 시마다카주토 , 모리마사히로
IPC分类号： C09B57/00 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/004 , H01L27/14
CPC分类号： G03F7/0007 , C09B23/0075 , C09B23/04 , C09B57/00 , C09B67/009 , G02B5/201 , G02B5/208 , G02B5/22 , G03F7/0042 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/105 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L27/14621 , H01L27/14625 , H04N5/33
摘要： 착색조성물은, 착색제와수지를포함하고, 파장 400~830nm의범위에있어서의흡광도의최솟값 A와, 파장 1000~1300nm의범위에있어서의흡광도의최댓값 B의비인 A/B가, 4.5 이상이다.
摘要翻译：着色组合物包括着色剂和树脂，其中在400至830nm的波长范围内的吸光度的最小值A的比A / B与1000至1300nm的波长范围内的吸光度的最大值B 为4.5以上。

5. 发明公开

KR1020170048504A 근적외선 흡수 조성물, 경화성 조성물, 경화막, 근적외선 차단 필터, 고체 촬상 소자, 적외선 센서, 카메라 모듈, 가공 색소 및 가공 색소의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：近红外线吸收组合物，该固化性组合物，固化膜，产生近红外光阻挡滤波器，所述固态图像传感器，红外传感器，照相机模块，处理颜料的方法和处理的颜料
公开(公告)号：KR1020170048504A
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020177008720
申请日：2015-09-08
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 츠루타타쿠야 , 아라야마쿄우헤이 , 타카하시카즈타카
IPC分类号： C09B67/08 , C09B57/00 , C09B67/12
CPC分类号： C09D5/32 , C08K9/10 , C08K2201/003 , C09B23/0075 , C09B23/04 , C09B47/04 , C09B47/0675 , C09B57/00 , C09B57/004 , C09B67/0013 , C09B69/109 , C09D7/68 , C09D133/14 , G02B1/04 , G02B5/208 , H01L27/14625
摘要： 본발명은근적외선흡수색소의분산성이높고, 틱소트로피성이작은근적외선흡수조성물, 경화성조성물, 경화막, 근적외선차단필터, 고체촬상소자, 적외선센서, 카메라모듈, 가공색소및 가공색소의제조방법을제공한다. 본발명의근적외선흡수조성물은, 근적외선흡수색소를색소구조, 복소환구조및 비환식헤테로원자함유기로부터선택되는 1종이상을갖는수지로피복하여이루어지는가공색소를포함한다. 근적외선흡수색소가프탈로사이아닌색소, 페릴렌색소, 피롤로피롤색소, 사이아닌색소, 다이싸이올금속착체색소, 나프토퀴논색소, 다이임모늄색소, 아조색소및 스쿠아릴륨색소로부터선택되는 1종이상인것이바람직하고, 피롤로피롤색소인것이보다바람직하다.
摘要翻译：本发明是近红外线吸收色素的高分散性，触变性是小近红外线吸收组合物，所述可固化组合物，固化膜，在制造近红外光阻挡滤波器，所述固态图像传感器，红外传感器，照相机模块，处理颜料的方法和处理的颜料提供。近红外线吸收本发明的组合物，通过涂布具有选自近红外线吸收染料的染料结构，杂环结构中的至少一种构件，和树脂无环含有杂原子的和形成的加工颜料。所述近红外线吸收色素GAP邻苯二甲二萘嵌苯颜料，吡咯并吡咯颜料，无彩色之间色素，模具硫醇金属络合物染料，其中萘醌染料，二 - IMMO钛颜料，偶氮颜料和外科从芳体积染料1中选择它优选为纸张形式并且更优选吡咯并吡咯色素。

6. 发明公开

KR1020150038409A 분산 조성물, 이것을 이용한 경화성 조성물, 투명막, 마이크로렌즈 및 고체 촬상 소자 有权
标题翻译：分散组合物，可固化组合物，透明膜，微晶和固态成像元件
公开(公告)号：KR1020150038409A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020157005037
申请日：2013-08-29
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 아라야마쿄우헤이 , 이데이히로아키 , 쿠보타마코토 , 타카쿠와히데키
IPC分类号： C08F2/44 , C08G59/18 , C08G65/18 , C08L101/02 , C08K3/22
CPC分类号： C08K9/04 , C08F22/02 , C08G59/18 , C08G65/18 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K2003/2241 , C08L63/00 , C08L81/02 , C08L101/02 , C09D4/00 , C09D133/10 , C09D135/00 , C09D201/02 , C09D201/08 , G02B1/04 , G02B1/041 , G03F7/0007 , G03F7/0047 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , C08L101/08 , C08F2/44 , C08L2201/10
摘要： 1차입자지름이 1㎚~100㎚인금속산화물입자(A)와, 산가 120mgKOH/g 미만의하기일반식(1)으로나타내어지는고분자화합물(B)과, 용매(C)를함유하는굴절률이높고도포후의막면의면상이우수한분산조성물, 이것을이용한경화성조성물, 투명막, 마이크로렌즈및 고체촬상소자를제공한다.
摘要翻译：提供一种分散组合物，其具有高折射率，并且具有优异的涂布后的膜表面的表面状态，使用其的可固化组合物，透明膜，微透镜和固态成像装置。含有一次粒径为1nm〜100nm（A）的金属氧化物粒子，由下式（1）（B）表示的酸值小于120mgKOH / g的高分子化合物的分散组合物，，和溶剂（C）。在式（1）中，R 1表示（m + n）价连接基团，R 2表示单键或二价连接基团。 A 1表示具有至少一个选自酸基，脲基，氨基甲酸酯基，具有配位氧原子的基团，具有碱性氮原子的基团，酚基，烷基，芳基，具有亚烷基氧基的基团，酰亚胺基，烷氧基羰基，烷基氨基羰基，羧酸酯基，磺酰胺基，杂环基，烷氧基甲硅烷基，环氧基，异氰酸酯基团和羟基。 n A 1和n R 2可以相同或不同。 m表示8以下的正数，n表示1〜9，m + n表示3〜10 .P 1表示聚合物链。 m P 1可以相同或不同。

7. 发明公开

KR1020140047105A 감광성 수지 조성물, 릴리프 패턴 형성 재료, 감광성막, 폴리이미드막, 경화 릴리프 패턴, 그 제조 방법, 및 반도체 장치 有权
标题翻译：感光性树脂组合物，形成缓冲图案的材料，感光膜，聚酰亚胺膜，固化的缓冲图案及其制造方法以及半导体器件
公开(公告)号：KR1020140047105A
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：KR1020147002626
申请日：2012-07-12
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 와다켄지 , 아라야마쿄우헤이 , 아메미야타쿠마
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08G73/10 , G03F7/038 , G03F7/40
CPC分类号： C08G73/10 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/40 , G03F7/0397 , G03F7/0387
摘要： 해상성 및 감도에 뛰어난 리소그래피 성능을 갖고, 소위 저온 큐어에 있어서 응력이 낮음으로써 웨이퍼 휨을 방지하는 경화 릴리프 패턴을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물, 그 감광성 수지 조성물을 사용하는 릴리프 패턴 형성 재료, 감광성막, 폴리이미드막, 경화 릴리프 패턴, 그 제조 방법, 및 그 경화 릴리프 패턴을 포함하는 반도체 장치를 제공한다.
(a) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 반복 단위를 갖는 수지, 및 (b) 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물.

[상기 일반식(1) 중, R
1 은 4가의 유기기를 나타낸다. 복수의 R
1 은 서로 동일하거나 달라도 좋다.
R
2 는 2가의 유기기를 나타낸다. 복수의 R
2 는 서로 동일하거나 달라도 좋다.
단, 복수의 R
2 중 적어도 1개는 지환기를 갖는 2가의 유기기이다.
R
3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.
단, 복수의 -CO
2 R
3 중 적어도 1개는 산의 작용에 의해 분해되어 알칼리 가용성기를 발생시키는 기이다]

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