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1. 发明公开

KR1020030047753A 광학 부재용 석영 유리 블랭크, 그 제조 방법 및 이용 방법 无效
标题翻译：用于光学部件的QUARTZ玻璃棉，制造程序及其用途
公开(公告)号：KR1020030047753A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：KR1020020076625
申请日：2002-12-04
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 큔보도 , 위빙브르노 , 트로머마르틴 , 오크스슈테판 , 피셔게로 , 홀스트울라
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03B19/1469 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要： PURPOSE: A quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, a use of the quartz glass blank in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, and a procedure for manufacture of the quartz glass blank are provided. CONSTITUTION: In a quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation with a wavelength of 250 nm or shorter, the quartz glass blank is characterized by a glass structure that is essentially free of oxygen defect sites, an H2-content in the range of 0.1x10¬16 molecules/cm¬3 to 4.0x10¬16 molecules/cm¬3, an OH-content in the range of 125 wt-ppm to 450 wt-ppm, an SiH group-content of less than 5x10¬16 molecules/cm¬3, a refractive index inhomogeneity, Δn, of less than 2 ppm, and a stress birefringence of less than 2 nm/cm. The procedure for the manufacture of a quartz glass blank comprises the manufacture of a first and a second quartz glass by flame hydrolysis of a Si-containing compound, wherein the first and second quartz glass differ in their OH-contents, characterized in that a mixed quartz glass with a mean OH-content in the range of 125 wt-ppm to 450 wt-ppm is generated by mixing the first quartz glass and the second quartz glass. The use of a quartz glass blank for the manufacture of a component for use in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter is characterized in that a quartz glass with an OH-content is selected for use with ultraviolet radiation of a given pulse energy density, ε, of at least 0.005 mJ/cm¬2, the OH-content complying with the following dimensioning rule: C(oh)£wt-ppm|=1,7x10¬3xε¬0.4±50.
摘要翻译：目的：用于传输波长为250nm或更短波长的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料，微波平版印刷中的石英玻璃毛坯与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合以及程序提供石英玻璃坯料的制造。构成：在用于透射波长为250nm或更短的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料中，石英玻璃坯料的特征在于基本上不含氧缺陷部位的玻璃结构，范围为0.1×10 16分子/ cm 3至4.0×10 16分子/ cm 3，OH含量为125重量ppm至450重量ppm，SiH基含量小于5×101- 16分子/ cm 3，折射率不均匀性Δn小于2ppm，应力双折射小于2nm / cm。制造石英玻璃坯料的方法包括通过含Si化合物的火焰水解制造第一和第二石英玻璃，其中第一和第二石英玻璃的OH含量不同，其特征在于混合通过混合第一石英玻璃和第二石英玻璃产生平均OH含量在125重量ppm至450重量ppm范围内的石英玻璃。使用石英玻璃坯料制造用于微光刻的组件与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合的特征在于，选择具有OH-含量的石英玻璃用于紫外线辐射给定的脉冲能量密度ε至少为0.005mJ / cm 2，符合以下尺寸规则的OH-含量：C（oh）£wt-ppm | = 1,7×10-3×ε-0.4±50。

2. 发明公开

KR1020160001696A EUV 리소그래피에서 사용하기 위한 미러 기판용의 티타늄 도핑 실리카 유리로 이루어진 블랭크 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：用于在EUV光刻中使用的镜面基板的钛 - 二氧化硅玻璃的制造方法及其生产方法
公开(公告)号：KR1020160001696A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：KR1020150091230
申请日：2015-06-26
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 벡커클라우스 , 오크스슈테판 , 토마스슈테판
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/66 , H01L21/027
CPC分类号： C03B23/04 , C03B19/066 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/06 , C03B2201/075 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/10 , C03C2203/50 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/7095
摘要： EUV 리소그래피에서사용하기위한미러기판용의티타늄도핑실리카유리로이루어진블랭크및 그제조방법 EUV 리소그래피에서사용하기위한미러기판용의티타늄도핑실리카유리로이루어진블랭크에서, 광학적으로사용되는영역(CA)이관례대로(normally) 정의된다. CA 내에서, 열팽창계수(coefficient of thermal expansion; CTE)는블랭크의두께에걸쳐평균된 2차원 dCTE 분포프로파일을구비하는데, 이경우 CTE 최대값과 CTE 최소값사이의차이로서정의되는최대불균질성(dCTE)은 5 ppb/K 미만이다. 높은 CTE 불균질성값은티타늄이산화물농도의개별적으로적응된위치의존적조정을통해방지되는것이알려져있다. 비교적높은절대 CTE 불균질성값은사용동안발생하는조사(irradiation) 프로파일이원 대칭을나타내는경우에만수용될수 있다. 이로부터시작하여, 티타늄이산화물농도의개별적으로적응되는위치의존적인조정없이도비원형조사프로파일과함께사용하기위해설계되고적합된티타늄도핑실리카유리로만들어진블랭크를제조하기위해, 본발명에따르면, dCTE가적어도 0.5 ppb/K이고, CA가영역의도심을갖는비원형영역을형성하는것이제안되는데, dCTE 분포프로파일은회전대칭이아니며, 단위길이에대해정규화되고영역의도심을통해연장하는직선프로파일섹션이 0.5×dCTE미만의밴드폭)을갖는곡선밴드를형성하는곡선의 dCTE 패밀리를산출하도록, CA에걸쳐정의된다.
摘要翻译：本发明涉及用于EUV光刻中的用于镜面基板的钛掺杂石英玻璃的坯料及其制造方法。坯料配备有具有设置有反射膜的表面单元的光学用途区域（CA）。 CA中的热膨胀系数（CTE）包括通过具有小于5ppb / K的最大异质性（dCTEmax）的坯料的厚度来标准化的二维dCTE分布曲线，其定义为CTE最大值和CTE之间的差最小值。本发明的目的是使用非圆形照射轮廓，而不依赖于单独适应的位置来控制氧化钛浓度。

4. 发明公开

KR1020160083098A 높은 규산 함량을 갖는 티탄 도핑 유리 및 플루오르 도핑 유리로부터 블랭크의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：从具有高硅酸含量的钛和氟树脂玻璃生产空白的方法
公开(公告)号：KR1020160083098A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：KR1020167015089
申请日：2014-11-06
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 오크스슈테판 , 베커클라우스
IPC分类号： C03B19/06 , C03B19/14 , C03B19/10 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B19/066 , C03B19/106 , C03B19/1095 , C03B19/14 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G03F1/24
摘要： 본발명은사용온도를초과하는열팽창계수가가능하다면안정하게 0으로유지되는, EUV 리소그래피에서사용하기위한구체적인플루오르함량을갖는티탄도핑, 높은규산성유리로부터블랭크를제조하는방법에관한것이다. Ti-도핑실리카유리의열팽창계수의코스(course)는다수의영향인자에의존한다. 절대적티탄함량에더하여, 플루오르와같은추가도핑소자의비율및 분포와같이티탄의분포가상당한중요성을가진다. 본발명에따라서방법은규소및 티탄을함유하는유입기질의화염가수분해에의하여 TiO-SiO수트입자가생성되는방법단계및 TiO-SiO수트입자가이동분말베드내의플루오르함유시약에노출되고플루오르도핑 TiO-SiO수트입자로전환되는연속적인방법단계를포함하는합성공정을특징으로하는, 플루오르도핑 TiO-SiO수트입자가생성되고경화를통해더 가공되고블랭크로유리화되는합성공정을포함한다.

5. 发明授权

KR101715481B1 EUV 리소그래피에서 사용하기 위한 미러 기판용의 티타늄 도핑 실리카 유리로 이루어진 블랭크 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：用于EUV光刻的用于镜面基板的钛掺杂石英玻璃制成的坯体及其制造方法
公开(公告)号：KR101715481B1
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：KR1020150091230
申请日：2015-06-26
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 벡커클라우스 , 오크스슈테판 , 토마스슈테판
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/66 , H01L21/027
CPC分类号： C03B23/04 , C03B19/066 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/06 , C03B2201/075 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/10 , C03C2203/50 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/7095
摘要： EUV 리소그래피에서사용하기위한미러기판용의티타늄도핑실리카유리로이루어진블랭크및 그제조방법 EUV 리소그래피에서사용하기위한미러기판용의티타늄도핑실리카유리로이루어진블랭크에서, 광학적으로사용되는영역(CA)이관례대로(normally) 정의된다. CA 내에서, 열팽창계수(coefficient of thermal expansion; CTE)는블랭크의두께에걸쳐평균된 2차원 dCTE 분포프로파일을구비하는데, 이경우 CTE 최대값과 CTE 최소값사이의차이로서정의되는최대불균질성(dCTE)은 5 ppb/K 미만이다. 높은 CTE 불균질성값은티타늄이산화물농도의개별적으로적응된위치의존적조정을통해방지되는것이알려져있다. 비교적높은절대 CTE 불균질성값은사용동안발생하는조사(irradiation) 프로파일이원 대칭을나타내는경우에만수용될수 있다. 이로부터시작하여, 티타늄이산화물농도의개별적으로적응되는위치의존적인조정없이도비원형조사프로파일과함께사용하기위해설계되고적합된티타늄도핑실리카유리로만들어진블랭크를제조하기위해, 본발명에따르면, dCTE가적어도 0.5 ppb/K이고, CA가영역의도심을갖는비원형영역을형성하는것이제안되는데, dCTE 분포프로파일은회전대칭이아니며, 단위길이에대해정규화되고영역의도심을통해연장하는직선프로파일섹션이 0.5×dCTE미만의밴드폭)을갖는곡선밴드를형성하는곡선의 dCTE 패밀리를산출하도록, CA에걸쳐정의된다.
摘要翻译：在由在空白使用的镜基板和制造该EUV光刻由在EUV光刻使用的镜基板的钛掺杂的二氧化硅玻璃的方法的一个玻璃的掺杂钛的氧化硅坯料，光学区域（CA）它被用于传送病人通常定义。在CA，热膨胀系数（热膨胀系数; CTE）的系数是最大凹凸（dCTE），其被定义为到提供二维dCTE分布轮廓平均在坯料的厚度，在这种情况下的差热膨胀系数的最大值和CTE最小值 5 ppb / K。众所周知，通过单独调整氧化物浓度的位置相关调整，钛可以防止高CTE异质性值。相对高的绝对CTE不均匀性值可以仅当在使用过程中发生的显示圆对称的照射（照射）简档被容纳。由此出发，钛是由钛合金掺杂的二氧化硅玻璃的设计和适合于与比圆形照射轮廓使用而无需分别定位适于氧化物浓度依赖性调整的坯件的制造中，根据本发明，dCTE 本直的轮廓部上延伸至少0.5 ppb的/ K，并且haneungeot形成具有CA gayoung站的基座现在的非圆形区域不应该，dCTE分布曲线的中心不是旋转对称的，并归一化到单位长度区域 dCTE以产生一个家庭，形成具有小于0.5×dCTE的带宽的弯曲带曲线）时，在所述限定的CA.

6. 发明公开

KR1020160043022A ＥＵＶ 리소그래피에 사용하기 위한 티탄 도핑 실리카 유리의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 블랭크 审中-实审
标题翻译：用于生产钛酸二氧化硅玻璃的方法，用于根据其生产的EUV光刻和空白
公开(公告)号：KR1020160043022A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：KR1020167006430
申请日：2014-07-22
申请人： 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 오크스슈테판 , 베커클라우스 , 토마스슈테판
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06 , G03F1/60
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/00 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/46 , C03C2203/52 , C03C2204/00 , G03F1/52 , G03F1/60
摘要： Ti-도핑실리카유리중에존재하는 Ti이온은유리의갈변을야기하므로, 렌즈의검사를더 어렵게한다. 수소의외부확산에의한내부산화를야기하는충분히높은비율의 OH기에의하여또는 OH기의비율이낮은경우높은처리온도및 특별한방부식노를필요로하여비용이많이드는유리화전 산소처리를실시함으로써 Ti-도핑실리카유리에서 Ti이온을위하여 Ti이온의감소를보장하는것은공지되어있다. 불꽃가수분해수트침착법에기초한, 120 ppm 미만의히드록실기함량에서 400 nm 내지 1000 nm의파장범위에서의내부투과율(샘플두께 10 mm)이 70% 이상인 Ti-도핑실리카유리의비용효율적인제조방법을제공하기위하여, 본발명에따르면유리화전에 TiO-SiO수트체에산화질소처리를포함한컨디셔닝처리를실시할것을제안한다. Ti-도핑실리카유리로부터이러한방식으로제조된블랭크는 Ti/Ti비가 5 x 10이하인것을특징으로한다.

7. 发明授权

KR100842203B1 광학 부재용 석영 유리 블랭크, 그 제조 방법 및 이용 방법 有权
标题翻译：用于光学元件的QUARTZ玻璃空白及其制造程序及其用途
公开(公告)号：KR100842203B1
公开(公告)日：2008-06-30
申请号：KR1020020076622
申请日：2002-12-04
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 큔보도 , 위빙브르노 , 트로머마르틴 , 오크스슈테판 , 카이저슈테픈 , 비드라얀 , 토마스슈테판
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0071 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要： 본 발명은 파장이 250 nm 이하인 자외선 방사를 투과하는 광학 부재용 석영 유리 블랭크 및 파장이 250 nm 이하인 자외선 방사와 결합하여 마이크로리소그래피에서 석영 유리 블랭크를 이용하는 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 석영 유리 블랭크의 제조 방법에 관한 것이다.
상술한 유형의 석영 유리 블랭크는, 유도 흡수를 거의 나타내지 않으며, 컴팩션과 디컴팩션의 면에서 최적화된 것이다. 본 발명에 의한 석영 유리 블랭크는 다음과 같은 특성들을 갖는다.
실질적으로 산소 결함 사이트가 없는 유리 구조,
0.1 ×10
16 분자/cm
3 내지 4.0 ×10
16 분자/cm
3 의 범위인 H
2 함량,
125 중량ppm 내지 450 중량ppm 의 범위인 OH 함량,
5 ×10
16 분자/cm
3 미만인 SiH 기 함량,
2 ppm 미만의 굴절률의 불균일도 △n, 및
2 nm/cm 미만의 변형 복굴절.
본 발명에 의한 이용법에 있어서, 석영 유리 블랭크는, 펄스수를 P 라 하고 에너지 밀도를 ε라 할 때 최소 수소 함량 C
H2min 과 최대 수소 함량 C
H2max 및 OH 함량 C
OH 의 면에서, 디멘셔닝 (dimensioning) 법칙 (2), (3) 및 (4) 을 만족시키는 것이다.
C
H2min [분자/cm
3 ] = 1 ×10
6 ε
2 P (2)
C
H2max [분자/cm
3 ] = 2 ×10
18 ε (3)
C
OH [중량ppm] = 1700 ×ε[mJ/cm
2 ]
0.4 ±50 (4)
본 발명에 의한 방법은, 균일화 처리를 거친 2 개의 석영 유리들을 혼합함으로써, 제 1 및 제 2 석영 유리로부터 혼합 석영 유리를 생성하는 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1020030047752A 광학 부재용 석영 유리 블랭크, 그 제조 방법 및 이용 방법 有权
标题翻译：用于光学部件的QUARTZ玻璃棉，制造程序及其用途
公开(公告)号：KR1020030047752A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：KR1020020076622
申请日：2002-12-04
申请人： 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 , 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
发明人： 큔보도 , 위빙브르노 , 트로머마르틴 , 오크스슈테판 , 카이저슈테픈 , 비드라얀 , 토마스슈테판
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0071 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要： PURPOSE: A quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, a use of the quartz glass blank in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter, and a procedure for manufacture of the quartz glass blank are provided. CONSTITUTION: In a quartz glass blank for an optical component for transmission of ultraviolet radiation with a wavelength of 250 nm or shorter, the quartz glass blank is characterized by a glass structure that is essentially free of oxygen defect sites, an H2-content in the range of 0.1x10¬16 molecules/cm¬3 to 4.0x10¬16 molecules/cm¬3, an OH-content in the range of 125 wt-ppm to 450 wt-ppm, an SiH group-content of less than 5x10¬16 molecules/cm¬3, a refractive index inhomogeneity, Δn, of less than 2 ppm, and a stress birefringence of less than 2 nm/cm, wherein OH-content of the quartz glass blank is in the range of 200 wt-ppm to 350 wt-ppm. The use of a quartz glass blank for the manufacture of a component for use in microlithography in combination with ultraviolet radiation of a wavelength of 250 nm or shorter is characterized in that a quartz glass is selected for a given pulse number, P, the quartz glass possessing a minimal hydrogen content, C(H2min), and a maximal hydrogen content, C(H2max), both of which comply with the following dimensioning rules: C(H2min)£molecules/cm¬3|=1.0x10¬6xε¬2xP, and C(H2max)£molecules/cm¬3|=2.0x10¬18xε, (ε=pulse energy density, in mJ/cm¬2).
摘要翻译：目的：用于传输波长为250nm或更短波长的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料，微波平版印刷中的石英玻璃毛坯与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合以及程序提供石英玻璃坯料的制造。构成：在用于透射波长为250nm或更短的紫外线辐射的光学部件的石英玻璃坯料中，石英玻璃坯料的特征在于基本上不含氧缺陷部位的玻璃结构，范围为0.1×10 16分子/ cm 3至4.0×10 16分子/ cm 3，OH含量为125重量ppm至450重量ppm，SiH基含量小于5×101- 16分子/ cm 3，折射率不均匀性Δn小于2ppm，应力双折射小于2nm / cm，其中石英玻璃毛坯的OH含量在200重量ppm的范围内至350重量ppm。使用石英玻璃坯料制造用于微光刻的组件与波长为250nm或更短的紫外线辐射的组合的特征在于，对于给定的脉冲数P选择石英玻璃，石英玻璃具有最小氢含量，C（H2min）和最大氢含量C（H2max），两者均符合以下尺寸规则：C（H 2min）£分子/ cm -3 | = 1.0×10 6×ε2×P ，C（H2max）£分子/ cm -3 | = 2.0×10 18×ε，（ε=脉冲能量密度，单位为mJ / cm 2）。

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