会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明公开
    • 플라즈마를 이용한 Si-C 복합체 제조장치 및 이를 이용한 Si-C 복합체 제조방법
    • 使用等离子体源的SI-C的制造装置和使用其的制造方法
    • KR1020160009817A
    • 2016-01-27
    • KR1020140090084
    • 2014-07-16
    • 한국에너지기술연구원
    • 장보윤구정분김준수이진석
    • B01J19/08C01B31/36
    • B01J19/08B01J19/18C01B32/956
    • 플라즈마를이용한실리콘-탄소(Si-C) 복합체를제조하는기술에관한것으로, 보다상세하게는플라즈마를이용하여실리콘나노입자를형성하고, 실리콘나노입자와탄소를복합화하는 Si-C 복합체제조장치및 제조방법에관하여개시한다. 본발명은반응공간을제공하는반응챔버; 상기반응챔버의상측에구비되며, 플라즈마를발생시켜실리콘전구체를분해하여 Si 입자를생성하는플라즈마토치부; 상기반응챔버내부에구비되며, 상기반응챔버내부로공급되는 Si 입자를냉각하는냉각부; 및상기반응챔버내부로탄소구조체를공급하는탄소체공급부;를포함하고, 상기반응챔버내부에서상기실리콘입자와상기탄소구조체가복합화되는것을특징으로하는플라즈마를이용한 Si-C 복합체제조장치를제공한다.
    • 本发明涉及一种通过使用等离子体制造硅 - 碳(Si-C)络合物的技术,更具体地说,涉及用于通过使用等离子体形成硅纳米颗粒并用于使硅复合的Si-C复合物的制造装置 纳米颗粒和碳。 本发明包括:用于提供反应空间的反应室; 设置在反应室上侧的等离子体焰炬单元,用于通过产生等离子体并降解硅前体产生Si颗粒; 设置在反应室内的用于冷却供应到反应室内部的Si粒子的冷却单元; 以及用于将碳结构供给到反应室内部的碳体供给单元。 提供了使用等离子体的Si-C复合体的制造装置,其中硅颗粒和碳结构在反应室内络合。
    • 10. 发明授权
    • 실리콘 나노 입자 제조장치
    • 硅胶无颗粒发生装置
    • KR101439184B1
    • 2014-09-12
    • KR1020130036854
    • 2013-04-04
    • 한국에너지기술연구원
    • 장보윤김준수이진석
    • C01B33/021B01J19/26B82B1/00
    • C01B33/027B01J19/088B01J2219/0894C01P2004/64
    • In a silicon nanoparticle generating apparatus of the present invention, non-reacting and non-degraded silane gas (SiH_4) created in a plasma area of inductive coupled plasma (ICP) producing nanoparticles by chemical reaction induction forms pressure by being collected to an inner room of a reaction path, as included is a gas circulating device (10) re-supplying non-reacting and non-degraded silane gas (SiH_4) toward the ICP because of increased pressure in the inner room. Thus, preparation efficiency of silicon nanoparticles is greatly increased while use of silane gas (SiH_4) is decreased due to utilization of the non-reacting and non-degraded silane gas (SiH_4), and particularly, preparation costs are reduced through increase of preparation efficiency, while the scrubbing amount for removing non-reacting and non-degraded silane gas (SiH_4), is also significantly decreased.
    • 在本发明的硅纳米颗粒发生装置中,通过化学反应诱导产生的感应耦合等离子体(ICP)等离子体(ICP)等离子体区域中产生的非反应性和非劣化性硅烷气体(SiH 4)通过收集到内部空间而形成压力 包括的反应路径是由于内部室内的压力增加而向ICP提供非反应性和非劣化性硅烷气体(SiH_4)的气体循环装置(10)。 因此,由于利用非反应性和非劣化性硅烷气体(SiH_4),硅烷气体(SiH_4)的使用量降低,因此硅纳米粒子的制备效率大大提高,特别是通过提高制备效率来降低制备成本 ,而用于除去非反应性和未劣化的硅烷气体(SiH_4)的洗涤量也显着降低。