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1. 发明公开

KR1020060126665A 레이저 박막 폴리실리콘 어닐링 시스템 有权
标题翻译：激光薄膜聚硅氧烷退火系统
公开(公告)号：KR1020060126665A
公开(公告)日：2006-12-08
申请号：KR1020067012236
申请日：2004-11-12
申请人： 티씨제트 엘엘씨
发明人： 파트로윌리엄엔 , 다스팔라쉬피 , 허다이마러셀 , 토마스마이클
IPC分类号： B23K26/0622
CPC分类号： H01S3/0818 , B23K26/042 , B23K26/0622 , B23K26/0738 , B23K26/705 , H01L21/02532 , H01L21/02675 , H01S3/225 , H01S3/2255 , H01S3/2308 , H01S3/2366
摘要： A gas discharge laser crystallization apparatus and method for performing a transformation of a crystal makeup or orientation in a film on a workpiece is disclosed, which may comprise a master oscillator power amplifier MOPA or power oscillator power amplifier configured XeF laser system producing a laser output light pulse beam at a high repetition rate and high power with a pulse to pulse dose control; an optical system producing an elongated thin pulsed working beam from the laser output light pulse beam. The apparatus may further comprise the laser system is configured as a POPA laser system and further comprising: relay optics operative to direct a first output laser light pulse beam from a first laser PO unit into a second laser PA unit; and, a timing and control module timing the creation of a gas discharge in the first and second laser units within plus or minus 3 ns, to produce the a second laser output light pulse beam as an amplification of the first laser output light pulse beam. The system may comprise divergence control in the oscillator laser unit. Divergence control may comprise an unstable resonator arrangement. The system may further comprise a beam pointing control mechanism intermediate the laser and the workpiece and a beam position control mechanism intermediate the laser and the workpiece. Beam parameter metrology may provide active feedback control to the beam pointing mechanism and active feedback control to the beam position control mechanism.
摘要翻译：公开了一种气体放电激光结晶装置和方法，用于在工件上的膜中进行晶体补偿或取向的变换，其可以包括主振荡器功率放大器MOPA或功率振荡器功率放大器，配置XeF激光系统，产生激光输出光脉冲束以高重复率和高功率脉冲到脉冲剂量控制; 从激光输出光脉冲光束产生细长脉冲工作光束的光学系统。该装置还可以包括激光系统被配置为POPA激光系统，并且还包括：可操作地将来自第一激光PO单元的第一输出激光束脉冲光束引导到第二激光器PA单元中的中继光学器件; 并且定时和控制模块定时在正或负3ns内在第一和第二激光单元中产生气体放电，以产生第二激光输出光脉冲束作为第一激光输出光脉冲光束的放大。该系统可以包括振荡器激光单元中的发散控制。发散控制可以包括不稳定的谐振器装置。该系统还可以包括在激光和工件之间的光束指向控制机构和在激光和工件之间的光束位置控制机构。光束参数测量可以向光束指向机构提供主动反馈控制，并向光束位置控制机构提供主动反馈控制。

2. 发明授权

KR101167324B1 레이저 박막 폴리실리콘 어닐링 광학 시스템 有权
标题翻译：激光薄膜聚硅氧烷退火光学系统
公开(公告)号：KR101167324B1
公开(公告)日：2012-07-19
申请号：KR1020067012238
申请日：2004-11-12
申请人： 티씨제트 엘엘씨
发明人： 파트로윌리엄엔 , 다스팔라쉬피 , 허다이마러셀 , 토마스마이클
IPC分类号： B23K26/0622
CPC分类号： B23K26/0732 , B23K26/0622 , B23K26/0738 , C30B1/023 , C30B13/24 , H01L21/02686 , H01L21/2026
摘要： 고 에너지, 고 반복율로 가공물 표면을 가열하는 방법 및 장치가 개시되며, 이 장치는, 4000 Hz 이상에서 동작하며 약 351 nm의 중심 파장에서 레이저 출력 광 펄스 빔을 생성하는 펄스형 XeF 레이저와, 상기 레이저 출력 광 펄스 빔을 그 레이저 출력 광 펄스 빔의 단축에서 20 ㎛ 미만으로 폭을 감축시키고 상기 빔의 장축에서 그 장축의 범위를 커버하는 가공물을 형성하도록 상기 레이저 출력 광 펄스 빔을 확장시키며 상기 레이저와 가공물 사이에 필드 조리개를 포함하는 광학 시스템과, 가열 대상층을 포함하는 가공물을 포함하고, 상기 광학 시스템은 상기 레이저 출력 광 펄스 빔을, 충분히 경사가 가파른 측벽을 갖는 세기 프로파일을 유지하도록 충분하게 확대하여 필드 조리개에서 포커스 맞추어, 너무 높은 세기 레벨에서 빔 프로파일을 차단하는 일 없이 상기 빔 필드 조리개로 하여금 충분히 경사가 가파른 빔 프로파일을 상기 가공물에 유지하게 한다. 또한, 이 장치는 상기 가공물에 전달될 때 상기 레이저 출력 광 펄스 빔에서 높은 평균 전력을 포함하고, 단축 광학 어셈블리에서 라인 보타이 교정 기구를 구비한다. 라인 보타이 교정 기구는 복수의 약한 크로스 실린더를 포함할 수 있다. 광학 시스템은 반사 굴절 망원 투사 시스템(catadiotric projection system)을 포함할 수 있다. 레이저 회절와 발산으로 인한 선폭은 기하학적인 제한보다 적다. 광학 시스템은 공칭 XeF 스펙트럼의 인접한 피크를 투사하여, 가공물에서 서로 다른 포커스 면을 갖는 각각 인접하는 피크의 개별 중심 파장을 통해 전체 포커스 깊이를 강화하게 할 수 있다. 광학 시스 템은 필드 조리개 면에서 라인 보타이를 교정하는 필드 조리개 광학 어셈블리 내에, 그리고 가공물 면에서 라인 보타이를 교정하는 가공물 투사 광학 어셈블리 내에 라인 보타이 교정 기구를 포함할 수 있다.

3. 发明公开

KR1020060126666A 레이저 박막 폴리실리콘 어닐링 광학 시스템 有权
标题翻译：激光薄膜聚硅氧烷退火光学系统
公开(公告)号：KR1020060126666A
公开(公告)日：2006-12-08
申请号：KR1020067012238
申请日：2004-11-12
申请人： 티씨제트 엘엘씨
发明人： 파트로윌리엄엔 , 다스팔라쉬피 , 허다이마러셀 , 토마스마이클
IPC分类号： B23K26/0622
CPC分类号： B23K26/0732 , B23K26/0622 , B23K26/0738 , C30B1/023 , C30B13/24 , H01L21/02686 , H01L21/2026
摘要： A high energy, high repetition rate workpiece surface heating method and apparatus are disclosed which may comprise a pulsed XeF laser operating operating at or above 4000 Hz and producing a laser output light pulse beam at a center wavelength of about 351 nm; an optical system narrowing the laser output light pulse beam to less than 20 mum in a short axis of the laser output light pulse beam and expanding the laser output light pulse beam to form in a long axis of the beam workpiece covering extent of the long axis; the optical system including a field stop intermediate the laser and the workpiece; the workpiece comprising a layer to be heated; wherein the optical system focuses the laser output light pulse beam at a field stop with a magnification sufficient to maintain an intensity profile that has sufficiently steep side walls to allow the field stop to maintain a sufficiently steep beam profile at the workpiece without blocking the beam profile at too high an intensity level 2. The apparatus may also have a high average power in the laser output light pulse beam as delivered to the workpiece and a linebow correction mechanism in a short axis optical assembly. The linebow correction mechanism may comprise a plurality of weak cross cylinders. The system may comprise a catadioptric projection system. The line width due to laser diffraction and divergence may be less than geometric limitations. The system may project adjacent peaks of the nominal XeF spectrum to improve overall depth of focus through the separate center wavelengths of each respective adjacent peak having a different focal plane at the workpiece. The system may comprise a linebow is correction mechanism within a field stop optical assembly correcting linebow at the field stop plane and within a workpiece projection optical assembly correcting linebow at the workpiece plane.
摘要翻译：公开了一种高能量，高重复率的工件表面加热方法和装置，其可以包括在4000Hz以上工作的脉冲XeF激光器，并在约351nm的中心波长处产生激光输出光脉冲光束; 光学系统将激光输出光脉冲光束在激光输出光脉冲光束的短轴上变窄到小于20μm，并且扩大激光输出光脉冲光束以在长轴的工件覆盖范围的长轴上形成 ; 该光学系统包括在激光和工件之间的中止场; 所述工件包括待加热层; 其中所述光学系统将激光输出光脉冲光束在场停止处以足以保持具有足够陡峭侧壁的强度分布的放大倍率来允许场停止在工件处保持足够陡峭的光束轮廓而不阻挡光束轮廓在太高的强度水平2.该装置还可以在输送到工件的激光输出光脉冲光束中具有高的平均功率，以及在短轴光学组件中具有弯管校正机构。弯管矫正机构可以包括多个弱交叉圆筒。该系统可以包括反折射投影系统。由激光衍射和发散引起的线宽可能小于几何限制。该系统可以投射标称XeF谱的相邻峰值，以通过在工件处具有不同焦平面的各个相邻峰值的分开的中心波长来提高整体焦深。系统可以包括在场停止光学组件中的弯头矫正机构，其在场停止平面处以及工件投影光学组件中在工件平面处校正弯头。

4. 发明授权

KR101115077B1 레이저 박막 폴리실리콘 어닐링 시스템 有权
标题翻译：激光薄膜聚硅氧烷退火系统
公开(公告)号：KR101115077B1
公开(公告)日：2012-02-28
申请号：KR1020067012236
申请日：2004-11-12
申请人： 티씨제트 엘엘씨
发明人： 파트로윌리엄엔 , 다스팔라쉬피 , 허다이마러셀 , 토마스마이클
IPC分类号： B23K26/0622
CPC分类号： H01S3/0818 , B23K26/042 , B23K26/0622 , B23K26/0738 , B23K26/705 , H01L21/02532 , H01L21/02675 , H01S3/225 , H01S3/2255 , H01S3/2308 , H01S3/2366
摘要： 가공물 상에서의 막의 결정 결정 또는 배향을 변형시키는 가스 방전 레이저 결정화 장치 및 방법이 개시되며, 이 장치는 펄스간 조상량을 제어하여 반복율과 고 전력으로 레이저 출력 광 펄스 빔을 생성하는, 마스터 오실레이터 전력 증폭기(MOPA) 또는 전력 오실레이터 전력 증폭기(POPA)로 구성된 XeF 레이저 시스템과, 레이저 출력 광 펄스 빔으로부터 가늘고 긴 가공 빔을 생성하는 광학 시스템을 포함할 수 있다. 이 장치는 POPA 레이저 시스템으로서 구성된 레이저 시스템을 더 포함할 수 있고, 제1 레이저 전력 오실레이터(PO) 유닛으로부터의 제1 레이저 출력 광 펄스 빔을 제2 레이저 전력 증폭기(PA) 유닛으로 지향하도록 동작하는 릴레이 광학계와, 제1 및 제2 레이저 유닛 내의 가스 방전 발생 타이밍을 ±3 ns 내에서 맞추어 제2 레이저 출력 광 펄스 빔을 제1 레이저 출력 광 펄스 빔의 증폭으로서 생성하게 하는 타이밍 및 제어 모듈을 더 포함할 수 있다. 시스템은 오실레이터 레이저 유닛 내에 발산 제어부를 포함할 수 있다. 발산 제어부는 불안정 공진 장치를 포함할 수 있다. 시스템은 레이저와 가공물 사이에 빔 지향 제어 기구를, 레이저와 가공물 사이에 빔 위치 제어 기구를 더 포함할 수 있다. 빔 파리미터 계측부는 유효 피드백 제어를 빔 지향 기구에, 유효 피드백 제어를 빔 위치 제어 기구에 제공할 수 있다.

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