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1. 发明授权

KR101554354B1 페닐기 치환 １，３，５―트라이아진 화합물 有权
标题翻译：苯基 - 取代的135-三唑化合物
公开(公告)号：KR101554354B1
公开(公告)日：2015-09-18
申请号：KR1020137028147
申请日：2008-03-14
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 아이하라히데노리 , 야나이나오코 , 타나카츠요시 , 혼마요코 , 사토마사루
IPC分类号： C07D401/10 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0067 , C07D251/24 , C07D401/10 , C07D401/14 , H01L51/5048 , H05B33/22
摘要： 본발명은하기일반식 3으로표시되는화합물에관한것이다: [일반식 3][식중, Ar및 Ar는각각독립적으로페닐기, 나프틸기또는바이페닐릴기를나타내고, 이들기는탄소수 1 내지 6의알킬기또는트라이플루오로메틸기로 1개이상치환되어있어도된다. R, R및 R는각각독립적으로수소원자또는메틸기를나타낸다. Y및 Y는각각독립적으로염소원자, 브롬원자, 요오드원자또는트라이플루오로메틸설포닐옥시기를나타낸다]. 상기화합물은유기전계발광소자로서유용하다.

2. 发明授权

KR101388688B1 퍼플루오로알킬기를 가진 핵산 염기 및 그 제조방법 有权
标题翻译：具有全氟烷基的核酸基及其生产方法
公开(公告)号：KR101388688B1
公开(公告)日：2014-04-24
申请号：KR1020087010998
申请日：2006-11-06
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에프테크 인코퍼레이티드 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 야마모토쿄코 , 우라구치다이스케 , 토쿠히사켄지
IPC分类号： C07D239/54 , C07D473/34 , C07D239/22 , C07D473/10
CPC分类号： C07D473/04 , C07D473/10
摘要： 퍼플루오로알킬기를 가진 핵산 염기의 간편하고 또한 효율적인 제조방법을 제공한다. 설폭사이드류, 과산화물 및 철화합물의 존재 하, 할로겐화 퍼플루오로알킬류와 핵산 염기(예를 들어, 유라실류, 사이토신류, 아데닌류, 구아닌류, 하이포잔틴류 또는 잔틴류 등)를 반응시킴으로써, 의약 중간체로서 유용한 퍼플루오로알킬핵산 염기를 경제성 양호하게 제조한다.
핵산 염기핵산 염기알킬기, 설폭사이드류, 과산화물, 철화합물

3. 发明公开

KR1020090059112A 이미드 착체, 그 제조방법, 금속 함유 박막 및 그 제조방법 有权
标题翻译：复合物，其制造方法，含金属薄膜及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090059112A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：KR1020097003915
申请日：2007-08-20
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 타다켄이치 , 후루카와타이시 , 이나바코이치로 , 요츠야타다히로 , 치바히로카즈 , 야마모토토시키 , 야마카와테츠 , 오시마노리아키
IPC分类号： C07F9/00 , H01L49/02
CPC分类号： C23C16/18 , C01G33/00 , C01G35/00 , C01P2002/88 , C07C211/65 , C07C251/08 , C07F9/005 , C23C16/405
摘要： Disclosed is a novel niobium or tantalum complex having a good vapor pressure, which can be a raw material for producing a niobium-or tantalum-containing thin film by CVD, ALD or the like. Also disclosed are a method for producing such a novel niobium or tantalum complex, a metal-containing thin film using the complex, and a method for producing such a metal-containing thin film. Specifically disclosed is an imide complex represented by the general formula (1) below, which is produced by a reaction between, for example, M1(NR1)X3(L)r (2) and an alkaline metal alkoxide (3). [chemical formula 1] (2) (3) (1) (In the formula, M1 represents a niobium atom or a tantalum atom; R1 represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms; R2 represents an alkyl group having 2-13 carbon atoms; X represents a halogen atom; r represents 1 when L represents an 1,2-dimethoxyethane ligand, while r represents 2 when L represents a pyridine ligand; and M2 represents an alkali metal.) Also specifically disclosed is a niobium-or tantalum-containing thin film produced by using the imide complex (1) as a raw material.
摘要翻译：公开了具有良好蒸气压的新型铌或钽络合物，其可以是用于通过CVD，ALD等制造含铌或钽的薄膜的原料。还公开了制造这种新型铌或钽络合物的方法，使用该复合物的含金属的薄膜以及这种含金属薄膜的制造方法。具体公开的是由下列通式（1）表示的由例如M1（NR1）X3（L）r（2）和碱金属醇盐（3）之间的反应产生的酰亚胺络合物。 [化学式1]（2）（3）（1）（式中，M1表示铌原子或钽原子，R1表示碳原子数1〜12的烷基，R2表示2〜碳原子; X表示卤素原子;当L表示1,2-二甲氧基乙烷配体时，r表示1，而当L表示吡啶配体时，r表示2，M2表示碱金属。）还具体公开了铌 - 通过使用酰亚胺络合物（1）作为原料制造的含钽薄膜。

4. 发明公开

KR1020080066021A 퍼플루오로알킬기를 가진 핵산 염기 및 그 제조방법 有权
标题翻译：具有全氟烷基的核酸基及其生产方法
公开(公告)号：KR1020080066021A
公开(公告)日：2008-07-15
申请号：KR1020087010998
申请日：2006-11-06
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에프테크 인코퍼레이티드 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 야마모토쿄코 , 우라구치다이스케 , 토쿠히사켄지
IPC分类号： C07D239/54 , C07D473/34 , C07D239/22 , C07D473/10
CPC分类号： C07D473/04 , C07D473/10
摘要： It is intended to provide a simple and efficient method for producing a nucleic acid base having a perfluoroalkyl group. In the presence of a sulfoxide, a peroxide and an iron compound, by reacting a halogenated perfluoroalkyl and a nucleic acid base (for example, a uracil, a cytosine, an adenine, a guanine, a hypoxanthine, a xanthine or the like), a perfluoroalkyl nucleic acid base useful as a pharmaceutical intermediate is economically produced.
摘要翻译：旨在提供一种用于生产具有全氟烷基的核酸碱基的简单有效的方法。通过使卤代全氟烷基和核酸碱（例如尿嘧啶，胞嘧啶，腺嘌呤，鸟嘌呤，次黄嘌呤，黄嘌呤等）反应，在亚砜，过氧化物和铁化合物的存在下，用作药物中间体的全氟烷基核酸碱是经济地生产的。

5. 发明授权

KR101215086B1 탄탈 화합물, 그 제조 방법, 탄탈 함유 박막 및 그 형성방법 有权
标题翻译：钛化合物，其制造方法，含有薄膜的薄膜及其形成方法
公开(公告)号：KR101215086B1
公开(公告)日：2012-12-24
申请号：KR1020077019471
申请日：2006-01-25
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 세키모토켄이치 , 타다켄이치 , 타카모리마유미 , 야마카와테츠 , 후루카와타이시 , 오시마노리아키
IPC分类号： C07F9/00 , C07F19/00 , C23C16/00 , H01L21/44
CPC分类号： C23C16/18 , C07F17/00
摘要： (식중, j, k, m 및 n은, j+k=5 및 m+n=5를만족시키는 1 내지 4의정수이고, R내지 R는수소원자, 탄소수 1 내지 6의알킬기등을나타냄).

6. 发明公开

KR1020130124991A 페닐기 치환 １，３，５―트라이아진 화합물 有权
标题翻译：苯基取代1,3,5-三嗪化合物
公开(公告)号：KR1020130124991A
公开(公告)日：2013-11-15
申请号：KR1020137028147
申请日：2008-03-14
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 아이하라히데노리 , 야나이나오코 , 타나카츠요시 , 혼마요코 , 사토마사루
IPC分类号： C07D401/10 , C07D401/14 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0067 , C07D251/24 , C07D401/10 , C07D401/14 , H01L51/5048 , H05B33/22 , H01L51/5016 , H01L51/5076
摘要： A phenyl-substituted1,3,5-triazine compound represented by the general formula (1): wherein Ar 1 and Ar 2 independently represent substituted or unsubstituted phenyl, naphthyl or biphenylyl group; R 1 , R 2 and R 3 independently represent hydrogen atom or methyl group; X 1 and X 2 independently represent substituted or unsubstituted phenylene, naphthylene or pyridylene group; p and q independently represent an integer of 0 to 2; and Ar 3 and Ar 4 independently represent substituted or unsubstituted pyridyl or phenyl group. This compound is suitable for an organic electroluminescent device.

7. 发明公开

KR1020080031935A 금속 함유 화합물, 그 제조 방법, 금속 함유 박막 및 그형성 방법 有权
标题翻译：含金属化合物，其制造方法，含金属薄膜及其形成方法
公开(公告)号：KR1020080031935A
公开(公告)日：2008-04-11
申请号：KR1020087002751
申请日：2006-07-28
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 타다켄이치 , 이나바코이치로 , 후루카와타이시 , 야마카와테츠 , 오시마노리아키
IPC分类号： C07F7/00 , C07F5/06 , C07F5/00
CPC分类号： H01L21/3141 , C07C257/14 , C07F5/003 , C07F5/069 , C07F7/006 , C23C16/18 , C23C16/40
摘要： A compound which has thermal stability and moderate vaporizability and is satisfactory as a material for the CVD or ALD method; a process for producing the compound; a thin film formed from the compound as a raw material; and a method of forming the thin film. A compound represented by the general formula (1) is produced by reacting a compound represented by the general formula (2) with a compound represented by the general formula (3). The compound produced is used as a raw material to form a metal-containing thin film. [Chemical formula 1] (1) [Chemical formula 2] (2) [Chemical formula 3] Mp(NR4R5) q (3) (In the formulae, M represents a Group 4 element, aluminum, gallium, etc.; n is 2 or 3 according to cases; R1 and R 3 each represents C1-6 alkyl, etc.; R2 represents C1-6 alkyl, etc.; R4 and R5 each represents C1-4 alkyl, etc.; X represents hydrogen, lithium, or sodium; p is 1 or 2 according to cases; and q is 4 or 6 according to cases.)
摘要翻译：具有热稳定性和适度可燃性并且作为CVD或ALD方法的材料令人满意的化合物; 一种制备该化合物的方法; 由化合物作为原料形成的薄膜; 以及形成薄膜的方法。由通式（1）表示的化合物通过使由通式（2）表示的化合物与通式（3）表示的化合物反应来制备。所制备的化合物用作原料以形成含金属的薄膜。 [化学式1]（1）[化学式2]（2）[化学式3] Mp（NR4R5）q（3）（式中，M表示4族元素，铝，镓等; n为 2或3; R1和R3各自表示C1-6烷基等; R2表示C1-6烷基等; R4和R5各自表示C1-4烷基等; X表示氢，锂，或钠;根据情况，p为1或2;根据情况，q为4或6）

8. 发明授权

KR101482772B1 페닐기 치환 １，３，５―트라이아진 화합물, 그 제조방법 및 이것을 구성 성분으로 하는 유기 전계발광소자 有权
标题翻译：苯基取代的1,3,5-三嗪化合物，其制备方法和含有该组合物的有机电致发光器件
公开(公告)号：KR101482772B1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：KR1020097020256
申请日：2008-03-14
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 아이하라히데노리 , 야나이나오코 , 타나카츠요시 , 혼마요코 , 사토마사루
IPC分类号： C07D401/14 , C07D401/10 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0067 , C07D251/24 , C07D401/10 , C07D401/14 , H01L51/5048 , H05B33/22
摘要： 하기 일반식 1로 표시되는 페닐기 치환 1,3,5-트라이아진 화합물:
[일반식 1]

[식 중, Ar
1 및 Ar
2 는 독립적으로 치환 또는 미치환의 페닐기, 나프틸기 또는 바이페닐기를 나타내고, R
1 , R
2 및 R
3 는 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. X
1 및 X
2 는 독립적으로 치환 또는 미치환의 페닐렌기, 나프틸렌기 또는 피리딜렌기를 나타낸다. p 및 q는 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타낸다. Ar
3 및 Ar
4 는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 피리딜기 또는 페닐기를 나타낸다]. 상기 화합물은 유기 전계발광소자로서 유용하다.
페닐기 치환 1,3,5-트라이아진 화합물, 유기 전계발광소자

9. 发明公开

KR1020090130008A 페닐기 치환 １，３，５―트라이아진 화합물, 그 제조방법 및 이것을 구성 성분으로 하는 유기 전계발광소자 有权
标题翻译：苯基取代的1,3,5-三嗪化合物，其制备方法和含有该组合物的有机电致发光器件
公开(公告)号：KR1020090130008A
公开(公告)日：2009-12-17
申请号：KR1020097020256
申请日：2008-03-14
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 야마카와테츠 , 아이하라히데노리 , 야나이나오코 , 타나카츠요시 , 혼마요코 , 사토마사루
IPC分类号： C07D401/14 , C07D401/10 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0067 , C07D251/24 , C07D401/10 , C07D401/14 , H01L51/5048 , H05B33/22 , H01L51/0035 , H01L2924/01046
摘要： A phenyl-1,3,5-triazine compound represented by the general formula (1): (1) [wherein Arand Areach independently represents (un)substituted phenyl, naphthyl, or biphenyl; R, R, and Reach independently represents hydrogen or methyl; Xand Xeach independently represents (un)substituted phenylene, naphthylene, or pyridylene; p and q each independently is an integer of 0 to 2; and Arand Areach independently represents (un)substituted pyridyl or phenyl]. This compound is useful as an organic electroluminescent device.
摘要翻译：由通式（1）表示的苯基-1,3,5-三嗪化合物：（1）[其中ArandAe取代独立地表示（un）取代的苯基，萘基或联苯基; R，R和Reach独立地表示氢或甲基; Xand Xeach独立地表示（un）取代的亚苯基，亚萘基或亚吡啶基; p和q各自独立地为0〜2的整数; 和Arand Areach独立地表示（未）取代的吡啶基或苯基]。该化合物可用作有机电致发光器件。

10. 发明公开

KR1020070101352A 탄탈 화합물, 그 제조 방법, 탄탈 함유 박막 및 그 형성방법 有权
标题翻译：钛化合物，其制造方法，含有薄膜的薄膜及其形成方法
公开(公告)号：KR1020070101352A
公开(公告)日：2007-10-16
申请号：KR1020077019471
申请日：2006-01-25
申请人： 토소가부시키가이샤 , 코우에키자이단호오징 사가미 츄오 카가쿠겡큐쇼
发明人： 세키모토켄이치 , 타다켄이치 , 타카모리마유미 , 야마카와테츠 , 후루카와타이시 , 오시마노리아키
IPC分类号： C07F9/00 , C07F19/00 , C23C16/00 , H01L21/44
CPC分类号： C23C16/18 , C07F17/00
摘要： Disclosed is a novel tantalum compound which enables to selectively form a tantalum-containing film which does not include a halogen or the like, or a tantalum-containing film which includes a desired element. Also disclosed are a method for producing such a tantalum compound, and a method for forming a tantalum-containing film which includes a desired element. Specifically disclosed is a tantalum compound represented by the general formula (1) or (2) below. [Chemical formula 1] (1) (In the formula (1), R1 represents a straight-chain alkyl group having 2-6 carbon atoms.) [Chemical formula 2] (2) (In the formula (2), R 2 represents a straight-chain alkyl group having 2-6 carbon atoms.) Also specifically disclosed is a method for forming a tantalum-containing film by using a tantalum compound represented by the general formula (6) below as a raw material. [Chemical formula 3] (6) (In the formula (6), j, k, m and n respectively represent an integer of 1-4 satisfying j + k = 5 and m + n = 5; and R3-R6 respectively represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1-6 carbon atoms or the like.)
摘要翻译：公开了一种能够选择性地形成不含卤素等的含钽膜或包含所需元素的含钽膜的新型钽化合物。还公开了制造这种钽化合物的方法，以及包含所需元素的含钽膜的形成方法。具体公开了由下述通式（1）或（2）表示的钽化合物。 [化学式1]（1）（式（1）中，R 1表示碳原子数为2〜6的直链烷基。）[化学式2]（2）（式（2）中，R 2 代表具有2-6个碳原子的直链烷基。）还具体公开了通过使用由下述通式（6）表示的钽化合物作为原料来形成含钽膜的方法。 [化学式3]（6）（式（6）中，j，k，m和n分别表示满足j + k = 5且m + n = 5的整数1-4，R3-R6分别表示氢原子，具有1-6个碳原子的烷基等）

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