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1. 发明授权

KR101098798B1 히터와 웨이퍼 가열장치 및 히터의 제조방법 有权
标题翻译：加热器，加热装置和用于制造加热器的方法
公开(公告)号：KR101098798B1
公开(公告)日：2011-12-26
申请号：KR1020050044514
申请日：2005-05-26
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 마키세이이치로 , 타케노우치히로시 , 마수야마히로유키 , 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02
CPC分类号： H05B3/143 , H01L21/67103
摘要： (해결수단) 상기목적을해결하기위해서, 본발명은, 판상체와, 그판상체의표면에형성되어, 저항치를조절하기위한홈부를갖는띠형상의저항발열체와, 상기판상체의표면에형성되어, 상기홈부의위치결정의기준이되는위치결정표시부를구비한히터로한다.

2. 发明授权

KR101246753B1 웨이퍼 지지부재 有权
标题翻译： WAFER支持会员
公开(公告)号：KR101246753B1
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：KR1020030093854
申请日：2003-12-19
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67248 , H01L21/67103 , H05B3/143
摘要： (과제) 웨이퍼의 표면온도를 정확하고 추종성 좋게 측정할 수 있는 웨이퍼 지지부재를 제공한다.
(해결수단) 판상 세라믹체(2)의 한쪽의 주면측을, 웨이퍼(W)를 탑재하는 탑재면으로 하고, 상기 판상 세라믹체(2)의 다른쪽의 주면 또는 내부에 저항발열체(5)를 구비함과 아울러, 상기 판상 세라믹체(2)의 다른쪽의 주면에 오목부(9)를 형성하고, 이 오목부(9)내에 측온소자(8a)와 리드선(8)으로 이루어지는 측온체를 삽입하고, 고정부재(17)에 의해 유지함과 아울러, 상기 측온체의 측온소자(8a)를 피복하는 피복재가 고정부재(17)로부터 노출될 때까지의 피복재의 길이를 상기 피복재의 외경의 5배∼30배로 한다.

3. 发明公开

KR1020070028464A 웨이퍼 가열장치와 반도체 제조장치 有权
标题翻译：卧式加热设备和半导体制造设备
公开(公告)号：KR1020070028464A
公开(公告)日：2007-03-12
申请号：KR1020067027674
申请日：2005-06-28
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 이와타케이지 , 나가사키코이치 , 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , H05B3/143
摘要： Wafer heating equipment which can perform rapid cooling is provided by improving a cooling speed of a heater part composed of a board-shaped body having a resistive heater. The wafer heating equipment is provided with a board-shaped body having two opposing main planes, one of which is permitted to be a placing plane whereupon a wafer is to be placed and the other main plane is provided with the strip-shaped resistive heater; a power supplying terminal connected to the resistive heater for supplying power to the resistive heater; a case arranged on the other plane of the board-shaped body to cover the power supplying terminal; and a nozzle having a leading edge opposing the other plane of the board-shaped body for cooling the board-shaped body. A projection position of the leading edge of the nozzle on the other plane of the board-shaped body is between the strips of the resistive heater. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：通过提高由具有电阻加热器的板状体构成的加热器部的冷却速度来提供能够进行快速冷却的晶片加热装置。晶片加热设备设置有具有两个相对的主平面的板状体，其中一个主平面被允许为放置晶片的放置平面，另一个主平面设置有带状电阻加热器; 连接到所述电阻加热器的供电端子，用于向所述电阻加热器供电; 设置在所述板状体的另一平面上以覆盖所述供电端子的壳体; 以及具有与所述板状体的另一平面相对的前缘的喷嘴，用于冷却所述板状体。喷嘴的前缘在板状体的另一平面上的突出位置位于电阻加热器的条之间。 ®KIPO＆WIPO 2007

4. 发明授权

KR101185794B1 웨이퍼 가열장치와 반도체 제조장치 有权
标题翻译：卧式加热设备和半导体制造设备
公开(公告)号：KR101185794B1
公开(公告)日：2012-10-02
申请号：KR1020067027674
申请日：2005-06-28
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 이와타케이지 , 나가사키코이치 , 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , H05B3/143
摘要： 저항발열체를 가진 판상체로 이루어지는 히터부의 냉각 속도를 향상시킴으로써 급속 냉각이 가능한 웨이퍼 가열장치를 제공한다.
그 웨이퍼 가열장치는, 대향하는 2개의 주면을 가지며, 그 한쪽의 주면을 웨이퍼가 적재되는 적재면으로 하고 다른쪽의 주면에 띠형상의 저항발열체를 갖고 이루어지는 판상체와, 저항발열체에 접속되고 그 저항발열체에 전력을 공급하는 급전단자와, 판상체의 다른쪽의 면에 급전단자를 덮도록 설치된 케이스와, 판상체의 다른쪽의 면에 대향하는 선단을 가지며, 판상체를 냉각하는 노즐을 구비하고, 판상체의 다른쪽의 면에 있어서의 노즐 선단의 투영위치를 저항발열체의 띠의 사이로 했다.

5. 发明授权

KR100681253B1 웨이퍼 지지부재 有权
标题翻译：支持WAFER会员
公开(公告)号：KR100681253B1
公开(公告)日：2007-02-09
申请号：KR1020050024652
申请日：2005-03-24
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코 , 미기타야스시 , 마츠오카토루
IPC分类号： H02N13/00 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/6831
摘要： 본 발명은 흡착부와, 이 흡착부의 아래쪽에 마련된 수지층과, 이 수지층의 아래쪽에 냉각 매체를 흐르게 하는 통로를 가지는 도전성 기부로 이루어지는 웨이퍼 지지부재로서, 상기 흡착부가 절연막을 구비하고, 절연막의 한쪽 주면(主面)을 웨이퍼를 적재하는 적재면으로 하고, 다른쪽 주면에 흡착 전극과 이 흡착 전극을 덮는 절연층을 구비하며, 상기 흡착부의 두께가 0.02∼10.5mm인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 지지부재에 관한 것이다.

6. 发明公开

KR1020060048119A 히터와 웨이퍼 가열장치 및 히터의 제조방법 有权
标题翻译：加热器，加热装置和用于制造加热器的方法
公开(公告)号：KR1020060048119A
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：KR1020050044514
申请日：2005-05-26
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 마키세이이치로 , 타케노우치히로시 , 마수야마히로유키 , 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02
CPC分类号： H05B3/143 , H01L21/67103
摘要： (과제) 본 발명은, 고도의 균열성(均熱性)을 갖고, 그 위에 적재된 웨이퍼 등을 거의 동일하게 가열할 수 있는 히터 및 그것을 사용한 웨이퍼 가열장치 및 그것들의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
(해결수단) 상기 목적을 해결하기 위해서, 본 발명은, 판상체와, 그 판상체의 표면에 형성되어, 저항치를 조절하기 위한 홈부를 갖는 띠형상의 저항발열체와, 상기 판상체의 표면에 형성되어, 상기 홈부의 위치 결정의 기준이 되는 위치 결정 표시부를 구비한 히터로 한다.

7. 发明公开

KR1020060044706A 웨이퍼 지지부재 有权
标题翻译：支持会员等等
公开(公告)号：KR1020060044706A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：KR1020050024652
申请日：2005-03-24
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코 , 미기타야스시 , 마츠오카토루
IPC分类号： H02N13/00 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/6831
摘要： 흡착부와, 이 흡착부의 아래쪽에 마련된 수지층과, 이 수지층의 아래쪽에 냉각 매체를 흐르게 하는 통로를 가지는 도전성 베이스부로 이루어지는 상기 흡착부와 절연막을 구비하고, 절연막의 한쪽 주면(主面)을 웨이퍼 등을 적재하는 적재면으로 하고, 다른쪽 주면에 흡착 전극과 이 흡착 전극을 덮는 절연층으로 이루어진, 상기 흡착부의 두께가 0.02∼10.5mm인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 등 지지부재.

8. 发明授权

KR100725123B1 히터, 웨이퍼 가열장치 및 이 히터의 제조방법 有权
标题翻译：加热器，用于加热加热器的装置和加热器的生产过程
公开(公告)号：KR100725123B1
公开(公告)日：2007-06-04
申请号：KR1020050091400
申请日：2005-09-29
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67103 , H05B2203/003 , H05B2203/037
摘要： 피가열물의 표면에 있어서의 면내의 온도차를 작게 할 수 있고, 또한 단시간에 피가열물을 원하는 온도로 가열할 수 있는 히터를 제공한다.
그 히터는, 제1주면과 제2주면을 갖고, 그 제1주면을 피가열물을 싣는 적재면으로 하고, 그 내부 또는 제2주면에 저항발열체를 갖는 판형상체를 포함하는 히터로서, 저항발열체는, 서로 반경이 다르고 또한 동심의 2개의 원의 한쪽의 원주상에 위치하는 적어도 2개의 원호형상 띠와, 다른쪽의 원주상에 위치하는 적어도 1개의 원호형상 띠와, 한쪽의 원주상의 원호형상 띠와 다른쪽의 원주상에 위치하는 원호형상 띠를 각각 접속하고 또한 서로 인접해서 위치하는 연결 원호띠를 가지고 이루어지는 연속한 띠형상체이며, 인접하는 연결 원호띠 사이의 연결간 거리가, 한쪽의 원주상의 원호형상 띠와 다른쪽의 원주상에 위치하는 원호형상 띠의 사이의 원호간 거리보다 작게 했다.

9. 发明公开

KR1020060051861A 히터, 웨이퍼 가열장치 및 이 히터의 제조방법 有权
标题翻译：加热器，用于加热加热器的装置和加热器的生产过程
公开(公告)号：KR1020060051861A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050091400
申请日：2005-09-29
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67103 , H05B2203/003 , H05B2203/037
摘要： 피가열물의 표면에 있어서의 면내의 온도차를 작게 할 수 있고, 또한 단시간에 피가열물을 원하는 온도로 가열할 수 있는 히터를 제공한다.
그 히터는, 제1주면과 제2주면을 갖고, 그 제1주면을 피가열물을 싣는 적재면으로 하고, 그 내부 또는 제2주면에 저항발열체를 갖는 판형상체를 포함하는 히터로서, 저항발열체는, 서로 반경이 다르고 또한 동심의 2개의 원의 한쪽의 원주상에 위치하는 적어도 2개의 원호형상 띠와, 다른쪽의 원주상에 위치하는 적어도 1개의 원호형상 띠와, 한쪽의 원주상의 원호형상 띠와 다른쪽의 원주상에 위치하는 원호형상 띠를 각각 접속하고 또한 서로 인접해서 위치하는 연결 원호띠를 가지고 이루어지는 연속한 띠형상체이며, 인접하는 연결 원호띠 사이의 연결간 거리가, 한쪽의 원주상의 원호형상 띠와 다른쪽의 원주상에 위치하는 원호형상 띠의 사이의 원호간 거리보다 작게 했다.

10. 发明公开

KR1020040070008A 정전척 无效
标题翻译：静电切割以减轻饱和时间的间隔
公开(公告)号：KR1020040070008A
公开(公告)日：2004-08-06
申请号：KR1020040005028
申请日：2004-01-27
申请人： 쿄세라 코포레이션
发明人： 나카무라츠네히코
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/6831 , Y10T279/23
摘要： PURPOSE: An electrostatic chuck is provided to shorten an interval of saturation time by reducing a temperature difference in the surface of a wafer mounted on an electrostatic chuck. CONSTITUTION: An installation surface(3) of a wafer(W) is formed in a main surface of a disc-type ceramic body(2) with an electrostatic absorption electrode. A concentric ring-type gas groove(9) and a gas introducing hole(4) connected to the ring-type gas groove are formed in the periphery of the installation surface. A circular gas groove(8) and a gas introducing hole(5) connected to the circular gas groove are formed in the installation surface. The ring-type gas groove and the circular gas groove are independent of each other, and a plurality of block parts(11,12) are formed in the ring-type gas groove and the circular gas groove.
摘要翻译：目的：提供静电卡盘，通过减小安装在静电卡盘上的晶片表面的温度差来缩短饱和时间间隔。构成：在具有静电吸收电极的盘状陶瓷体（2）的主表面上形成晶片（W）的安装面（3）。在安装面的周围形成有与环状气体槽连接的同心环状气体槽（9）和气体导入孔（4）。在安装面上形成圆形气体槽（8）和连接到圆形气体槽的气体导入孔（5）。环状气体槽和圆形气体槽彼此独立，并且在环状气体槽和圆形气体槽中形成有多个块体（11,12）。

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