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1. 发明授权

KR101314790B1 태양전지 모듈 失效
公开(公告)号：KR101314790B1
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR1020100123381
申请日：2010-12-06
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 박훈 , 박재영 , 이은경 , 박주옥 , 윤한호
IPC分类号： H01L31/042
CPC分类号： H01G9/2072 , H01L31/043 , H01L31/0508 , H01L2924/0002 , Y02E10/542 , Y02P70/521 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 박막형 태양전지에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 복수의 태양전지 셀을 순차적으로 적층하여 수납함으로써 전력생산 효율을 극대화하는 태양전지 모듈에 관한 것이다.
이를 위해 본 발명은 투명 복수의 태양전지 셀과, 상기 셀의 음극이 전기적으로 연결되는 음극부 및, 상기 셀의 양극이 전기적으로 연결되는 양극부를 포함한다.

2. 发明授权

KR101294328B1 산화 인듐 주석 타겟, 이의 제조 방법 및 이로부터 제조된산화 인듐 주석 투명 전극 失效
标题翻译：铟锡氧化物靶，其制造方法和通过使用它们制造的透明电极
公开(公告)号：KR101294328B1
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：KR1020070064775
申请日：2007-06-28
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이상철 , 최준호 , 강신혁 , 정준희 , 박주옥 , 조우석
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 본 발명은 산화 인듐 분말, 산화 주석 분말, 및 칼슘 및 알루미늄을 함유한 산화물 분말을 혼합하여 슬러리를 준비하는 슬러리 준비 단계, 상기 슬러리를 밀링하고 건조하여 건조 분말을 준비하는 분말화 단계, 상기 건조 분말을 성형하여 성형체를 제조하는 성형 단계 및 상기 성형체를 소결하는 소결 단계를 포함하는 산화 인듐 주석 타겟의 제조 방법을 제공한다. 또한 본 발명은 인듐 원자 대비 칼슘 및 알루미늄 원자의 합이 0.001 내지 10 at%가 되도록 칼슘 알루미네이트를 함유한 산화 인듐 주석 타겟을 제공한다. 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 타겟은 상대 밀도가 99% 이상을 나타내며, 스퍼터링시 노쥴 및 아킹의 발생이 감소하여 장시간 성막이 가능하다.

3. 发明授权

KR101280814B1 알루미늄이 함유된 산화아연계 스퍼터링 타겟 및 타겟의 불량 판정방법 失效
标题翻译：基于目标的基于氧化锌的含铝的方法和决定其相同性能的方法
公开(公告)号：KR101280814B1
公开(公告)日：2013-07-05
申请号：KR1020100044276
申请日：2010-05-12
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 박재영 , 박훈 , 김재선 , 박주옥 , 윤한호
IPC分类号： G01N21/88 , G02F1/13 , G01N21/25 , G01N1/28
摘要： 본 발명은 알루미늄이 함유된 산화아연계 스퍼터링 타겟 및 타겟의 불량 판정방법에 관한 것으로, 알루미늄 분말과 아연산화물을 함유하는 산화아연계 소결체를 포함하되, 산화아연계 소결체는 알루미늄 분말이 1.5 중량(wt)% 이상, 2.5 중량(wt)% 이하로 함유되고, ＣＩＥＬ*ａ*ｂ* 표색계에서 Ｌ*은 57 이상, 69 이하이고, ａ*는 －3.20 이상, －0.50 이하이고, ｂ*는 －3.0 이상, 8.0 이하의 값을 갖으며, 산화아연계 소결체의 소결밀도는 5.37 g/㎤
이상인 것을 특징으로 한다.

4. 发明公开

KR1020120096195A 디스크형 슬러리 건조기 有权
标题翻译：盘式浆液干燥机
公开(公告)号：KR1020120096195A
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：KR1020110015458
申请日：2011-02-22
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 구본경 , 이영석 , 박주옥 , 김성민
IPC分类号： F26B11/14 , F26B25/06 , F26B25/04 , F26B3/04
摘要： PURPOSE: A disk type slurry drier is provided to improve productivity by preventing adherer of powder and increasing fluid quantity and the circulation of slurry. CONSTITUTION: A disk type slurry drier(100) comprises a chamber(110), a drying part(120), and a circulation tank(130). The chamber stores slurry. The drying part is installed in the chamber and adheres the slurry on a rotated disk and generates the slurry into powder. The circulation tank is connected to the chamber and supplies the slurry to the chamber. The circulation tank collects non-dried slurry and circulates the non-dried slurry to be dried.
摘要翻译：目的：提供一种盘式浆料干燥机，通过防止粉末粘附，增加流体量和浆料循环，提高生产效率。构成：盘式浆料干燥器（100）包括室（110），干燥部分（120）和循环罐（130）。房间存储浆料。将干燥部分安装在室中并将浆料粘附在旋转的盘上并将浆料生成粉末。循环罐连接到室，并将浆料供应到室中。循环罐收集未干燥的浆料并循环待干燥的未干燥浆料。

5. 发明公开

KR1020090113573A 산화 인듐 주석 타겟 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：氧化铟锡靶材及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090113573A
公开(公告)日：2009-11-02
申请号：KR1020080039369
申请日：2008-04-28
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 강신혁 , 최준호 , 박주옥 , 이진호 , 조윤주 , 이지훈 , 윤필상 , 오해성 , 이윤규 , 유일환
IPC分类号： C23C14/34 , B22F3/00
摘要： PURPOSE: An indium tin oxide target and a manufacturing method thereof are provided to improve efficiency of a manufacturing process with long-termed sputtering. CONSTITUTION: A manufacturing method of an indium tin oxide target includes the following steps of: preparing slurry by mixing indium oxide powder, tin oxide powder and cerium containing compound powder; preparing drying powder after milling the slurry; manufacturing a molding body by molding the drying powder; and sintering the molded body. The cerium containing compound is selected from a group consisting of ceria or ceria tin, and ceria indium. The indium tin oxide target has the relative density of 99% or greater.
摘要翻译：目的：提供一种氧化铟锡靶及其制造方法，以通过长时间溅射提高制造工艺的效率。构成：氧化铟锡靶的制造方法包括以下步骤：通过混合氧化铟粉末，氧化锡粉末和含铈化合物粉末来制备浆料; 研磨浆料后制备干粉; 通过模制干燥粉末制造成型体; 并烧结成型体。含铈化合物选自二氧化铈或二氧化铈，二氧化铈铟。氧化铟锡靶的相对密度为99％以上。

6. 发明公开

KR1020090092164A 산화아연계 스퍼터링 타겟 失效
标题翻译：基于氧化锌的溅射靶
公开(公告)号：KR1020090092164A
公开(公告)日：2009-08-31
申请号：KR1020080017512
申请日：2008-02-26
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이윤규 , 이진호 , 유일환 , 박주옥
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/50 , C04B35/6261 , C04B35/62625 , C04B35/62655 , C04B35/62695 , C04B35/63424 , C04B35/63464 , C04B35/64 , C04B2235/3224 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/604 , C23C14/08
摘要： A zinc oxide based sputtering target is provided to restrict generation of plasma abnormal discharge due to micro pores existing in a sintered body with high sintered density, and performing a DC sputtering method with low electric resistance. A zinc oxide based sputtering target has a composition of InxHoyO3(ZnO)T. X+y=2. A ration of X and y is 1:0.001~ 1:1. T is 0.1~5. A sputtering target is possible a DC sputtering method. The electric resistance the sputtering target is 100Ð¤ or less. The sputtering target is a zinc oxide based thin film using the sputtering target. The electron mobility of the zinc oxide based thin film is 10~100cm^2/V S.
摘要翻译：提供了一种氧化锌基溅射靶，以限制由于存在于高烧结密度的烧结体中的微孔引起的等离子体异常放电的产生，并且执行具有低电阻的DC溅射法。基于氧化锌的溅射靶具有In x H y O 3（ZnO）T的组成。 X + Y = 2。 X和y的比例为1：0.001〜1：1。 T为0.1〜5。溅射靶可以是DC溅射法。溅射靶的电阻为100度以下。溅射靶是使用溅射靶的基于氧化锌的薄膜。氧化锌基薄膜的电子迁移率为10〜100cm ^ 2 / V S.

7. 发明公开

KR1020090052008A 산화아연 타겟 및 그 제조 방법 无效
标题翻译： ZINC氧化物靶及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090052008A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118506
申请日：2007-11-20
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이윤규 , 이진호 , 유일환 , 박주옥
IPC分类号： C23C14/34 , B22F3/00
摘要： 본 발명은 M1
x M2
y M3
z (ZnO)
T 의 조성을 가지며, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, x+y+z=2, 및 5≤T≤50이고, 상기 M1, M2 및 M3는 각각 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 티타늄(Ti), 게르마늄(Ge) 및 이트륨(Y)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 산화아연 타겟을 제공한다. 본 발명에 의한 타겟으로 스퍼터링 시 노듈이나 아킹의 발생이 적고, 증착된 투명 박막은 에칭 가공성, 전기적 특성 및 광학적 특성이 뛰어나다.
산화아연, 타겟, 투명 도전막

8. 发明公开

KR1020090000893A 산화 주석 분말, 그 제조 방법 및 그 제조용 반응 장치 有权
标题翻译：氧化钛粉，其制造方法及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090000893A
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：KR1020070064781
申请日：2007-06-28
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 윤필상 , 박주옥 , 이지훈 , 정경구 , 조윤주
IPC分类号： C01G19/02 , B01J19/26
摘要： A reactor for manufacturing tin oxide powder is provided to raise a reaction speed of the nitric acid and the metal tin and to have a minute and uniform grain size. A reactor(100) for manufacturing tin oxide powder comprises a reactor(120), a metal tin support stand(140) arranged from a floor side of the reactor, an aqueous nitric acid solution spraying part(160) jetting and supplying nitric acid inside the reactor, an aqueous nitric acid solution exhausting part(180) for ejecting generated precipitate and the aqueous nitric acid solution outside the reactor. The aqueous nitric acid solution exhausting part comprises an opening and shutting valve(185) for periodically ejecting the precipitate and the aqueous nitric acid solution. A gas outlet(110) for ejecting gas generated by reaction of the nitric acid and the metal tin is arranged at an upper end of the reactor.
摘要翻译：提供用于制造氧化锡粉末的反应器以提高硝酸和金属锡的反应速度并且具有微小且均匀的晶粒尺寸。用于制造氧化锡粉末的反应器（100）包括反应器（120），从反应器的底板侧布置的金属锡支撑架（140），硝酸水溶液喷射部分（160），向内部喷射和供应硝酸反应器，用于将产生的沉淀物排出的硝酸水溶液排出部分（180）和硝酸水溶液在反应器外部。硝酸水溶液排出部分包括用于周期性地排出沉淀物和硝酸水溶液的打开和关闭阀（185）。用于喷射通过硝酸和金属锡的反应产生的气体的气体出口（110）布置在反应器的上端。

9. 发明公开

KR1020080109272A 산화아연 타겟 및 그 제조 방법 失效
标题翻译： ZINC氧化物靶及其制造方法
公开(公告)号：KR1020080109272A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：KR1020070057390
申请日：2007-06-12
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이윤규 , 이진호 , 박주옥
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C23C14/3414
摘要： A zinc oxide target and a manufacturing method thereof are provided to cut down the material cost of the process by collecting the material powder from the removed sputtering target. A manufacturing method of the zinc oxide target comprises the following steps: the step for taking away the sputtered zinc oxide lungs target(S11); the mastication step for pulverizing the zinc oxide lungs target and forming the comminuted powder(S12); the dissolution step for dissolving the comminuted powder and forming the zinc solution(S13); the powder formation step for heat-decomposing the zinc solution from spraying and forming the zinc oxide powder(S14); the molding step for collecting the zinc oxide powder and manufacturing the molding product(S15); the sintering step for sintering the molding product(S16).
摘要翻译：提供一种氧化锌靶及其制造方法，通过从去除的溅射靶收集材料粉末来降低该工艺的材料成本。氧化锌靶的制造方法包括以下步骤：剥离溅射的氧化锌肺靶的步骤（S11）; 用于粉碎氧化锌肺靶和形成粉碎粉末的咀嚼步骤（S12）; 溶解粉碎并形成锌溶液的溶解步骤（S13）; 粉末形成步骤，用于从喷涂和形成氧化锌粉末中分解锌溶液（S14）; 用于收集氧化锌粉末并制造模塑产品的模制步骤（S15）; 烧结成型品的烧结工序（S16）。

10. 发明公开

KR1020080087977A 전자파 차폐용 광학 부재, 이를 포함하는 디스플레이장치용 필터, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 无效
标题翻译：具有电磁干扰的光学部件，具有该光学显示装置的显示装置的过滤器和具有该光学部件的显示装置
公开(公告)号：KR1020080087977A
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：KR1020070030235
申请日：2007-03-28
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이지훈 , 조윤주 , 박주옥
IPC分类号： H05K9/00 , G02B5/20 , H01J11/44
CPC分类号： H05K9/0088 , H01J11/44 , H01J2211/446 , H05K9/0054 , H05K9/0083 , H05K9/0096
摘要： An optical member for shielding electro-magnetic interference, a filter for a display apparatus having the same and a display apparatus having the same are provided to effectively shield the electro-magnetic interference with a single layer without stacking a plurality of layers. A filter(200) for a display apparatus is formed by stacking a plurality of functional members. Any one of the functional members includes an electric-magnetic interference shielding layer(240) having a base substrate(242) and a conductive polymer layer(244). The conductive polymer layer is coated on the base substrate and includes a conductive polymer and a dopant. The filter for the display apparatus includes an external light shielding layer(220). The conductive polymer layer is coated on one surface of the base substrate and the external light shielding layer is positioned on the other surface of the base substrate.
摘要翻译：提供了用于屏蔽电磁干扰的光学部件，具有该光学部件的显示装置用滤光器和具有该光学部件的显示装置，以有效地屏蔽电磁干扰与单层而不堆叠多个层。用于显示装置的过滤器（200）通过堆叠多个功能部件而形成。功能构件中的任一个包括具有基底基板（242）和导电聚合物层（244）的电磁干扰屏蔽层（240）。导电聚合物层被涂覆在基底基底上并且包括导电聚合物和掺杂剂。用于显示装置的滤光器包括外部光屏蔽层（220）。导电聚合物层涂覆在基底基板的一个表面上，外部遮光层位于基底基板的另一个表面上。

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