专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020170082559A 웨이퍼 결함 발견 审中-实审
标题翻译：发现晶圆缺陷
公开(公告)号：KR1020170082559A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：KR1020177014926
申请日：2015-11-04
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 첸홍 , 우케농 , 프리할마틴 , 판디타바이더 , 사나팔라라비쿠마르 , 바갓비벡 , 라크하와트라훌 , 바리스옥슨 , 라마찬드란라제쉬 , 하크노아신
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95 , G03F7/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8854 , G01N2021/8883 , G03F7/70625 , G03F7/7065 , H01J2237/24592 , H01L22/30 , H01L22/12
摘要： 웨이퍼상에서결함을발견하기위한시스템과방법이제공된다. 일방법은, 웨이퍼의제1 주사에서검출기에의해생성되는출력에역치를적용함으로써웨이퍼상의결함을검출하는단계와, 검출된결함의특성에대한값을결정하는단계를포함한다. 이방법은또한결함을빈(bin)으로그룹짓도록특성에자동으로등급을매기는단계, 특성커트-라인을식별하는단계, 빈각각마다, 빈각각에서의결합의특성에대한값에적용된다면, 빈각각에서의미리결정된수의결함을초래할하나이상의파라미터를결정하는단계를포함한다. 이방법은, 미리결정된결함카운트를갖고특성에대한값이다양화되는결함모집단을생성하도록웨이퍼의제2 주사에서검출기에의해생성되는출력에하나이상의결정된파라미터를적용하는단계를또한포함한다.
摘要翻译：提供了用于检测晶片上的缺陷的系统和方法。一种方法包括通过在晶片的第一次扫描中对由检测器产生的输出施加阈值并确定检测到的缺陷的特征的值来检测晶片上的缺陷。该方法还可以用于将缺陷自动分类到仓组中，以便将每个仓的特征切割线识别为每个仓处组合的特性的值，并确定一个或多个参数，这些参数将导致每个仓中的预定数量的缺陷。该方法还包括在晶片的第二次扫描中将一个或多个确定的参数应用于由检测器产生的输出，以产生具有预定缺陷计数的特征值的缺陷总体。

2. 发明公开

KR1020170045272A 리피터 검출 审中-实审
标题翻译：中继器检测
公开(公告)号：KR1020170045272A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：KR1020177007555
申请日：2015-08-27
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 첸홍 , 우케농 , 쉬프린유진 , 야마오카마사토시 , 시바라만강가드하란 , 바불나스라그하브 , 쿠라다사트야 , 썬알폰소
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/94
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/00 , G01N21/94 , G01N21/95 , G01N2201/061 , G01N2201/10
摘要： 웨이퍼상의결함을검출하기위한시스템및 방법이제공된다. 일방법은검사시스템으로웨이퍼를스캐닝함으로써발생된프레임이미지(들)로부터웨이퍼상의다이(들) 내의어레이영역의적어도일부에대한테스트이미지(들)를발생하는것을포함한다. 방법은웨이퍼의스캐닝에의해발생된프레임이미지의 2개이상으로부터어레이영역내의셀(들)에대한기준이미지를발생하는것을또한포함한다. 게다가, 방법은적어도하나의셀에대응하는테스트이미지(들)의부분(들)으로부터기준이미지를차감함으로써다이(들) 내의어레이영역의적어도일부내의적어도하나의셀에대해차분이미지(들)를결정하는것을포함한다. 방법은차분이미지(들)에기초하여적어도하나의셀 내의웨이퍼상의결함을검출하는것을더 포함한다.
摘要翻译：提供了用于检测晶片上的缺陷的系统和方法。和方法可以包括用于至少一个在从由检测系统扫描晶片产生的图像（S）（S）在晶片框架上的管芯的阵列区域的部分生成测试图像（一个或多个）。该方法还包括从所述两个或更多个由所述晶片的扫描生成的帧图像，生成在阵列区域中的单元（一个或多个）的参考图像。此外，基于的一部分的方法（或多个）的差分图像（一个或多个），用于在至少一种细胞，至少在减去从测试（多个）图像的图像中的管芯（一个或多个）所述阵列区域的部分内对应于至少一个细胞它包括确定。该方法还包括基于差分图像检测至少一个单元中的晶片上的缺陷。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式