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    • 1. 发明公开
    • 박막 증착 장치 및 방법
    • 沉积薄膜的装置和方法
    • KR1020020086502A
    • 2002-11-18
    • KR1020027010162
    • 2001-01-31
    • 컨덕투스, 인코포레이티드
    • 마티야세빅,블라디미르카플란토드
    • H01L21/20
    • C23C14/5853C23C14/087C23C14/505C23C14/541C23C14/568H01L39/2432Y10S505/786Y10S505/826
    • 초전도성박막과같은다성분박막형성용장치는적어도하나의기판을지탱하기위한기판홀더 104 및증착/반응용기를포함한다. 증착/반응용기 102는적어도세 개의구역들 114를구비하는데, 각구역은벽 120에의해인접한구역들로부터분리되어있다. 상기구역들에는, 각자적어도하나의기판상에증착물질 126을증착하도록형상화및 배열되어있는적어도두 개의증착구역 116, 및증착물질을반응물과반응시키기위한적어도하나의반응구역 118이포함된다. 상기장치는적어도하나의기판을다수개의구역들을순차적으로관통해회전시켜그 기판상에박막을형성하도록형상화및 배열되어있다. 상기장치의일부구현예에서, 증착/반응용기는교호하는동일한갯수의증착구역들및 반응구역들을포함한다.
    • 在基板上形成诸如超导薄膜的多组分薄膜的装置包括用于保持至少一个基板和沉积/反应容器的保持器。 沉积/反应容器具有至少三个区域,每个区域通过壁与相邻区域分离。 这些区域包括至少两个沉积区,其中每个沉积区被配置和布置成将沉积材料沉积在至少一个基底上,以及至少一个反应区,用于使沉积材料与反应物反应。 所述装置被配置和布置成使所述至少一个基板顺序地旋转穿过所述多个区域,以在所述基板上形成薄膜。 在装置的一些实施方案中,沉积/反应容器包括相同数量的沉积区和可以是交替沉积和反应区的反应区。