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热词
    • 1. 发明公开
    • 곡면 디스플레이 패널 제조를 위한 기판 식각방법
    • 用于制造具有弯曲形状的显示面板的蚀刻方法
    • KR1020140037422A
    • 2014-03-27
    • KR1020120103230
    • 2012-09-18
    • 주식회사 유플러스비젼
    • 이이상김배성
    • G02F1/13G02F1/1345
    • G02F1/1333G02F1/133305G02F1/1345
    • The present invention relates to a substrate etching method for manufacturing a curved display panel by etching the planes of a first substrate and a second substrate. Wherein, a liquid crystal layer is formed between the first substrate and the second substrate. When a driving circuit unit is combined with a display panel unit, a protection layer is formed to protect an area in which the liquid crystal is formed. The driving circuit unit is protected against an etchant. After the non-etching areas of the first and second substrates are masked, the planes of the first and second substrates are etched when the masked display panel unit is fixed. Thereby, the substrate etching method is used in a curved display panel manufacturing process by obtaining a thin film substrate without damage to the driving circuit in an etching process.
    • 本发明涉及通过蚀刻第一基板和第二基板的平面来制造弯曲显示面板的基板蚀刻方法。 其中,在第一基板和第二基板之间形成液晶层。 当驱动电路单元与显示面板单元组合时,形成保护层以保护形成液晶的区域。 保护驱动电路单元免受蚀刻。 在第一和第二基板的非蚀刻区域被掩蔽之后,当屏蔽的显示面板单元被固定时,第一和第二基板的平面被蚀刻。 由此,通过在蚀刻工艺中获得薄膜基板而不损坏驱动电路,在弯曲显示面板制造工艺中使用基板蚀刻方法。
    • 2. 发明授权
    • 좌우로 휜 곡면 디스플레이 패널 제조를 위한 기판 식각방법
    • 用于制造具有弯曲形状的显示面板从侧面到侧面的蚀刻方法
    • KR101468455B1
    • 2014-12-04
    • KR1020130087759
    • 2013-07-25
    • 주식회사 유플러스비젼(주)코텍
    • 이이상김배성김완수박영일김길자
    • G02F1/13
    • G02F1/13C03C15/00G02F2201/46
    • 본 발명은 액정층이 사이에 형성된 제1, 제2기판의 평면을 식각하여 곡면 디스플레이 패널 제조를 위한 기판 식각방법에 관한 것으로, 디스플레이 패널부에 구동회로부가 결합된 상태에서 액정층이 형성된 부분을 보호하는 보호층을 형성하고, 구동회로부를 식각액으로부터 보호하고, 상기 제1, 제2기판의 비식각 영역을 마스킹한 다음, 마스킹된 디스플레이 패널부를 고정한 상태에서 제1, 제2기판의 평면을 식각한다. 이로부터 식각 과정에서 구동회로부의 손상 없이 초박판의 기판을 얻을 수 있어 곡면 디스플레이 패널 제조에 활용될 수 있다.
    • 本发明涉及用于蚀刻第一基板和液晶层之间形成的第二基板的平坦表面以制造弯曲显示面板的基板蚀刻方法。 该方法包括以下步骤:在驱动电路单元耦合到显示面板单元的同时形成保护层以保护具有液晶层的区域; 保护驱动电路单元免受蚀刻剂的影响; 掩蔽第一和第二基板上的非蚀刻区域; 并且在屏蔽的显示面板固定的同时蚀刻第一和第二基板的平坦表面。 因此,本发明可以在蚀刻工艺期间获取薄膜基板而不损坏驱动电路单元。 薄膜基板可用于制造弯曲显示面板。
    • 4. 发明授权
    • 저반사 나노구조의 유리기판 제조방법 및 이를 위한 부식액 조성물
    • 制备具有纳米结构和蚀刻试剂的低反射玻璃板制备方法
    • KR101387058B1
    • 2014-04-21
    • KR1020120112974
    • 2012-10-11
    • 주식회사 유플러스비젼
    • 이이상김배성김용대김기혁
    • C03C15/00C03C23/00C09K13/08
    • H01L21/67075B32B17/10146C03C15/00C03C23/0075C03C23/0085C09K13/04G02F2001/133302H01L21/6715
    • The present invention relates to a method for manufacturing a OLED glass plate for a display or a lamp and an etchant composition used for the same. A protective film is attached to the back of a glass plate, is washed, is etched with a first etching solution, and washed to manufacture a glass plate of low reflective nanostructure. The glass plate is etched with a second etching solution and is washed. The protective film is released after being secondarily etached with a second etchant composition and washed. Thereby, the surface of the glass plate obtains low reflection and low turbidity and can increase external light extraction effects. Desired turbidity and the size of unevenness can be obtained according to the wavelength for improving the transmittance of the glass plate by controlling second etching time. [Reference numerals] (11) Protective film attaching step; (12) First washing step; (13) First etching step; (14) Second washing step; (15) Second etching step; (16) Third washing step; (17) Protective film removing step; (18) Fourth washing step
    • 本发明涉及一种用于制造用于显示器或灯的OLED玻璃板的方法和用于其的蚀刻剂组合物。 将保护膜附着到玻璃板的背面,用第一蚀刻溶液进行冲洗,并进行洗涤,制造低反射纳米结构的玻璃板。 玻璃板用第二蚀刻溶液蚀刻并洗涤。 在用第二蚀刻剂组合物进行二次蚀刻后,保护膜被释放并洗涤。 因此,玻璃板的表面获得低反射和低浊度,并且可以增加外部光提取效果。 通过控制第二蚀刻时间,可以根据用于提高玻璃板的透射率的波长获得期望的浊度和不均匀的尺寸。 (附图标记)(11)保护膜附着工序; (12)第一洗涤步骤; (13)第一蚀刻步骤; (14)第二洗涤步骤; (15)第二蚀刻步骤; (16)第三洗步骤; (17)保护膜去除步骤; (18)第四洗涤步骤