会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明授权
    • 광개시제 및 이의 제조방법
    • 光引发剂及其制备方法
    • KR101125543B1
    • 2012-03-23
    • KR1020070118284
    • 2007-11-20
    • 주식회사 엘지화학
    • 조창호카르바쉬,라이사김성현이건우곽상규오동궁이창순민경훈
    • C07C239/08C07C239/22
    • 본 발명은 옥심에스테르기를 포함하는 광개시제 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 하기 화학식 1로 표시되는 광개시제에 관한 것이다.
      화학식 1

      (상기 화학식 1에서 R
      1 ,R
      3 , R
      4 , R
      5 , R
      6 는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, OH, CN, R
      X , OR
      X , SR
      X , COR
      X , OCOR
      X , NR
      X R
      Y , CONR
      X R
      Y 을 나타내고,
      R
      X 및 R
      Y 는 C1~C6의 알킬, C1~C6의 할로알킬, NL
      2 , OL 및 SL로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 기로 치환된 C1~C5의 알킬, C1~C6의 알킬, 할로겐, 니트릴, OH 및COOH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐 및, C2~C5의 알킬카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고, L은 수소 또는 C1~C6의 알킬이며,
      R
      2 는 수소 원자, 할로겐 원자, OH, CN, R
      E , OR
      E , SR
      E , COR
      E , OCOR, NR
      E R
      F , CONR
      E R
      F 을 나타내고,
      R
      E 및 R
      F 는 C1~C6의 알킬, C1~C6의 할로알킬, NL
      2 , OL 및 SL로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 기로 치환된 C1~C5의 알킬, C1~C6의 알킬, 할로겐, 니트릴, OH 및COOH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐 및, C2~C5의 알킬카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 산소원자를 포함하거나 포함하지 않은 2~6개의 탄소원자로 서로 이어져서 고리 화합물을 형성할 수 있고, L은 수소 또는 C1~C6의 알킬이며,
      R
      5 및 R
      6 는 중간에 산소원자를 포함하거나 포함하지 않는 2~6개의 탄소원자로 서로 이어져서 고리 화합물을 형성할 수 있다.)
      본 발명에 의하면 자외선을 효율적으로 흡수하므로 라디칼 생성 효율이 우수하여 적은 양으로도 사용 가능하고, 감도와 용해도가 뛰어나다.
      옥심에스테르, 광개시제, 광효율
    • 3. 发明公开
    • 동시에 2종의 독립된 패턴 형성이 가능한 컬럼 스페이서 조성물
    • 用于两种独立图案的圆柱形间隔树脂组合物
    • KR1020100075382A
    • 2010-07-02
    • KR1020090121019
    • 2009-12-08
    • 주식회사 엘지화학
    • 조창호이건우김성현곽상규오동궁이창순
    • G03F7/004
    • G03F7/0045G03F7/004G03F7/0047G03F7/027
    • PURPOSE: A column spacer photoresist resin composition and two kinds of independent column spacer pattern using thereof are provided to control the difference of the two patterns by changing the kinds of radical polymerization inhibitors. CONSTITUTION: A column spacer photoresist resin composition uses more than one radical polymerization inhibitor selected from the group consisting a compound more than two phenolic hydroxide groups, a compound with an aromatic ring, a compound with a ring structure in which an imino group is substituted, and a hindered amine compound. The column spacer photoresist resin composition is capable of forming two different kinds of patterns at the same time. The two different kinds of patterns are a saturation pattern and a semi-transmission pattern.
    • 目的:提供柱间隔物光致抗蚀剂树脂组合物和使用它们的两种独立柱间隔图案,以通过改变自由基聚合抑制剂的种类来控制两种图案的差异。 构成:柱间隔物光致抗蚀剂树脂组合物使用多于一种的自由基聚合抑制剂,其选自化合物多于两个的氢氧化物基团,具有芳环的化合物,具有亚氨基的环结构的化合物被取代, 和受阻胺化合物。 柱间隔物光致抗蚀剂树脂组合物能够同时形成两种不同的图案。 两种不同的图案是饱和图案和半透明图案。