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2. 发明公开

KR1020130089455A 필름 구조물 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：电影结构及其制造方法
公开(公告)号：KR1020130089455A
公开(公告)日：2013-08-12
申请号：KR1020120010827
申请日：2012-02-02
申请人： 주식회사 씨엔전자
发明人： 정선 , 방성만 , 김영철 , 윤철
IPC分类号： B32B15/08 , C23C14/34 , B32B27/06
CPC分类号： C08J7/06 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/14 , C23C14/34 , C23C14/3471
摘要： PURPOSE: A film structure and a manufacturing method thereof are provided to increase transmissivity of visible light without adjusting the thickness of a metal layer through interaction of a first oxide layer and a second oxide layer, thereby reducing cost of production. CONSTITUTION: A film structure (100) comprises a transparent film (110); a first oxide layer (120) including one or more kinds of material selected between silicon oxide and indium tin oxide to be deposited on the first oxide layer (120); a metal layer (130) deposited on the first oxide layer; and a second oxide layer (140) including one or more kinds of material silicon oxide and indium tin oxide to be deposited on the top of the metal layer and to be exposed to the outer air. A manufacturing method for a film structure comprises the steps of: setting the transparent film, depositing the first oxide layer by plasma sputtering, depositing the metal layer by plasma sputtering, and depositing the second oxide layer by plasma sputtering.
摘要翻译：目的：提供膜结构及其制造方法，以通过第一氧化物层和第二氧化物层的相互作用来调节可见光的透射率而不调整金属层的厚度，从而降低生产成本。构成：膜结构（100）包括透明膜（110）; 包括在氧化硅和氧化铟锡之间选择的一种或多种材料的第一氧化物层（120），以沉积在第一氧化物层（120）上; 沉积在第一氧化物层上的金属层（130）; 以及包含一种或多种材料氧化硅和氧化铟锡的第二氧化物层（140），其沉积在金属层的顶部并暴露于外部空气。一种膜结构的制造方法，包括以下步骤：设置透明膜，通过等离子体溅射沉积第一氧化物层，通过等离子体溅射沉积金属层，并通过等离子体溅射沉积第二氧化物层。

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