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1. 发明授权

KR101898095B1 측정장치 有权
公开(公告)号：KR101898095B1
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：KR1020170023746
申请日：2017-02-22
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： G01N15/06 , G01N27/416
摘要： 측정장치를개시한다. 이러한측정장치는, 린스처리된피처리물의오염측정을위한내부공간을구비한측정조와, 이측정조의내부공간측에서오염측정이가능한상태로상기피처리물을지지할수 있도록형성된받침지지부와, 이받침지지부측에지지된상기피처리물측을향하여오염측정용용액을분사할수 있도록형성된용액분사부와, 이용액분사부측에서상기피처리물을향하여분사된오염측정용용액을수거할수 있도록형성된용액수거부, 및이 용액수거부측에수거된오염측정용용액의오염상태를측정할수 있도록형성된오염측정부를포함한다.

2. 发明授权

KR101809223B1 관체 세정장치 有权
标题翻译：管状清洁装置
公开(公告)号：KR101809223B1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：KR1020160077589
申请日：2016-06-21
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： B08B9/032 , H01L21/02 , H01L21/67 , F16L55/24
摘要： 관체세정장치를개시한다. 이러한관체세정장치는, 관체의관로를세정하기위한세정액및 세정용비드가담겨지는세정제공급부와, 순환통로를구비하고이 순환통로의순환구간을따라상기세정제공급부의세정액및 세정용비드를순환이동시킬수 있도록형성되는순환세정부, 및상기순환세정부의순환통로측에직관타입, 또는곡관타입의관체를순환세정처리가가능한상태로연결고정할수 있도록형성되는연결구들을구비한관체고정부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种管状清洁装置。该管清洁装置，被移动到清洗液，并洗涤用于清洁剂供给单元的珠按照循环通道的旋转周期，这与洗涤剂供给单元，并且其是用于浸泡清洗管循环的导管的清洗液和清洗珠循环通道循环，其被形成，并且包括具有将要形成端部连接到固定地连接到循环尽可能清洁部直到循环通道类型的一侧，或对的弯曲管式的加工条件的管清洁循环的固定管状体部分的清洗部。

3. 发明授权

KR101780778B1 세정장치 有权
标题翻译：清洁设备
公开(公告)号：KR101780778B1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020160077591
申请日：2016-06-21
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/6704 , H01L21/6835 , H01L21/68742
摘要： 세정장치를개시한다. 이러한세정장치는, 세정액이담겨지는세정공간을구비하고이 세정공간에세정용버블을발생할수 있도록형성되는세정대와, 상기세정대의세정공간내에배치되며세정처리되기위한샤워헤드가로딩되는지지면을구비한받침부, 및상기받침부측에로딩된샤워헤드의로딩위치를변화시키면서세정력향상을유도할수 있도록형성되는제1 세정유도부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种清洁装置。这样的清洁设备包括：清洁台，设置有清洁空间，清洁空间中容纳有清洁液并且形成在清洁空间中以便产生清洁气泡和用于清洁喷头的表面，以及第一清洁引导部，形成为在改变装载在容纳部侧上的喷头的装载位置的同时引导清洁力。

4. 外观设计

KR3008509900000S 有权
公开(公告)号：KR3008509900000S
公开(公告)日：2016-04-25
申请号：KR3020150041559
申请日：2015-08-18
申请人： 주식회사 싸이노스
设计人： 이명우 , 이우규

5. 发明公开

KR1020130037099A 반도체 제조공정에 사용하는 샤워헤드의 세정장치 有权
标题翻译：用于半导体制造过程中使用的淋浴头的清洁装置
公开(公告)号：KR1020130037099A
公开(公告)日：2013-04-15
申请号：KR1020110101451
申请日：2011-10-05
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 배도인 , 이명우 , 장진영 , 최문기 , 박성현
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67057 , C23C16/4407
摘要： PURPOSE: A cleaning device of a shower head in a semiconductor manufacturing process is provided to improve cleaning quality by forcedly circulating cleaning solutions in a cleaning bath and a sub cleaning bath to clean the shower head. CONSTITUTION: A cleaning bath(2) includes a cleaning space for cleaning a shower head with a hole. A sub cleaning bath(4) is arranged in the cleaning bath and includes a sub cleaning space with an open part which is connected to the cleaning space. A support unit(6) supports the shower head. The cleaning bath is filled with cleaning solutions. A fluid driving unit(8) includes a circulation tube and a fluid driving source installed on one side of the circulation tube.
摘要翻译：目的：提供半导体制造工序中的淋浴头的清洗装置，通过在洗涤槽和副清洗槽中强制循环清洗液来清洗淋浴头来提高洗涤质量。构成：清洁浴缸（2）包括清洁带有孔的淋浴头的清洁空间。洗涤槽内设有副清洗槽（4），并具有连接到清洁空间的开放部分的副清洁空间。支撑单元（6）支撑淋浴头。清洁浴室里装有清洁剂。流体驱动单元（8）包括设置在循环管一侧的循环管和流体驱动源。

6. 发明授权

KR102215207B1 반도체장비 부품용 세정장치 有权
公开(公告)号：KR102215207B1
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：KR1020190088247
申请日：2019-07-22
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/02
摘要： 본발명은반도체장비부품용세정은물론린스에도사용가능한세정장치에관한것으로서, 샤워헤드를비롯한반도체장비의장착부품들을피대상물로하여이들의세정또는린스에사용되며, 세정액과에어를공급하는방식을갖는반도체장비부품용세정장치에있어서, 상기피대상물의하측에배치되는하부개방형구조를갖는몸체로서, 상면중심부에세정액을상측방향으로공급하기위한세정액공급홀이형성되고상기세정액공급홀에이웃하는양측부에 2개의제1에어공급홀및 제2에어공급홀이간격형성되는파워버블생성부; 상기파워버블생성부측 세정액공급홀에연결되어세정액을공급하여주는세정액공급부; 상기파워버블생성부측 제1에어공급홀에연결되어세정용버블생성에관여하기위한에어를공급하되, 일정압력으로에어를공급하여주는제1에어공급부; 상기파워버블생성부측 제2에어공급홀에연결되어세정용버블생성에관여하기위한에어를공급하되, 파워버블의생성을유도하기위해일정주기마다변화된압력출력으로에어를공급하여주는제2에어공급부;를포함하는것을특징으로한다. 본발명에따르면, 구조개선과더불어공급하는에어에대한압력과시간을조절하여공급토록하는방식을접목함으로써세정액에대해파워버블(power bubble)의생성을유도및 발생시킬수 있고샤워헤드등 반도체장비장착부품인피대상물에더욱강한접촉및 압력을가하는작용을하므로기존에비해더욱뛰어난세정효과를발휘할수 있다.

7. 发明授权

KR101978849B1 패킹장치 有权
公开(公告)号：KR101978849B1
公开(公告)日：2019-05-15
申请号：KR1020170169578
申请日：2017-12-11
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 조온
IPC分类号： B65B31/06 , B65B51/14

8. 发明授权

KR101623965B1 세정용 작업대 有权
标题翻译：洗手台
公开(公告)号：KR101623965B1
公开(公告)日：2016-05-24
申请号：KR1020140135138
申请日：2014-10-07
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/203 , H01L21/02
摘要： 세정용작업대를개시한다. 이러한세정용작업대는, 내부가관통된상태의챔버를구비한챔버하우징이놓여지는작업대본체와, 상기챔버하우징의챔버측에세정액이담겨질수 있는상태로상기챔버하우징을받쳐줄수 있도록상기작업대본체측에형성되는받침부와, 상기받침부와상기챔버하우징의접촉부분이시일상태를이룰수 있도록상기받침부측에형성되는시일부그리고, 상기챔버하우징을상기받침부측에받쳐진상태로고정할수 있도록상기작업대본체측에형성되는고정구를구비한고정부를포함한다.

9. 发明公开

KR1020150022058A 챔버용 보호부재의 제조방법 无效
标题翻译：在室内使用的电阻元件的制造方法
公开(公告)号：KR1020150022058A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：KR1020130099190
申请日：2013-08-21
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수 , 이건우 , 조상현
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32
摘要： 챔버용 보호부재의 제조방법을 개시한다.
이러한 챔버용 보호부재의 제조방법은, 보호부재 제조용 부재를 준비하는 부재준비공정과, 보호부재 제조용 부재 측에 요철들을 형성하는 상태로 표면 처리하는 제1 표면처리공정과, 상기 보호부재 제조용 부재의 표면 처리된 부분에 기능성 코팅층을 형성하는 코팅공정 그리고, 상기 기능성 코팅층의 표면 거칠기를 낮추는 상태로 표면 처리하는 제2 표면처리공정을 포함한다.
摘要翻译：公开了一种制造腔室保护构件的方法，包括：制备用于制造保护构件的构件的构件准备过程; 在用于制造保护构件的构件上形成有凹凸的状态下进行表面处理的第一表面处理工艺; 在用于制造保护构件的构件的表面处理部分中形成功能性涂层的涂布方法; 以及在功能性涂层的表面粗糙度降低的状态下进行表面处理的第二表面处理工序。

10. 发明公开

KR1020130080342A 스퍼터링 장치용 실드 无效
标题翻译：用于喷雾装置的防护罩
公开(公告)号：KR1020130080342A
公开(公告)日：2013-07-12
申请号：KR1020120001196
申请日：2012-01-04
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 배도인 , 이명우 , 이우규 , 박경원
IPC分类号： H01L21/203
摘要： PURPOSE: A shield for a sputtering device is provided to prevent a thin film material deposited on a coating part from being separated by installing a deposition improving unit on the outer side of the coating part. CONSTITUTION: A coating part (20) covers the outer side of a shield body (10). The coating part has a coating thickness between 200 and 250 um on the outer side of the shield body. The coating part is composed of a metal coating layer to include a deposition surface (22) with an uneven shape. A deposition improving unit (30) prevents a thin film material from being separated on the outer side of the coating part. The deposition improving unit is composed of a plurality of deposition protrusions on the outer side of the coating part.
摘要翻译：目的：提供一种用于溅射装置的屏蔽件，用于通过在涂布部分的外侧上安装沉积改善单元来防止沉积在涂层部分上的薄膜材料分离。构成：涂层部分（20）覆盖屏蔽体（10）的外侧。涂层部分在屏蔽体的外侧具有200-250μm的涂层厚度。涂层部分由金属涂层组成，包括具有不均匀形状的沉积表面（22）。沉积改善单元（30）防止薄膜材料在涂布部分的外侧分离。沉积改善单元由涂覆部分的外侧上的多个沉积突起构成。

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