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1. 发明公开

KR1020120134495A 마이크로렌즈 어레이 시트 有权
标题翻译： MICROLENS ARRAY表
公开(公告)号：KR1020120134495A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：KR1020110053420
申请日：2011-06-02
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 와타나베히토무 , 사토아츠시 , 이상흠 , 타카기타카시 , 이마무라히데키
IPC分类号： G02B3/00 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B3/0056 , G02B3/0006 , G02B3/0043 , G02B3/005 , G02B3/0062 , G02B5/201 , G02F1/133526
摘要： PURPOSE: A microlens array sheet used in a lighting device is provided to increase the concealment property of a microlens array sheet by flex of light from a gap part. CONSTITUTION: A substrate(10) transmits light. A plurality of unit lenses(11) is arranged in one direction of the substrate. A concave curvature(12) is formed in a gap between unit lenses. A concave surface is formed in non-rotary symmetry about a central axis.
摘要翻译：目的：提供在照明装置中使用的微透镜阵列片，以通过来自间隙部分的光的弯曲来增加微透镜阵列片的隐藏性能。构成：衬底（10）透射光。多个单位透镜（11）布置在基板的一个方向上。凹部曲率（12）形成在单位透镜之间的间隙中。凹面以中心轴为中心的非旋转对称形成。

2. 发明公开

KR1020090071328A 와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：电网极化器及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090071328A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：KR1020080063803
申请日：2008-07-02
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김지우 , 사토아츠시 , 나가타요시히데 , 와타나베히토무 , 타카기타카시
IPC分类号： G02B5/30
摘要： A wire grid polarizer having a flat metal grid surface and manufacturing method thereof are provided to form a metal grid of a good shape by covering an end part of the metal grid with a metal corpuscle. A metal layer part(3A) is formed on a base material(2). A metal corpuscle part(3B) is formed by cohering a metal corpuscle. A metal grid(3) comprises the metal layer part and the metal corpuscle part. An end part contacting of the base materials is covered with the metal corpuscle part. The end part on the other side of the surface contacting of the base material is flatted.
摘要翻译：提供具有平坦金属网格表面的线栅偏振器及其制造方法，通过用金属微粒覆盖金属栅格的端部而形成良好形状的金属栅格。金属层部分（3A）形成在基材（2）上。通过粘附金属微粒形成金属微粒部分（3B）。金属网格（3）包括金属层部分和金属微粒部分。基材的端部接触被金属微粒部分覆盖。基材的与表面接触的另一侧的端部是平坦的。

3. 发明授权

KR101422660B1 마이크로렌즈 어레이 시트 有权
标题翻译： MICROLENS ARRAY表
公开(公告)号：KR101422660B1
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：KR1020110053420
申请日：2011-06-02
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 와타나베히토무 , 사토아츠시 , 이상흠 , 타카기타카시 , 이마무라히데키
IPC分类号： G02B3/00 , G02F1/13357
摘要： 본 발명은 마이크로렌즈 어레이 시트의 은폐성을 향상시키는 것이 가능한 마이크로렌즈 어레이 시트 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 광을 투과시키는 기판(10)과, 상기 기판(10)의 일 방면에 배치되는 복수개의 단위 렌즈(11)를 포함하되, 상기 단위 렌즈(11) 사이의 간극에 오목한 형상의 곡면인 오목 곡면(12)이 형성되고, 상기 오목 곡면(12)이 단위 렌즈(11)의 광축을 따른 중심축(X)에 대해서 비회전대칭으로 형성된, 백라이트용의 마이크로렌즈 어레이 시트(1)가 제공된다.

4. 发明公开

KR1020090042136A 미세 패턴의 제조 방법 및 광학 소자 有权
标题翻译：用于制作精细图案和光学装置的方法
公开(公告)号：KR1020090042136A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：KR1020080052014
申请日：2008-06-03
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 나가타요시히데 , 사토아츠시 , 와타나베히토무 , 타카기타카시 , 김지우
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0337 , H01L21/31144
摘要： A manufacturing method of a micro pattern and an optical device are provided to form a micro pattern with a high throughput, a large area, and a low cost. A layer(2) to be processed is formed on a transparent base layer(1). A resist layer is formed on the layer to be processed, and is patterned by a nano imprint method at the same time. A patterned resist layer(3) having a concave part(53) is formed on a top surface of the resist layer. A hard mask layer(4) of a metal layer is formed on a top surface(3a) of the patterned resist layer. A resist residue(55) remaining in a bottom part(53a) of the concave part is removed by etching. The layer to be processed is etched by using the patterned resist layer as a mask.
摘要翻译：提供微图案和光学装置的制造方法以形成具有高生产量，大面积和低成本的微图案。在透明基层（1）上形成被处理层（2）。在被处理层上形成抗蚀剂层，并通过纳米压印法同时进行图案化。在抗蚀剂层的顶表面上形成具有凹部（53）的图案化抗蚀剂层（3）。金属层的硬掩模层（4）形成在图案化抗蚀剂层的顶表面（3a）上。通过蚀刻去除残留在凹部的底部（53a）中的抗蚀剂残渣（55）。通过使用图案化的抗蚀剂层作为掩模来蚀刻待处理的层。

5. 发明公开

KR1020080001583A 편광 분리 소자 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：极化光分离元件及其制造方法
公开(公告)号：KR1020080001583A
公开(公告)日：2008-01-03
申请号：KR1020060114715
申请日：2006-11-20
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 나가타요시히데 , 사토우아츠시 , 와타나베히토무 , 김지우
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3058 , G02B27/283 , G02F1/133536 , G02F2001/133548 , G02F2201/08 , G02F2201/38
摘要： A polarized-light splitting element and a manufacturing method thereof are provided to secure high contrast by forming a deposition layer maintaining relatively high reflectivity for the incident light at the incidence side and relatively low reflectivity toward the transmission direction of the incident light, on a grid unit. A polarized-light splitting element(10,30) for splitting polarizing components by transmitting or reflecting the incident light according to a polarization direction is composed of a light transmissive base member(1) having a grid unit(1b) comprising fine uneven parts extended in one direction and a deposition layer(2) formed on a convex surface of the grid unit. The deposition layer is changed into relatively high reflectivity for the incident light at the incidence side of the incident light and relatively low reflectivity by gradually changing at least one of the kind, constitution, and structure of deposition materials toward the transmission direction of the incident light.
摘要翻译：提供了一种偏振光分离元件及其制造方法，以通过形成对入射侧的入射光保持相对高的反射率的沉积层和朝向入射光的透射方向的相对较低的反射率在栅格上形成沉积层来确保高对比度单元。用于通过根据偏振方向透射或反射入射光来分离偏振分量的偏振光分离元件（10,30）由具有包括精细不均匀部分延伸的格栅单元（1b）的透光基底构件（1）在一个方向上形成沉积层（2），所述沉积层形成在所述栅格单元的凸表面上。通过将沉积材料的种类，构成和结构中的至少一种朝向入射光的透射方向逐渐变化，沉积层被改变成入射光入射侧的入射光的相对高的反射率和相对低的反射率。

6. 发明授权

KR101459122B1 방현 필름 有权
标题翻译：防眩电影
公开(公告)号：KR101459122B1
公开(公告)日：2014-11-07
申请号：KR1020110127936
申请日：2011-12-01
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이상흠 , 다카기다카시 , 와타나베히토무
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/08 , G02B1/11
摘要： 사용자가 가장 가까운 거리에서 보는 디스플레이에 최적인 방현 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 해당 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의하면, 요철을 지니는 방현층(120)이 투명 기재(110) 상에 형성되어 이루어진 방현 필름(100)으로서, 방현층(120)의 85°광택도의 값이, 방현층(120)의 20°광택도의 값과 60°광택도의 값을 연결하는 직선의 연장선 상에 구해지는 85°광택도의 예측값에 대해서 1.3배 이상이고, 또한 20°광택도의 값이 10 이하인 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明的一个目的是提供一种对用户在最近距离观看的显示器最佳的防眩膜。为了解决该问题，根据本发明，在透明基板（110）上形成具有凹凸的防眩层（120）的防眩膜（100）光泽度值是连接防眩光层120的20°光泽度的值和“60”的值的直线的延长线上的85“光泽度的预测值的1.3倍以上，价值是10或更少。

7. 发明授权

KR101170532B1 미세 패턴의 형성방법 有权
标题翻译：形成精细图案的方法
公开(公告)号：KR101170532B1
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：KR1020090121777
申请日：2009-12-09
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 타카기타카시 , 사토아츠시 , 와타나베히토무
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 패턴 형상의 가늘어짐이나 편차를 적게 한 미세 패턴의 형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위하여, 몰드를 가압해서 형성한 전사층 패턴(3)을 형성하고, 전사층 패턴(3)에 피패턴 형성막(4)을 형성하고, 그 후, 전사층 패턴(3)을 제거해서, 피패턴 형성막(4) 형성 시의 회합 계면(점선부)으로부터 에칭을 진행시켜서, 피패턴 형성막(4)을 에칭해서 최종 패턴(7)을 형성한다.
미세 패턴, 전사층 패턴, 피패턴 형성막, 몰드, 전사층 수지

8. 发明授权

KR100860368B1 편광 분리 소자 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：极化光分离元件及其制造方法
公开(公告)号：KR100860368B1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：KR1020060114715
申请日：2006-11-20
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 나가타요시히데 , 사토우아츠시 , 와타나베히토무 , 김지우
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3058 , G02B27/283 , G02F1/133536 , G02F2001/133548 , G02F2201/08 , G02F2201/38
摘要： 편광 분리 소자 및 그 제조 방법에 있어서, 고 콘트라스트이며 대면적이라도 제조 효율, 신뢰성이 양호해지도록 한다.
입사광을 편광 방향에 따라 투과 또는 반사하는 것에 의해 편광 성분을 분리하는 편광 필름(10)이, 일 방향으로 연장하는 미세한 요철 형상으로 이루어진 그리드(Grid)부(1b)를 갖는 투광성 기재(1)와, 그리드부(1b)의 볼록면 상에, 입사광의 입사측에서 입사광에 대하여 상대적인 고반사율로 되고, 입사광의 투과 방향을 향해서, 증착 재료의 조직이 점차적으로 변화하는 것에 의해, 상대적인 저반사율로 되도록 형성된 증착층(2)을 구비하도록 한다.
편광분리소자, 그리드(grid)

9. 发明授权

KR100858137B1 미세금속패턴의 제조방법 有权
标题翻译：一种制造精细金属图案的方法
公开(公告)号：KR100858137B1
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：KR1020070067770
申请日：2007-07-05
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 나가타요시히데 , 사토우아츠시 , 와타나베히토무 , 김지우
IPC分类号： H01L21/32
CPC分类号： C23F1/02 , G02B5/1809 , G02B5/1857 , H01L21/76838
摘要： 본 발명의 과제는 미세금속패턴의 제조방법에 있어서, 미세금속패턴의 생산성을 향상시킬 수 있도록 하는 데 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 미세금속패턴의 제조방법은 기재부(1a) 위에 패터닝된 볼록부(1b)를 형성하고, 이 볼록부(1b) 위에 금속을 성막함으로써 복수의 금속박막층(4)을 형성하며, 각각 인접하는 다른 금속박막층(4)의 방향으로 성장시키면서 막두께를 늘려, 인접하는 금속박막층(4)끼리 막두께 방향으로 대략 관통하는 회합면(4a)을 거쳐서 회합하는 금속박막층군(40)을 형성하는 금속박막층 형성공정; 및 이 금속박막층 형성공정에서 형성된 금속박막층군(40)에 습식 에칭을 행함으로써 회합면(4a)을 부식시켜, 금속박막층군(40)의 상부면으로부터 오목부(1c)까지의 사이에서 관통하는 간극(3)을 형성하는 에칭공정을 포함한다.
미세금속패턴, 금속박막층, 회합면,

10. 发明授权

KR101234850B1 광학소자의 제조방법 有权
标题翻译：光学元件的制作方法
公开(公告)号：KR101234850B1
公开(公告)日：2013-02-19
申请号：KR1020090130254
申请日：2009-12-23
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이상흠 , 와타나베히토무 , 타카기타카시
IPC分类号： G02F1/13357
摘要： 본 발명은 제조가 용이한 광학소자의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 광학소자의 제조방법은, 광을 통과시키는 편평한 베이스부(412)와 해당 베이스부의 하나의 면(417)에 설치된 광을 통과시키는 복수의 돌기부(415)를 구비하는 광학 시트(410)를, 광을 통과시키는 기재(421)에 포개어, 상기 광학 시트에 의해서, 상기 기재 위에 설치된 광을 차단하는 차광층(423)을 가압하여, 상기 돌기부에 의해서 차광층을 파괴시켜서 광을 통과시키는 개구부를 형성하는 가압 공정을 포함한다.
광학소자, 차광층, 광학 시트, 돌기부, 개구부

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