专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101225601B1 대면적 나노스케일 패턴형성방법 有权
标题翻译：大面积纳米图案的制作方法
公开(公告)号：KR101225601B1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：KR1020100129255
申请日：2010-12-16
申请人： 엘지이노텍 주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 이영재 , 유경종 , 김진수 , 이준 , 이용인 , 윤준보 , 연정호 , 이주형 , 이정언
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0337 , B82Y10/00 , H01L21/0338 , Y10S438/947
摘要： 본 발명은 보호층으로 격리된 다층의 메인 박막을 형성하는 1단계와 제1메인박막을 패터닝하여 제1메인 패턴을 형성하는 2단계, 상기 제1메인패턴을 기준으로 제1스페이서패턴을 형성하는 3단계, 상기 제1스페이서패턴을 제2메인박막에 전사하여 제2메인패턴을 형성하는 4단계를 포함하여 구성되는 대면적 나노스케일 패턴형성방법을 제공할 수 있도록 한다.
본 발명에 따르면, 이종(異種)의 보호막으로 격리되어 다층 중첩된 메인 박막을 사용하여, 패턴 피치를 저감할 수 있는 스페이서 리소그라피를 반복적으로 시행할 수 있어, 마이크로미터 스케일의 패턴을 형성한 후 형태의 왜곡 없이 반복적으로 패턴 피치를 줄여나감으로써, 나노미터 스케일의 미세 패턴을 넓은 영역에 걸쳐 균일하게 구현할 수 있는 효과가 있다.

2. 发明公开

KR1020120067707A 대면적 나노스케일 패턴형성방법 有权
标题翻译：大面积纳米图案的制作方法
公开(公告)号：KR1020120067707A
公开(公告)日：2012-06-26
申请号：KR1020100129255
申请日：2010-12-16
申请人： 엘지이노텍 주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 이영재 , 유경종 , 김진수 , 이준 , 이용인 , 윤준보 , 연정호 , 이주형 , 이정언
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0337 , B82Y10/00 , H01L21/0338 , Y10S438/947 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A method for forming a large area nano-scale pattern is provided to uniformly produce a fine pattern by repeatedly reducing pattern pitch without distortion of shape after forming a pattern of micrometer scale. CONSTITUTION: Main thin films(140, 160) which are separated by a protective layer are formed. The protective layer is formed into a silicon nitride film or a silicon oxide film. A first main pattern(121) is formed by patterning a first main thin film. A first spacer pattern(191) is formed based on the first main pattern. A second main pattern(141) is formed by transferring the first spacer pattern to a second main thin film. A second spacer pattern is formed based on the second main pattern. A third main pattern is formed by transferring the second spacer pattern to a third main thin film.
摘要翻译：目的：提供一种形成大面积纳米尺度图案的方法，通过在形成微米尺度的图案之后，通过重复地减少图形间距而不变形，均匀地产生精细图案。构成：形成由保护层分离的主薄膜（140,160）。保护层形成为氮化硅膜或氧化硅膜。第一主图案（121）通过图案化第一主薄膜而形成。基于第一主图形形成第一间隔图案（191）。第二主图案（141）通过将第一间隔图案转印到第二主薄膜而形成。基于第二主图形形成第二间隔图案。通过将第二间隔图案转印到第三主薄膜上形成第三主图案。

3. 发明授权

KR101626955B1 나노와이어 어레이 압전소자의 제조방법 有权
标题翻译：纳米阵列压电元件的制造方法
公开(公告)号：KR101626955B1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：KR1020140143544
申请日：2014-10-22
申请人： 한국과학기술원
发明人： 윤준보 , 최소영 , 이재신 , 연정호 , 최동훈 , 서민호
IPC分类号： H01L41/22 , H01L41/29
摘要： 나노와이어압전소자의제조방법에있어서, 오목부가형성된나노와이어어레이템플릿상에자외선경화수지를주입하여상기오목부에대응하는볼록부를갖는폴리머기판을생성하는폴리머기판생성단계; 상기폴리머기판을상기나노와이어어레이템플릿으로부터분리하는분리단계; 상기폴리머기판의볼록부상에만압전물질이증착되도록상기폴리머기판을소정각도기울인상태에서상기압전물질을증착하는증착단계; 및상기압전물질상에전극을생성하고, 상기전극을패터닝하는패터닝단계; 를포함한다.

4. 发明公开

KR1020100052275A 측면이 곡면형태로 된 출광부를 가지는 일체형 도광판, 이의 제조방법 및 이를 채용한 디스플레이 장치 有权
标题翻译：具有弯曲小屋的发光部件的一体式轻型导光板，其制造方法和使用其的显示装置
公开(公告)号：KR1020100052275A
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：KR1020080111223
申请日：2008-11-10
申请人： 삼성전자주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 송훈 , 이홍석 , 윤준보 , 이주형 , 연정호
IPC分类号： G02B6/00
摘要： PURPOSE: A light guide plate having light emitting unit formed in a curved face shape on a side, a manufacturing method thereof, and a display device using the same are provided to enable mass production as there is no deformation caused by several reproduction processes using metal mold. CONSTITUTION: A light guide member(10) reflects incident light toward inside. A plurality of light emitting sections(20) is projected on one face of the light guiding member. The light guiding member and the light emitting section are integrated as one body.
摘要翻译：目的：提供一种具有侧面形成为弯曲面形状的发光单元的导光板及其制造方法和使用该导光板的显示装置，以便能够进行批量生产，因为不会由于使用金属的多次再现处理而引起变形模子。构成：导光部件（10）向内侧反射入射光。多个发光部（20）突出在导光部件的一个面上。导光构件和发光部分被集成为一体。

5. 发明公开

KR1020130138395A 나노 다공성 멤브레인 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：纳米膜及其制造方法
公开(公告)号：KR1020130138395A
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：KR1020120061916
申请日：2012-06-11
申请人： 한국과학기술원
发明人： 윤준보 , 최동훈 , 연정호 , 윤건욱
IPC分类号： B01D69/02 , B01D69/10 , B81C1/00
CPC分类号： B01D69/02 , B01D67/0034 , B01D67/0062 , B01D69/10 , B81C1/00
摘要： A nanoporous membrane according to the present invention is manufactured according to a method for manufacturing a nanoporous membrane comprising the steps of: preparing a substrate having a nanogrid formed; forming a sacrificial layer and a nanoline sequentially on the protruding part of the nanogrid; forming a support layer having micro-scale holes on the nanoline; and separating the support layer having the nanoline attached thereto from the substrate having the nanogrid formed thereon by removing the sacrificial layer.
摘要翻译：根据本发明的纳米多孔膜根据制造纳米多孔膜的方法制造，包括以下步骤：制备具有形成的纳米网格的基板; 在纳米网格的突出部分依次形成牺牲层和纳米线; 在所述牛磺酸上形成具有微孔的支撑层; 并且通过去除牺牲层，从其上形成有纳米格栅的基板上分离出具有附着于其上的纳
豆网的支撑层。

6. 发明授权

KR101272498B1 투명 디스플레이 장치 有权
标题翻译：透明显示装置
公开(公告)号：KR101272498B1
公开(公告)日：2013-06-10
申请号：KR1020110024538
申请日：2011-03-18
申请人： 한국과학기술원
发明人： 유승협 , 윤준보 , 최정민 , 연정호
IPC分类号： H01L51/50 , G02F1/1347 , G02F1/1335
摘要： 본 발명은 투명 디스플레이 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 투명 유기 발광 다이오드를 이용한 투명 디스플레이 장치의 시인성을 향상시키는 것이 가능한 투명 디스플레이 장치에 관한 것이다. 본 발명은 투명 재질로 형성된 소자를 이용해 영상을 디스플레이하는 영상 표시부; 및 상기 영상 표시부 하부에 결합되는 블라인드 패널을 포함하고, 상기 블라인드 패널은 상기 영상 표시부를 통과한 후 상기 블라인드 패널 측으로 조사되는 광 중 가시광 대역의 광을 투과시키거나 또는 상기 영상 표시부 측으로 반사시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 영상 표시부 하부에 콜레스테릭 액정 기반의 블라인드 패널을 결합하여 가시광 대역의 광을 선택적으로 투과 또는 반사시킴으로써 영상 표시부와 주변 배경과의 이미지 중첩을 방지하고 영상 표시부 측으로 조사되는 광량을 늘리므로 투명 디스플레이 장치의 시인성 향상이 가능한 효과를 갖는다.

7. 发明授权

KR101104141B1 도광 플레이트 및 백라이트 유닛 有权
标题翻译：导光板和背光单元
公开(公告)号：KR101104141B1
公开(公告)日：2012-01-13
申请号：KR1020090116907
申请日：2009-11-30
申请人： 한국과학기술원
发明人： 윤준보 , 이주형 , 연정호
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B6/0011 , G02B6/0036 , G02B6/0038
摘要： 본 발명은 도광 플레이트 및 백라이트 유닛에 관한 발명이다.
본 발명에 따른 백라이트 유닛은, 도광 플레이트, 도광 플레이트의 일 측면에 배치되는 광원, 도광 플레이트의 하부에 배치되는 반사 플레이트를 포함하는 백라이트 유닛이고, 도광 플레이트는, 그 일 측 단면이, 상부 표면의 수직방향에 대하여 서로 대칭되고 상기 상부 표면에서부터 상기 상부 표면으로부터 멀어질수록 서로 가까워지거나 멀어지도록 형성된 제1 슬릿 및 제2 슬릿으로 이루어진 단위 슬릿이 복수 개 형성된다.
도광 플레이트, 광원, 반사 플레이트, 단위 슬릿

8. 发明公开

KR1020160047290A 나노와이어 어레이 압전소자의 제조방법 有权
标题翻译：纳米阵列压电元件的制造方法
公开(公告)号：KR1020160047290A
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020140143544
申请日：2014-10-22
申请人： 한국과학기술원
发明人： 윤준보 , 최소영 , 이재신 , 연정호 , 최동훈 , 서민호
IPC分类号： H01L41/22 , H01L41/29
CPC分类号： H01L41/22 , H01L41/29
摘要： 나노와이어압전소자의제조방법에있어서, 오목부가형성된나노와이어어레이템플릿상에자외선경화수지를주입하여상기오목부에대응하는볼록부를갖는폴리머기판을생성하는폴리머기판생성단계; 상기폴리머기판을상기나노와이어어레이템플릿으로부터분리하는분리단계; 상기폴리머기판상에압전물질을증착하는증착단계; 및상기압전물질상에전극을생성하고, 상기전극을패터닝하는패터닝단계; 를포함한다.
摘要翻译：公开了纳米线阵列压电元件的制造方法，其与电极接触时防止能量损失。纳米线阵列压电元件的制造方法包括：通过在具有凹部的纳米线阵列模板上注入紫外线固化树脂来生成具有与纳米线阵列模板的凹部对应的凸部的聚合物基板的聚合物基板的生成工序; 从所述纳米线阵列模板分离所述聚合物基材的分离步骤; 沉积步骤，在所述聚合物基材上沉积压电物质; 以及在压电体上产生电极并图案化电极的图形化步骤。

9. 发明授权

KR101425372B1 도광플레이트 및 이를 구비하는 백라이트 유닛 有权
标题翻译：光导板和背光单元，包括它们
公开(公告)号：KR101425372B1
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：KR1020130007381
申请日：2013-01-23
申请人： (주)애니캐스팅 , 한국과학기술원
发明人： 김성빈 , 김병욱 , 이문재 , 구민수 , 윤준보 , 연정호 , 윤건욱
IPC分类号： G02B6/125 , G02B6/10
摘要： 본 발명은 대량생산이 용이하도록 몰드 또는 스탬프로부터 쉽게 사출성형이 가능한 정방향 경사 구조를 가지면서도 별도의 프리즘이나 휘도증가시트(BEF: Brightness Enhancement Film) 없이 수직 방향으로 빛을 출광시킬 수 있도록 하기 위한 도광플레이트에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 도광플레이트는, 하면에 음각의 정방향 경사구조 패턴이 형성되는 상부플레이트; 상면에 상기 음각의 정방향 경사구조 패턴에 대응하는 양각의 정방향 경사구조 패턴이 형성되는 하부플레이트; 및 상기 음각의 정방향 경사구조 패턴의 측면부와 상기 양각의 정방향 경사구조 패턴의 측면부 사이에 형성되는 공간부;를 포함한다.

10. 发明公开

KR1020140095139A 도광플레이트 및 이를 구비하는 백라이트 유닛 有权
标题翻译：光导板和背光单元，包括它们
公开(公告)号：KR1020140095139A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：KR1020130007381
申请日：2013-01-23
申请人： (주)애니캐스팅 , 한국과학기술원
发明人： 김성빈 , 김병욱 , 이문재 , 구민수 , 윤준보 , 연정호 , 윤건욱
IPC分类号： G02B6/125 , G02B6/10
CPC分类号： G02B6/0036 , G02B6/0025 , G02B6/0038 , G02F1/133524 , G02F1/133615
摘要： The present invention relates to a light guide plate which has a forward tilt structure capable of easy injection molding from a mold or a stamp to facilitate mass production, and emits light in a vertical direction without a separate prism or a brightness enhancement film (BEF). According to the present invention, the light guide plate comprises: an upper plate having an engraved forward tilt structure on the lower surface; a lower plate having an embossed forward tilt structure pattern corresponding to the engraved forward tilt structure pattern; and a space part formed between a side part having the engraved forward tilt structure and a side part having the embossed forward tilt structure pattern.
摘要翻译：本发明涉及一种导光板，其具有能够容易地从模具或印模进行注射成型以促进批量生产的向前倾斜结构，并且在没有单独的棱镜或亮度增强膜（BEF）的情况下在垂直方向上发光，。根据本发明，导光板包括：在下表面上具有雕刻的向前倾斜结构的上板; 具有对应于所雕刻的向前倾斜结构图案的压花前倾斜结构图案的下板; 以及形成在具有雕刻的前倾斜结构的侧部和具有压花前倾斜结构图案的侧部之间的间隔部。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式