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1. 发明公开

KR1020120030868A 형광체 및 실리콘의 토출시스템 및 이를 이용한 형광체 및 실리콘의 배합방법 有权
标题翻译：荧光材料和硅的排放系统及其使用的荧光材料和硅的混合方法
公开(公告)号：KR1020120030868A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR1020100092679
申请日：2010-09-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 탑 엔지니어링
发明人： 안요한 , 김형식 , 박상민 , 신세철 , 김준영
IPC分类号： B05C5/02 , B05B7/02 , B05B1/02
CPC分类号： B05C5/02 , B05B1/02 , B05B7/02 , Y10S239/00
摘要： PURPOSE: A system for discharging fluorescence and silicon and a method for mixing the fluorescence and the silicon using the same are provided to rapidly mix a silicon base material, a fluorescent material, and a silicon hardening material by automatically discharging materials using discharging devices. CONSTITUTION: A system for discharging fluorescence includes a silicon base material discharging device(100), a first fluorescence material discharging device(200), a second fluorescence material discharging device(300), a silicon hardening agent discharging device(400), and a mixing container(510). The mixing container moves around the devices and receives a silicon base material, a first fluorescence material, a second fluorescence material, and a silicon hardening material. The silicon base material discharging device includes a silicon base material loader(100a) and a quantitative pump(100b). The silicon base material loader discharges plenty of the silicon base material. The quantitative pump discharges minute amount of the silicon base material.
摘要翻译：目的：提供荧光和硅的放电系统以及使用其的荧光和硅的混合方法，以通过使用放电装置自动排出材料来快速混合硅基材料，荧光材料和硅硬化材料。荧光体排出系统包括硅基材料排出装置（100），第一荧光物质排出装置（200），第二荧光物质排出装置（300），硅硬化剂排出装置（400）和混合容器（510）。混合容器围绕装置移动，并接收硅基材料，第一荧光材料，第二荧光材料和硅硬化材料。硅基材料排出装置包括硅基材料装载器（100a）和定量泵（100b）。硅基材料加载器排出大量的硅基材料。定量泵排出微量的硅基材料。

2. 发明授权

KR101748696B1 형광체 및 실리콘의 토출시스템 및 이를 이용한 형광체 및 실리콘의 배합방법 有权
公开(公告)号：KR101748696B1
公开(公告)日：2017-06-19
申请号：KR1020100092679
申请日：2010-09-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 탑 엔지니어링
发明人： 안요한 , 김형식 , 박상민 , 신세철 , 김준영
IPC分类号： B05C5/02 , B05B7/02 , B05B1/02
摘要： 본발명은실리콘주제, 제1 및제2형광체, 실리콘경화제를자동으로토출하여혼합함으로써불량이없는형광층을형성하기위한것으로, 설정된양의실리콘주제를토출하는실리콘주제토출장치; 설정된양의제1형광체를토출하는제1형광체토출장치; 설정된양의제2형광체를토출하는제2형광체토출장치; 설정된양의실리콘경화제를토출하는실리콘경화제토출장치; 및상기실리콘주제토출장치, 제1형광체토출장, 제2형광체토출장치및 실리콘경화제토출장치사이를이동하면서상기실리콘주제토출장치, 제1형광체토출장치, 제2형광체토출장치및 실리콘경화제토출장치로부터토출되는실리콘주제, 제1형광체, 제2형광체및 실리콘경화제가수납되는혼합용기로구성된다.

3. 发明公开

KR1020160072067A 유기전자장치 및 이의 제조 방법 无效
标题翻译：有机电子器件及其制备方法
公开(公告)号：KR1020160072067A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：KR1020150178312
申请日：2015-12-14
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 배경열 , 조윤경 , 박상민 , 양세우 , 강민수 , 유현지 , 박종성 , 서금석 , 김동현 , 권계민 , 최현 , 유흥식
IPC分类号： H01L51/52 , H01L51/56
摘要： 본발명은유기전자장치및 이의제조방법에관한것으로서, 우수한수분차단특성을구현하는봉지구조를구현하면서, 유기전자소자의배선구조를단순화하여배선비용을절감할수 있는유기전자장치를제공한다.
摘要翻译：有机电子器件及其制造方法技术领域本发明涉及一种有机电子器件及其制造方法。提供了在实现封装结构以实现优异的防潮性能的同时简化有机电子元件的布线结构的有机电子器件，从而降低布线成本。

4. 发明授权

KR101588449B1 유기전계발광 표시장치 및 그 구동방법 有权
标题翻译：有机电致发光显示装置及其驱动方法
公开(公告)号：KR101588449B1
公开(公告)日：2016-01-26
申请号：KR1020090104369
申请日：2009-10-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 박상민 , 유상호
IPC分类号： G09G3/30 , G09G3/20
摘要： 본발명은, 발광다이오드를포함하고, 영상을표시하는유기전계발광패널; 상기영상에대응되는영상신호를프레임별로분석하여상기영상의종류를판단하는타이밍제어부; 상기발광다이오드에인가되는전원전압의전류값을실시간으로측정하여상기타이밍제어부에전달하는전류측정부; 및상기영상이정지영상인경우상기전원전압의전류를제한하는전류제한부를포함하는유기전계발광표시장치를제공한다.

5. 发明授权

KR101581245B1 유기전계발광 표시장치 有权
公开(公告)号：KR101581245B1
公开(公告)日：2015-12-31
申请号：KR1020090087790
申请日：2009-09-16
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 박상민 , 정석희 , 김도완
IPC分类号： G09G3/30 , G09G3/20
摘要： 본발명은, 기판과; 상기기판상부에서로교차하여형성되어화소영역을정의하는제1 내지제m게이트배선, 제1 내지제n데이터배선및 제1 내지제n파워배선과; 상기화소영역에형성되는제1트랜지스터, 제2트랜지스터, 스토리지커패시터및 발광다이오드와; 상기제1 내지제m게이트배선각각의일단에연결되는제1게이트링크배선과; 상기제1게이트링크배선으로게이트신호를공급하는게이트신호생성부와; 상기게이트신호생성부와상기제1게이트링크배선사이에연결되고, 상기제1 내지제m게이트배선에서의상기게이트신호의지연편차를조절하는제1편차조절부하를포함하는유기전계발광표시장치를제공한다

6. 发明授权

KR101339002B1 기판식각장치 및 식각방법 有权
标题翻译：蚀刻基板的装置和方法
公开(公告)号：KR101339002B1
公开(公告)日：2013-12-09
申请号：KR1020060127466
申请日：2006-12-13
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , (주)스마트에이스
发明人： 임은섭 , 박상민
IPC分类号： G02F1/13 , H01L21/306 , C03C3/087
摘要： 본 발명에 따른 기판식각장치는 농도를 조절하여 기판을 항상 일정하게 식각하기 위한 것으로, 기판의 적어도 일면에 식각액을 분사하여 기판을 식각하는 식각기와, 상기 식각액의 농도를 측정하는 농도측정기와, 상기 식각된 기판의 두께를 측정하는 두께측정기와, 상기 두께측정기에 의해 측정된 기판의 두께와 설정된 두께를 비교하여 오차가 발생하는 경우 농도를 조절하여 기판의 식각을 제어하는 제어부로 구성된다.
기판, 식각, 식각액, 농도, 두께

7. 发明公开

KR1020090005654A 플라즈마 화학기상 증착장비 无效
标题翻译：等离子体增强化学蒸气沉积装置
公开(公告)号：KR1020090005654A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：KR1020070068851
申请日：2007-07-09
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 박상민
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/00
CPC分类号： C23C16/4586
摘要： A plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus is provided to improve productivity by preventing the generation of a phenomenon that a substrate stacked on top parts of the lift pins is damaged by broken lift pins. A plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus comprises a shower head(101), a susceptor(102), and lift pins(104). The shower head diffuses a deposition material. The susceptor is oppositely spaced from the shower head in a predetermined distance. The susceptor has a plurality of first holes(102a) formed therein. The lift pins are coupled to the first holes. The lift pins each includes a body part(104a) and a centroid adjusting part(104b). The body part has a pillar shape. The centroid adjusting part is formed on a bottom part of the body part. The centroid adjusting part has a diameter larger than that of the body part.
摘要翻译：提供了一种等离子体增强化学气相沉积装置，以通过防止产生堆叠在提升销的顶部上的基板被破坏的升降销损坏的现象来提高生产率。等离子体增强化学气相沉积设备包括淋浴头（101），基座（102）和提升销（104）。淋浴头扩散沉积材料。基座与喷头相隔一定距离。基座具有形成在其中的多个第一孔（102a）。提升销联接到第一孔。提升销各自包括主体部分（104a）和质心调节部分（104b）。身体部位有柱状。质心调整部形成在主体部的底部。质心调整部的直径大于身体部分的直径。

8. 发明授权

KR101331909B1 기판식각장치 및 식각방법 有权
标题翻译：蚀刻基材的装置和方法
公开(公告)号：KR101331909B1
公开(公告)日：2013-11-22
申请号：KR1020060126538
申请日：2006-12-12
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , (주)스마트에이스
发明人： 박상민 , 임은섭
IPC分类号： G02F1/13 , C03C15/00
摘要： 본 발명에 따른 기판식각장치는 기판을 균일하고 정확하게 식각하기 위한 것으로, 기판의 적어도 일면에 식각액을 분사하여 기판을 식각하는 식각기와, 상기 식각된 기판의 두께를 측정하는 두께측정기와, 상기 두께측정기에 의해 측정된 기판의 두께와 설정된 두께를 비교하여 오차가 발생하는 경우 기판의 식각정도를 조절하는 제어부로 구성된다.
기판, 식각, 식각액, 두께측정, 식각시간

9. 发明公开

KR1020120008186A 유기전계발광표시장치 및 그 구동방법 有权
标题翻译：有机电致发光显示装置及其驱动方法
公开(公告)号：KR1020120008186A
公开(公告)日：2012-01-30
申请号：KR1020100068896
申请日：2010-07-16
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 박상민 , 유상호
IPC分类号： G09G3/32
CPC分类号： G09G3/3208 , G09G2300/0809 , G09G2320/0276
摘要： PURPOSE: An organic electroluminescent display device and a method of driving the same are provided to improve radiation heat from a source IC by supplying a precharge voltage to the source IC flexibly. CONSTITUTION: A data driving unit includes a plurality of source IC connected to a plurality of data wires. A precharging unit outputs a precharge voltage(V CM) corresponding to the source ICs. A pixel is connected to a plurality of data lines. The source IC generates a data voltage corresponding to the video data of the inputted current frame and outputs a precharge voltage and a data voltage to the data wire successively. The precharging unit receives the image data of the current frame and generates the precharge voltage before the image data of the current frame is inputted top the source IC.
摘要翻译：目的：提供有机电致发光显示装置及其驱动方法，以通过向源极IC提供预充电电压来灵活地改善来自源IC的辐射热。构成：数据驱动单元包括连接到多条数据线的多个源IC。预充电单元输出与源IC相对应的预充电电压（V CM）。像素连接到多条数据线。源IC产生与输入的当前帧的视频数据相对应的数据电压，并将预充电电压和数据电压依次输出到数据线。预充电单元接收当前帧的图像数据，并且在当前帧的图像数据被输入到源IC顶部之前产生预充电电压。

10. 发明公开

KR1020080054225A 기판식각장치 및 식각방법 有权
标题翻译：蚀刻基材的装置和方法
公开(公告)号：KR1020080054225A
公开(公告)日：2008-06-17
申请号：KR1020060126538
申请日：2006-12-12
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , (주)스마트에이스
发明人： 박상민 , 임은섭
IPC分类号： G02F1/13 , C03C15/00
CPC分类号： G02F1/13 , B05C11/02 , B05C11/10 , C03C15/00 , H01L21/32131 , H01L21/6708
摘要： An apparatus and a method for etching a substrate are provided to etch a substrate and an LCD(Liquid Crystal Display) to a set thickness to remarkably reduce the weight of an LCD and uniformly etch the substrate all the time. An apparatus for etching a substrate(1) includes an etcher(10), a thickness measurement unit, and a controller. The etcher jets an etchant to at least one side of the substrate to etch the substrate. The thickness measurement unit measures the thickness of the etched substrate. The controller compares the thickness of the etched substrate, measured by the measurement unit, with a set thickness and controls a degree to which the substrate is etched when there is a difference between the measured thickness and the set thickness.
摘要翻译：提供了用于蚀刻基板的装置和方法，以将基板和LCD（液晶显示器）蚀刻到一定厚度，以显着降低LCD的重量并始终均匀蚀刻基板。一种用于蚀刻基板（1）的设备包括蚀刻器（10），厚度测量单元和控制器。蚀刻剂喷射衬底的至少一侧的蚀刻剂以蚀刻衬底。厚度测量单元测量被蚀刻的衬底的厚度。控制器将由测量单元测量的蚀刻的衬底的厚度与设定的厚度进行比较，并且当测量厚度和设定厚度之间存在差异时，控制衬底被蚀刻的程度。

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