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    • 본 발명은, 활성 유체 공급원(12)과, 희석제 유체 공급원(14)과, 활성 유체와 희석제 유체 중 하나의 분배를 위한 유체 유동 계측 장치(24)와, 활성 유체와 희석제 유체를 혼합하여 희석한 활성 유체 혼합물을 형성하도록 배치된 혼합기(28), 및 희석한 활성 유체 혼합물 중의 활성 유체의 예정된 농도를 얻기 위하여 상기 희석한 활성 유체 혼합물 중의 활성 유체 및/또는 희석제 유체의 농도를 감지하고, 이에 응답하여 유체 유동 계측 장치(24)를 조절하도록 배치된 모니터(42)를 사용하는 희석 유체 운반 시스템(10)을 제공한다. 시스템으로부터 분배되는 희석한 활성 유체 혼합물의 예정된 압력을 유지하기 위해 압력 제어부(38)가 상기 활성 유체와 희석제 유체 중 다른 하나의 유동을 제어하도록 배치되어 있다. 시스템으로부터 분배된 유체는 반도체 처리 기구와 같은 유체 사용 유닛에 소정 유량으로 제공되도록 유량 제어부, 예를 들어 질량 유량 제어부에 의해 조절 가능하게 제어될 수 있다. 종료 시점 모니터링 조립체는 또한, 희석한 활성 유체 혼합물의 운반 지속성을 유지하도록 유체 공급원(12, 15)을 스위칭하기 위해 제공된다.
      활성 유체, 희석제 유체, 혼합기, 모니터, 농도, 압력 제어부, 유량 제어부, 희석 활성 유체 혼합물
    • 一种用于输送稀释流体的系统(10),其利用活性流体源(12),稀释液体源(14),用于分配活性和稀释流体之一的流体流量计量装置(24),混合器 28),其布置成混合所述活性和稀释液体以形成稀释的活性流体混合物;以及监测器(42),其布置成感测所述稀释的活性流体混合物中的活性流体和/或稀释液的浓度,并响应地调节流体流量计量 装置(24)以在稀释的活性流体混合物中实现预定浓度的活性流体。 压力控制器(38)布置成控制另一个活性和稀释液体的流动,以便保持从系统分配的稀释的活性流体混合物的预定压力。 然后,从系统分配的流体可以由流量控制器(例如质量流量控制器)可调节地控制,以向诸如半导体处理工具的流体利用单元提供期望的流量。 还描述了终点监测组件,用于切换流体源(12,15)以维持稀释的活性流体混合物的输送的连续性。