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热词
    • 4. 发明公开
    • 전자 디바이스용 부재 및 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스용 부재
    • 电子设备制造方法,制造电子设备的方法和电子设备的部件
    • KR1020140023206A
    • 2014-02-26
    • KR1020130075048
    • 2013-06-28
    • 아사히 가라스 가부시키가이샤
    • 우치다다이스케오츠보유타카이토야스노리다키우치게이
    • G02F1/1339G02F1/13
    • G02F1/1339B32B7/06G02F2202/28
    • The present invention relates to a method for manufacturing a member for an electronic device. The method for manufacturing a member for an electronic device includes: a seal process for manufacturing a seal structure which has a first lamination having a first substrate and a first supporting structure bonded with the first substrate as being able to be separated, a second lamination which is arranged to face the first lamination and has a second substrate and a second supporting structure bonded with the second substrate as being able to be separated, and a seal part formed to surround a device forming area for an electronic device between the first lamination and the second lamination; and a delamination process for delaminating the first supporting structure and the second supporting structure from the seal structure. A bonding part for bonding the first lamination and the second lamination is formed outside the seal part. The method of the present invention suppresses the delamination of the seal part and damage to the first substrate and the second substrate during the delamination process.
    • 本发明涉及电子设备用部件的制造方法。 电子装置用构件的制造方法包括:用于制造密封结构的密封方法,所述密封结构具有第一层压体,所述第一层压体具有第一基板和与所述第一基板结合的能够分离的第一支撑结构,第二层压体 被布置为面对第一层压,并且具有与第二基板结合的第二基板和第二支撑结构,以能够分离;以及密封部,其形成为围绕第一层叠和第一层叠之间的电子设备的装置形成区域 第二层压; 以及用于从密封结构分层第一支撑结构和第二支撑结构的分层过程。 用于接合第一层压和第二层压的接合部分形成在密封部分的外部。 本发明的方法在分层过程中抑制密封部分的分层和对第一基板和第二基板的损坏。
    • 5. 发明公开
    • 수지층 부착 지지 기판의 제조 방법, 유리 적층체의 제조 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법
    • 用树脂层支撑衬底的制造方法,玻璃层压体的制造方法和电子器件的制造方法
    • KR1020150070978A
    • 2015-06-25
    • KR1020140182334
    • 2014-12-17
    • 아사히 가라스 가부시키가이샤
    • 히노유이치오츠보유타카나가노다쿠야시라쿠라가츠미치다카다고스케
    • B32B37/06B32B37/12B32B17/10
    • 본발명은지지기판과지지기판의편면에형성된실리콘수지층을갖고, 상기실리콘수지층상에유리기판을적층하여유리적층체를제조하기위해서사용되는수지층부착지지기판의제조방법으로서, 경화성실리콘과용매를포함하는경화성실리콘조성물을상기지지기판상에도포하여상기지지기판상에경화성실리콘조성물층을형성하고, 상기지지기판및 상기경화성실리콘조성물층을구비하는경화성층부착지지기판을얻는도포공정과, 가열처리장치내에상기경화성층부착지지기판을반입하고, 상기가열처리장치내의지지핀 상에상기경화성층부착지지기판을적재하는반입공정과, 상기경화성층부착지지기판의상기경화성실리콘조성물층상부에가열플레이트를배치하여배기를행하면서상기경화성층부착지지기판에제1 온도이하에서가열처리를행하고, 상기경화성실리콘조성물층에잔존하는상기용매를제거하는제1 가열공정과, 상기제1 가열공정후, 상기가열처리가실시된상기경화성실리콘조성물층과상기가열플레이트를멀어지게하는이동공정과, 상기가열처리장치로부터상기경화성층부착지지기판을반출하는반출공정과, 상기경화성층부착지지기판에상기제1 온도보다높은제2 온도에서가열처리를행하고, 실리콘수지층을얻는제2 가열공정을이 순서로구비하는수지층부착지지기판의제조방법에관한것이다.
    • 本发明涉及一种具有附着树脂层的支撑基板的制造方法,该树脂层包括支撑基板和硅树脂层,并且用于通过在硅树脂层上层压玻璃基板来制造玻璃层叠体。 该方法包括:通过在支撑基板上涂布包括可固化硅和溶剂的可固化硅组合物,在支撑基板上形成可固化硅组合物层的应用过程,然后获得包含支撑基板和 硅组成层; 将可固化层附着支撑基板插入热处理装置中,然后将可固化层附着支撑基板堆叠在热处理装置中的支撑销上的插入过程; 在可固化层安装支撑基板的可固化硅组合物层的上侧布置加热板的第一加热过程,执行通风,在第一温度或更低温度下对可固化层附着支撑基板进行加热处理,以及去除 残留在可固化硅组合物层上的溶剂; 在第一加热处理之后将可固化硅组合物层与加热板分开的移动过程; 从所述加热处理装置提取所述可固化层附着支撑基板的提取工序; 以及在高于第一温度的第二温度下对可固化层附着支撑基板进行热处理的第二加热过程。
    • 6. 发明公开
    • 유리 적층체의 제조 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법
    • 玻璃层压体的制造方法及电子装置的制造方法
    • KR1020150070977A
    • 2015-06-25
    • KR1020140182321
    • 2014-12-17
    • 아사히 가라스 가부시키가이샤
    • 히노유이치오츠보유타카나가노다쿠야우츠기히로시미야고에다츠조
    • B32B37/00B32B37/06B32B15/08
    • 본발명은지지기판, 실리콘수지층및 유리기판을이 순서로갖는유리적층체의제조방법으로서, 제1 주면및 제2 주면을갖는지지기판및 상기지지기판의상기제1 주면상에배치된경화성실리콘조성물층을구비하는경화성층부착지지기판을상기지지기판의상기제2 주면측으로부터복수의지지핀으로지지하여상기경화성층부착지지기판에가열처리를실시하고, 실리콘수지층을형성하는가열공정과, 상기가열공정후에상기실리콘수지층상에유리기판을적층하는적층공정과, 상기적층공정후에, 또는상기가열공정후이고상기적층공정전에, 적어도상기지지기판의상기제2 주면에코로나처리, 플라즈마처리, 및 UV오존처리로이루어지는군으로부터선택되는적어도하나의처리를실시하는표면처리공정을구비하는유리적층체의제조방법에관한것이다.
    • 本发明涉及依次制造具有支撑基板,硅树脂层和玻璃基板的玻璃层叠体的方法。 该方法包括:使用多个支撑销支撑具有第一主侧和第二主侧的支撑基板以及包括布置在第一侧上的可固化硅组合物层的可固化层附接支撑基板的讨厌过程 从所述支撑基板的第二主面侧支撑所述支撑基板,加热所述固化层附着支撑基板,形成硅树脂层; 在加热处理之后将玻璃基板层叠在硅树脂层上的层叠工序; 以及在支撑基板的第二主侧上执行选自由电晕处理,等离子体处理和UV臭氧处理组成的组中的至少一种处理的表面处理工艺。