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1. 发明公开

KR1020070094491A 액적 토출 헤드, 및 액적 토출 장치 无效
标题翻译：刮水器卸料头和卸料装置
公开(公告)号：KR1020070094491A
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：KR1020070025129
申请日：2007-03-14
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 다카하시하야토 , 사카이신리
IPC分类号： B41J2/01 , B41J2/17
CPC分类号： B41J2/14072
摘要： A droplet discharging head and a droplet discharging apparatus are provided to improve the discharging accuracy of droplet by preventing the warp of a discharged droplet. A droplet discharging head includes a piezoelectric element(32). The piezoelectric element is located on a vibration plate(33) corresponding to each receiving chamber(30) and includes a piezoelectric layer(32c) and electrodes(32a,32b). The receiving chamber is a pressure chamber which changes volume by motions of the piezoelectric element. The piezoelectric layer is inserted between the electrodes. The electrodes are elongated on a surface of a penetration(4) and are formed along a circumference of a discharging hole(40). Droplet of fluid material is discharged through the penetration when a driving voltage is applied to the electrodes. The penetration connects the receiving chamber and the discharging hole.
摘要翻译：提供液滴喷射头和液滴喷射装置，以通过防止喷射液滴的翘曲来提高液滴的喷射精度。液滴喷射头包括压电元件（32）。压电元件位于与每个接收室（30）相对应的振动板（33）上并且包括压电层（32c）和电极（32a，32b）。接收室是通过压电元件的运动改变体积的压力室。压电层插入电极之间。电极在穿孔（4）的表面上是细长的并且沿着排放孔（40）的圆周形成。当驱动电压施加到电极时，流体材料的液滴通过穿透物排出。穿透连接接收室和排放孔。

2. 发明授权

KR100716217B1 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：制造有源矩阵衬底的方法
公开(公告)号：KR100716217B1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：KR1020050067657
申请日：2005-07-26
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 노다요이치 , 사카이신리 , 덴다아츠시 , 히라이도시미츠
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/1292
摘要： 본 발명은 반도체막과 화소 전극 사이에 도전성 재료를 토출하여 도전막을 형성할 때에, 도전성 재료가 반도체막 위로부터 유출되는 것을 방지하여, 도전막의 충분한 막 두께를 확보할 수 있는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법 등을 제공하는 것을 과제로 한다.
기판(P) 위에 격자 패턴의 배선(40, 42)과, 배선(40, 42)으로 둘러싸인 영역에 배치된 화소 전극(45)과, 화소 전극(45) 및 배선(42)에 도전막(44)을 통하여 전기적으로 접속하는 스위칭 소자(30)를 갖는 액티브 매트릭스 기판(20)에 있어서, 화소 전극(45)과 도전막(44)을 전기적으로 접속하는 보조 도전부(50)를 구비한다. 또한, 보조 도전부(50) 위의 일부에 뱅크(61)를 구비한다.
도전막, 액티브 매트릭스, 기판, 화소 전극, 뱅크

3. 发明授权

KR100697683B1 패턴 형성 방법 및 기능성 막 失效
标题翻译：图案形成方法和功能膜
公开(公告)号：KR100697683B1
公开(公告)日：2007-03-20
申请号：KR1020050095853
申请日：2005-10-12
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 사카이신리 , 히라이도시미츠
IPC分类号： B05D5/00 , B05D5/12
CPC分类号： H01L21/288 , H01L21/76838 , H01L51/0022 , H05K3/125 , H05K2201/09781 , H05K2203/013 , H05K2203/1476 , Y10T428/24802
摘要： 본 발명은 기능성 막의 패턴을 형성할 때, 선폭이나 형상 등에 대하여 정밀도 좋게 형성 가능한 패턴 형성 방법, 및 기능성 막을 제공하는 것을 과제로 한다.
기능성 막의 형성에 앞서, 설계 패턴을 부(副)영역으로 분할하고, 해당 부영역의 경계선을 그리도록 제1 액상체를 배치하고, 중간 건조 공정을 거쳐 선형상 막(38ｂ, 38ｃ, 38ｄ)을 형성한다. 계속해서, 부영역을 그리도록 제2 액상체를 배치하고, 제2 액상체의 패턴(35ａ, 35ｂ, 35ｃ, 35ｄ)을 형성하고, 본 건조 공정을 거쳐 일체화된 기능성 막이 완성된다.
기능성 막, 선형상 막, 패턴 형성, 액상체

4. 发明公开

KR1020060052084A 패턴 형성 방법 및 기능성 막 失效
标题翻译：功能膜和图案形成方法
公开(公告)号：KR1020060052084A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050094095
申请日：2005-10-07
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 사카이신리 , 히라이도시미츠
IPC分类号： H01L21/208
CPC分类号： H05K3/125 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H01L27/1292 , H01L29/4908 , H05K2201/09727 , H05K2201/09781 , H05K2203/013 , H05K2203/1476 , Y10T428/24802
摘要： 본 발명은 기능성 막의 패턴을 형성할 때, 선폭이나 형상 등에 대하여 정밀도 좋게 형성 가능한 패턴 형성 방법, 및 기능성 막을 제공하는 것을 과제로 한다.
기능성 막의 형성에 앞서, 설계 패턴을 부(副)영역으로 분할하고, 또한 해당 복수의 부영역을 서로 인접하지 않는 복수의 그룹으로 분류한다. 우선, 제1 그룹에 대해 묘화, 건조를 행하여 배선막(38ａ, 38ｂ, 38ｄ)을 형성한 후, 제2 그룹에 대해 묘화를 행하여 액상체의 패턴(33ｃ, 33ｅ, 33ｆ, 33ｇ)을 형성한다. 그 후 건조 공정을 거쳐 일체화된 기능성 막을 완성한다.
패턴, 기능성 막, 부영역, 액상체

5. 发明公开

KR1020090071434A 전기 광학 장치의 제조 방법 및, 액상물 토출 장치 有权
标题翻译：制造电光装置和液体喷射装置的方法
公开(公告)号：KR1020090071434A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：KR1020080133044
申请日：2008-12-24
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 고토마사시 , 사카이신리
IPC分类号： B05C5/00 , G02F1/13
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L51/0026
摘要： (과제) 개구폭이상위(相違)한오목부에액상물(liquid matter)을충전하고용매를제거하여기능층을형성한경우라도, 기능층을동일한두께로형성할수 있는전기광학장치의제조방법및, 이러한전기광학장치의제조에이용되는액상물토출(eject) 장치를제공하는것이다. (해결수단) 전기광학장치(100)의소자기판(10)을제조할때, 해상도가낮은전기광학장치용및, 해상도가높은전기광학장치용의어느쪽을제조하는경우에있어서도, 격벽(partition wall; 5b)으로둘러싸인오목부(5e) 내에액상물(85)을토출하여오목부(5e) 내에액상물(85)을충전한후, 액상물(85)로부터용매성분을제거하여유기기능층(86)을형성한다. 이러한공정을행할때, 오목부(5e)의개구폭(W1)이좁은경우에는, 기능층형성재료농도가높은액상물(85)을오목부(5e)에메니스커스(meniscus)가부풀도록(protruding) 충전하고, 오목부(5e)의개구폭(W2)이넓은경우에는, 기능층형성재료농도가낮은액상물(85)을오목부(5e)에메니스커스가부풀도록충전한다.
摘要翻译：提供了一种用于制造电光装置的方法，以使功能层形成相同的厚度。一种电光装置的制造方法，其特征在于，将形成有功能层的材料在溶剂中喷射到形成于基板上的凹部（5e）上的液体物质（85）喷射到凹面部分以及从所述液体物质中除去溶剂成分以将所述功能层形成材料固定在所述凹部中，其中所述功能层形成材料浓度不同的液体物质通过与所述凹部的孔径宽度的尺寸相对应地填充。

6. 发明授权

KR100726270B1 배선 패턴 형성 방법 및 ＴＦＴ용 게이트 전극의 형성 방법 失效
标题翻译：用于形成布线图案的方法和形成TFT栅极电极的方法
公开(公告)号：KR100726270B1
公开(公告)日：2007-06-11
申请号：KR1020050062283
申请日：2005-07-11
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 히라이도시미츠 , 사카이신리
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L51/0022 , C23C24/00 , H01L51/055 , H05K3/125 , H05K2201/09727 , H05K2201/09909 , H05K2203/013
摘要： 본 발명은 액적(液滴)의 직경보다 작은 폭을 갖는 영역에 액적을 토출하지 않고, 그 영역에 도전성 재료층을 설치하는 것을 과제로 한다.
제 1 영역의 폭이 제 1 폭이며, 제 2 영역의 폭이 상기 제 1 폭 이하인 제 2 폭으로 한다. 그리고 배선 패턴 형성 방법은 상기 제 1 폭 이하 및 상기 제 2 폭 이상의 직경의 액적을 상기 제 1 영역을 향해서 토출하여, 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역을 덮는 상기 도전성 재료층을 형성하는 스텝(A)을 포함한다. 여기서 상기 스텝(A)은 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역의 경계선에 직면하는 위치에 상기 액적이 착탄(着彈)하도록 상기 액적을 토출하는 스텝(a1)을 포함하고 있다.
도전성, 액적, 착탄, 토출

7. 发明公开

KR1020060116695A 막 패턴의 형성 방법, 막 패턴, 디바이스, 전기 광학 장치,및 전자 기기 有权
标题翻译：形成薄膜图案，薄膜图案，器件，电光设备和电子设备的方法
公开(公告)号：KR1020060116695A
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：KR1020060038101
申请日：2006-04-27
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 히라이도시미츠 , 모리야가츠유키 , 사카이신리
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L51/0005 , H01L27/3295 , H05K3/1258 , G03F7/0002 , H05K3/125
摘要： A film pattern forming method, a film pattern, a device, an electro-optic device and an electronic apparatus are provided to improve the reliability of the film pattern itself by arranging exactly a functional solution on a film pattern forming region. A bank(B) for defining a film pattern forming region(34) is formed on a substrate(P). A functional solution is arranged on the film pattern forming region. A regressive angle of the function solution against an upper surface of the bank is in a predetermined range of 13 degree or more. The difference between the regressive angle and a progressive angle of the functional solution against the upper surface of the bank is in a predetermined range of 10 degree or more. A curing process is performed on the functional solution.
摘要翻译：提供了膜图案形成方法，膜图案，器件，电光器件和电子设备，以通过在膜图案形成区域上准确地布置功能溶液来提高膜图案本身的可靠性。在基板（P）上形成用于限定膜图案形成区域（34）的堤（B）。在膜图案形成区域上设置功能性溶液。功能溶液相对于堤岸的上表面的回退角在13度或更大的预定范围内。功能溶液相对于堤岸的上表面的回退角与渐进角之间的差在10度以上的预定范围内。对功能溶液进行固化过程。

8. 发明公开

KR1020060046763A 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：主动矩阵基板，有源矩阵基板，电光器件和电子设备的制造方法
公开(公告)号：KR1020060046763A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：KR1020050067657
申请日：2005-07-26
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 노다요이치 , 사카이신리 , 덴다아츠시 , 히라이도시미츠
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/1292
摘要： 본 발명은 반도체막과 화소 전극 사이에 도전성 재료를 토출하여 도전막을 형성할 때에, 도전성 재료가 반도체막 위로부터 유출되는 것을 방지하여, 도전막의 충분한 막 두께를 확보할 수 있는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법 등을 제공하는 것을 과제로 한다.
기판(P) 위에 격자 패턴의 배선(40, 42)과, 배선(40, 42)으로 둘러싸인 영역에 배치된 화소 전극(45)과, 화소 전극(45) 및 배선(42)에 도전막(44)을 통하여 전기적으로 접속하는 스위칭 소자(30)를 갖는 액티브 매트릭스 기판(20)에 있어서, 화소 전극(45)과 도전막(44)을 전기적으로 접속하는 보조 도전부(50)를 구비한다. 또한, 보조 도전부(50) 위의 일부에 뱅크(61)를 구비한다.
도전막, 액티브 매트릭스, 기판, 화소 전극, 뱅크

9. 发明授权

KR101532356B1 전기 광학 장치의 제조 방법 및, 액상물 토출 장치 有权
标题翻译：制造电光装置和液体喷射装置的方法
公开(公告)号：KR101532356B1
公开(公告)日：2015-06-29
申请号：KR1020080133044
申请日：2008-12-24
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 고토마사시 , 사카이신리
IPC分类号： B05C5/00 , G02F1/13
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L51/0026
摘要： (해결수단) 전기광학장치(100)의소자기판(10)을제조할때, 해상도가낮은전기광학장치용및, 해상도가높은전기광학장치용의어느쪽을제조하는경우에있어서도, 격벽(partition wall; 5b)으로둘러싸인오목부(5e) 내에액상물(85)을토출하여오목부(5e) 내에액상물(85)을충전한후, 액상물(85)로부터용매성분을제거하여유기기능층(86)을형성한다. 이러한공정을행할때, 오목부(5e)의개구폭(W1)이좁은경우에는, 기능층형성재료농도가높은액상물(85)을오목부(5e)에메니스커스(meniscus)가부풀도록(protruding) 충전하고, 오목부(5e)의개구폭(W2)이넓은경우에는, 기능층형성재료농도가낮은액상물(85)을오목부(5e)에메니스커스가부풀도록충전한다.

10. 发明公开

KR1020070093829A 액적 토출 헤드의 제조 방법, 액적 토출 헤드, 및 액적토출 장치의 제조 방법, 액적 토출 장치 无效
标题翻译：液体脱墨头，其制造方法，液滴喷射装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020070093829A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：KR1020070023992
申请日：2007-03-12
申请人： 세이코 엡슨 가부시키가이샤
发明人： 시무라야스토 , 우스이다카히로 , 사카이신리
IPC分类号： B41J2/135 , B41J2/16 , B41J2/015
CPC分类号： B41J2/162 , B41J2/1433 , B41J2/1606 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2002/14475
摘要： A liquid droplet discharging head, a method for manufacturing the same, a liquid droplet discharging apparatus, and a method for manufacturing the same are provided to realize a drawing at high accuracy although a direction of nozzles is slightly deviated. A liquid droplet discharging head includes a nozzle plate(59) as a second substrate, a nozzle(21), and a plurality of droplet guiding units(22). The second substrate is connected to an input chamber. A plurality of penetrating holes(21a,21b,21c) is formed in the second substrate to discharge the droplet. The droplet guiding units are formed in the penetrating holes of the second substrate to guide the droplet. The droplet guiding units include a plurality of peak portions on the surfaces of the penetrating holes in a direction crossing the direction of discharging the droplet.
摘要翻译：提供液滴喷射头，其制造方法，液滴喷射装置及其制造方法，尽管喷嘴的方向稍微偏离，但是实现高精度的绘图。液滴喷射头包括作为第二基板的喷嘴板（59），喷嘴（21）和多个液滴引导单元（22）。第二基板连接到输入室。在第二基板上形成有多个贯通孔（21a，21b，21c），以对液滴进行排出。液滴引导单元形成在第二基板的穿透孔中以引导液滴。液滴引导单元在与液滴的排出方向交叉的方向上包括贯通孔的表面上的多个峰部。

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