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1. 发明授权

KR102201092B1 반도체 장치 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102201092B1
公开(公告)日：2021-01-11
申请号：KR1020140122856
申请日：2014-09-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이경우 , 이우진 , 김종삼 , 유우경 , 이영상 , 허민
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/306
摘要： 상부배선을형성하기위한트렌치공정에사용되는하드마스크를하부배선이손상되지않도록제거하여, 반도체소자의신뢰성및 성능을개선할수 있는반도체장치제조방법을제공하는것이다. 상기반도체장치제조방법은하부패턴을포함하는기판상에, 층간절연막및 제1 개구부를포함하는하드마스크패턴을순차적으로형성하고, 상기하드마스크패턴을이용하여, 상기층간절연막내에상기하부패턴을노출시키는트렌치를형성하고, 상기트렌치의측벽및 바닥면을따라서형성되는제1 부분과, 상기하드마스크패턴의상면을따라서형성되는제2 부분을포함하는라이너막을형성하고, 상기트렌치내에, 상기라이너막의제2 부분을노출시키는희생패턴을형성하고, 상기희생패턴을이용하여, 상기라이너막의제2 부분과, 상기하드마스크패턴을제거하고, 상기하드마스크패턴을제거한후, 상기희생패턴을제거하여상기라이너막의제1 부분을노출시키는것을포함한다.

2. 发明公开

KR1020160032558A 반도체 장치 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020160032558A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：KR1020140122856
申请日：2014-09-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이경우 , 이우진 , 김종삼 , 유우경 , 이영상 , 허민
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/76802 , H01L21/31144 , H01L21/76804 , H01L21/76811 , H01L21/76813 , H01L21/76814 , H01L21/76843 , H01L2221/1063
摘要： 상부배선을형성하기위한트렌치공정에사용되는하드마스크를하부배선이손상되지않도록제거하여, 반도체소자의신뢰성및 성능을개선할수 있는반도체장치제조방법을제공하는것이다. 상기반도체장치제조방법은하부패턴을포함하는기판상에, 층간절연막및 제1 개구부를포함하는하드마스크패턴을순차적으로형성하고, 상기하드마스크패턴을이용하여, 상기층간절연막내에상기하부패턴을노출시키는트렌치를형성하고, 상기트렌치의측벽및 바닥면을따라서형성되는제1 부분과, 상기하드마스크패턴의상면을따라서형성되는제2 부분을포함하는라이너막을형성하고, 상기트렌치내에, 상기라이너막의제2 부분을노출시키는희생패턴을형성하고, 상기희생패턴을이용하여, 상기라이너막의제2 부분과, 상기하드마스크패턴을제거하고, 상기하드마스크패턴을제거한후, 상기희생패턴을제거하여상기라이너막의제1 부분을노출시키는것을포함한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种半导体器件的制造方法，其可以通过去除在沟槽工艺中使用的硬掩模来形成上部导线，从而提高半导体器件的可靠性和性能，从而不会损坏下一个线。制造半导体器件的方法包括以下步骤：在包括下部图案的衬底上依次形成层间绝缘膜和包括第一孔部的硬掩模图案; 通过使用硬掩模图案形成在层间绝缘膜中暴露下图案的沟槽; 形成包括沿着所述沟槽的侧壁和底板形成的第一部分的衬垫膜，以及沿着所述硬掩模图案的上平面形成的第二部分; 在沟槽中形成暴露衬垫膜的第二部分的牺牲图案; 以及通过使用牺牲图案去除衬垫膜的第二部分和硬掩模图案; 并且在去除硬掩模图案之后，通过去除牺牲图案来暴露衬垫膜的第一部分。

3. 发明公开

KR1020150041565A 소음 제거 방법 및 장치와 무자석 스피커를 사용하는 음향 재생 장치 审中-实审
标题翻译：具有非磁性扬声器的降噪方法及装置及音响播放装置
公开(公告)号：KR1020150041565A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：KR1020140085353
申请日：2014-07-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 차아란 , 이건우 , 고상철 , 이영상 , 이윤재
IPC分类号： H04R3/04 , H04R9/02
CPC分类号： H04R3/04 , A61B5/055 , G10K2210/1161 , G10K2210/3213 , H04R2460/01
摘要： 소음을포함하는음성신호를입력받는입력부, 상기음성신호중의소음패턴의주기를추정하는주기추정부, 상기추정된소음패턴의주기를이용하여주파수영역에서상기음성신호로부터상기소음패턴을감산하여제거하는소음제거부, 상기소음의크기변화에따라상기소음패턴을업데이트하는소음업데이트부, 및상기소음패턴이제거된상기음성신호를출력하는출력부를포함하는음향장치가개시된다.
摘要翻译：提供一种音频装置。音频装置包括：被配置为接收包含噪声的音频信号的输入; 周期估计单元，被配置为估计音频信号中的噪声模式的周期; 噪声降低器，被配置为通过使用噪声模式的估计周期从频域中的音频信号中减去和去除噪声模式; 噪声更新器，被配置为根据噪声的幅度变化来更新噪声模式; 以及输出，被配置为输出通过去除噪声模式而获得的音频信号。

4. 发明公开

KR1020140125969A 소음 제거를 위한 헤드셋 审中-实审
标题翻译：消除噪音的耳机
公开(公告)号：KR1020140125969A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：KR1020130043726
申请日：2013-04-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이건우 , 고상철 , 이영상 , 김영태
IPC分类号： H04R1/10
CPC分类号： G01R33/288 , G01R33/283 , G10K11/17861 , G10K11/17881 , G10K2210/1081 , G10K2210/1161 , G10K2210/3224 , H04R1/1008 , H04R1/1083 , H04R2460/01
摘要： 소음 제거를 위한 헤드셋을 도시한다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 헤드셋의 외부에 위치하여 외부 소음을 감지하는 제1 마이크와, 헤드셋의 내부로 유입되는 외부 소음을 차단하는 제1 차단부와, 외부 소음 중 제1 차단부에 의해 차단되지 않은 소음을 차단하는 제2 차단부와, 제1 차단부 및 제2 차단부에 의해 차단되지 않은 소음을 포함하는 헤드셋의 내부 소음을 감지하는 제2 마이크와, 제2 마이크에 감지되는 내부 소음을 제거하기 위한 상쇄 소음을 출력하는 스피커를 포함하고, 제2 차단부는 제2 마이크를 둘러싸고 일 방향의 소리 전달 통로를 갖는다.
摘要翻译：公开了一种用于消除噪音的耳机。根据本发明的实施例，头戴式耳机包括位于耳机外部并检测外部噪声的第一麦克风; 第一阻塞单元阻止流入耳机的外部噪声; 第二阻挡单元，阻挡未被第一阻挡单元阻挡的噪声; 第二麦克风检测耳机内部的噪声，包括未被第一阻断单元和第二阻断单元阻挡的噪声; 以及输出偏移噪声的扬声器，用于去除由第二麦克风检测到的内部噪声。第二阻挡单元包围第二麦克风并且包括单向声音传播路径。

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