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热词
    • 1. 发明公开
    • 홈페이지 이동 서비스 방법 및 그 장치
    • 家庭移动服务的方法及其设备
    • KR1020010098265A
    • 2001-11-08
    • KR1020000023103
    • 2000-04-29
    • 삼성전자주식회사
    • 심성호
    • G06Q50/10
    • G06F17/30893
    • 홈페이지 이동 서비스 방법 및 그 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 홈페이지 이동 서비스 방법은 (a) 이동시킬 홈페이지 데이터를 저장하는 서버인 소오스 서버로부터 메인 홈페이지 데이터를 수신하는 단계와, (b) 수신된 데이터로부터 수정을 요하는 데이터를 추출하는 단계와, (c) 추출된 데이터를 소오스 서버의 환경과 목적지 서버의 환경을 기초로 결정된 매핑 관계를 저장하는 매핑 테이블을 참조하여 목적지 서버에 맞는 형식의 데이터로 변환하는 단계, 및 (d) 변환된 데이터를 포함한 홈페이지 데이터를 목적지 서버로 전송함으로써 목적지 서버에 이식하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
      본 발명에 따르면 하나의 서버내에 작성되어 있는 홈페이지를 수작업에 의하지 않고 빠르게 다른 서버로 이동시킬 수 있다.
    • 2. 发明公开
    • 사용자 인터페이스 기반 다중 색상 선택 방법
    • 基于用户界面选择一系列颜色的方法
    • KR1020000009575A
    • 2000-02-15
    • KR1019980030103
    • 1998-07-27
    • 삼성전자주식회사
    • 심성호
    • G06F3/0482G06F3/00
    • PURPOSE: A method for selecting a plural of color based on user interface is provided to simplify selecting process by unifying and displaying a select control panel for selecting one color. CONSTITUTION: The method for selecting a plural of color using user interface is comprising the steps of setting a color select mode for selecting color under user interface, selecting directly at least one color in color space region formed by mixing three primary colors and provided through the user interface according to setting of the color select mode, displaying a location on which at least one color selected and each color together displays in the predetermined color displaying region. The user interface is a graphical user interface.
    • 目的:提供一种基于用户界面选择多种颜色的方法,以通过统一和显示用于选择一种颜色的选择控制面板来简化选择过程。 构成:使用用户界面选择多种颜色的方法包括以下步骤:在用户界面下设置用于选择颜色的颜色选择模式,直接选择通过混合三原色形成的彩色空间区域中的至少一种颜色,并通过 根据所述颜色选择模式的设置显示所选择的至少一种颜色和每种颜色一起显示在所述预定颜色显示区域中的位置。 用户界面是一个图形用户界面。
    • 5. 发明公开
    • 반도체소자의 제조장치 및 제조방법
    • 用于制造半导体器件的装置和方法
    • KR1020020068605A
    • 2002-08-28
    • KR1020010008700
    • 2001-02-21
    • 삼성전자주식회사
    • 심성호김재필
    • H01L21/00
    • PURPOSE: An apparatus and a method for fabricating a semiconductor device are provided to dry and clean a back side of a wafer before performing a main etch process for a front side of the wafer. CONSTITUTION: A wafer fixing portion is used for fixing a wafer(203) in an intermediate part of a reaction chamber(101). A chuck is used as the wafer fixing portion. A cathode as the first parallel plate electrode is installed on an upper end portion of the reaction chamber(101). An anode as the second parallel plate electrode is installed on a lower end portion of the reaction chamber(101). A gas supply portion is used for supplying gases selectively a front side or a back side of the wafer(203). A power supply portion is used for supply power to the first parallel plate electrode or the second parallel plate electrode in order to form plasma(211) on the front side of the wafer(203) or the back side of the wafer(203).
    • 目的:提供一种用于制造半导体器件的装置和方法,用于在对晶片的前侧执行主蚀刻工艺之前干燥和清洁晶片的背面。 构成:晶片固定部分用于将晶片(203)固定在反应室(101)的中间部分。 使用卡盘作为晶片固定部。 作为第一平行板电极的阴极安装在反应室(101)的上端部。 作为第二平行板电极的阳极安装在反应室(101)的下端部。 气体供给部用于选择性地供给晶片(203)的前侧或后侧的气体。 电源部分用于向第一平行板电极或第二平行板电极供电,以在晶片(203)的前侧或晶片(203)的背面形成等离子体(211)。
    • 6. 发明授权
    • 아이콘의 효과적인 표현 장치 및 방법
    • 装置和方法提供有效的图标
    • KR100260922B1
    • 2000-07-01
    • KR1019970037881
    • 1997-08-08
    • 삼성전자주식회사
    • 심성호
    • G06T11/00
    • PURPOSE: An apparatus and a method for displaying efficiently an icon are provided to improve visibility of a tilt by adding a shadow effect to an icon object. CONSTITUTION: An apparatus and a method for displaying efficiently an icon comprise a storage portion(51), a pixel reading portion(52), a calculation portion(53), a display portion(54), and a control portion(55). The storage portion(51) stores a bit map resource, a mask, background image information, and a processed result. The pixel reading portion(52) reads the bit map resource, the mask, and the background image information. The calculation portion(53) calculates the read image information. The display portion(54) outputs the calculated colors. The control portion(55) controls operations of each portion.
    • 目的:提供一种有效显示图标的装置和方法,以通过向图标对象添加阴影效果来提高倾斜的可视性。 构成:用于高效显示图标的装置和方法包括存储部分(51),像素读取部分(52),计算部分(53),显示部分(54)和控制部分(55)。 存储部(51)存储位图资源,掩码,背景图像信息和处理结果。 像素读取部(52)读取位图资源,掩码和背景图像信息。 计算部(53)计算读取的图像信息。 显示部(54)输出计算出的颜色。 控制部(55)控制各部的动作。
    • 7. 发明公开
    • 고집적 반도체 메모리 소자의 금속 배선 형성방법
    • 用于形成高集成半导体存储器件的金属互连的方法
    • KR1020020021820A
    • 2002-03-23
    • KR1020000052375
    • 2000-09-05
    • 삼성전자주식회사
    • 김재필심성호
    • H01L21/3205
    • PURPOSE: A method for forming a metal interconnection of a high-integrated semiconductor memory device is provided to prevent photoresist from being left on a metal interconnection pattern, by controlling the thickness of polymer generated in forming the metal interconnection pattern so that the photoresist mask pattern used in forming the metal interconnection pattern is completely removed by one process. CONSTITUTION: A metal interconnection layer is etched by 30-90 percent in a condition wherein the pressure is from 8 to 22 milliTorr, radio frequency power is from 120 to 370 Watt, Cl2 gas is from 50 to 150 sccm and N2 gas is from 10 to 30 sccm. BCl2 gas of 40-90 sccm is added in the etch process of the metal interconnection layer.
    • 目的:提供一种用于形成高集成度半导体存储器件的金属互连的方法,以通过控制在形成金属互连图案中产生的聚合物的厚度来防止光致抗蚀剂残留在金属互连图案上,使得光致抗蚀剂掩模图案 用于形成金属互连图案的一个过程完全消除。 构成:金属互连层在压力为8至22毫乇,射频功率为120至370瓦,Cl2气体为50至150sccm,N2气体为10的条件下蚀刻30-90% 至30 sccm。 在金属互连层的蚀刻工艺中加入40-90sccm的BCl 2气体。