会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明授权
    • 네트워크 시스템의 원격 다운 로드 방법
    • 如何远程下载网络系统
    • KR100334792B1
    • 2002-05-02
    • KR1020000011778
    • 2000-03-09
    • 삼성전자주식회사
    • 박정용
    • H04L12/16
    • 본 발명은 네트워크 시스템에 관한 것으로서, 특히 네트워크 관리 시스템에서 파일을 생성하여 타겟 시스템으로 원격 다운 로드하는 방법에 관한 것이다.
      본 발명은 운용자와 인터페이스하는 네트워크 관리 시스템 운용자 터미널과, 상기 네트워크 관리 시스템 운용자 터미널의 제어에 따라 파일을 원격 다운 로드받는 게이트웨이 네트워크 엘리먼트 및 네트워크 엘리먼트를 포함하는, 네트워크 시스템의 원격 다운 로드 방법에 있어서, 상기 운용자로부터 소정 파일에 대한 원격 다운 로드 명령 입력을 감지한 네트워크 관리 시스템 운용자 터미널이 상기 파일에 대한 원격 다운 로드용 파일을 생성하는 과정과, 상기 네트워크 관리 시스템 운용자 터미널이 원격 다운 로드용 파일을 생성한 후 상기 게이트웨이 네트워크 엘리먼트의 DRAM으로 다운로드하는 과정과, 상기 게이트웨이 네트워크 엘리먼트는 FROM의 비운용중 영역을 검출하고, 상기 검출된 비운용 영역에 상기 원격 다운 로드용 파일을 설치하는 과� ��과, 상기 게이트웨이 네트워크 엘리먼트가 원격 다운 로드용 파일을 설치한 후 상기 네트워크 관리 시스템 운용자 터미널로부터 부팅 명령을 수신하면, 상기 원격 다운 로드용 파일의 신뢰성을 검사하는 과정과, 상기 검사 결과 상기 원격 다운 로드용 파일이 신뢰성이 있을 경우에만 상기 게이트웨이 네트워크 엘리먼트가 상기 원격 다운 로드용 파일을 상기 DRAM으로 로드하여 실행하는 과정으로 이루어진다.
    • 4. 发明公开
    • 멀티 타스크 시스템의 퍼포먼스 측정방법
    • KR1019990085978A
    • 1999-12-15
    • KR1019980018712
    • 1998-05-23
    • 삼성전자주식회사
    • 박정용
    • G06F9/46
    • 본 발명은 퍼포먼스 측정 명령이 인가된 후 데이터 수집시간과 리포트 출력시간이 인가되면 측정시간 동안 프리 카운터 타스크를 구동하고 카운터를 통해 초기 카운트 값을 측정하는 제1과정과, 데이터 수집시간에 의해 사용 버퍼 영역을 결정하여 결정한 사용 버퍼 영역을 측정시간에 대응하여 분할하는 제2과정과, 데이터 수집시간 경과 체크를 시작하고 측정시간을 주기로 하여 매 측정시간 중 상태 분석 타스크의 비가동이 발생할 시 프리 카운터 타스크를 구동하여 카운터를 통해 카운트한 실측 카운트 값을 사용 버퍼 영역의 해당 할당 영역에 순차적으로 기록하는 제3과정과, 제3과정을 수행하는 중에 매 리포트 출력 주기마다 초기 카운트 값과 해당 리포트 출력 주기 동안 측정시간 주기로 사용 버퍼 영역에 기록된 실측 카운트 값에 의해 계산한 점유율과 여유분율을 포함하는 리포트를 출력하는 제4과정과, 데이터 수집시간의 경과를 체크하면 퍼포먼스 측정을 종료하는 제5과정으로 이루어진 멀티 타스크 시스템의 퍼포먼스 측정방법을 구현하였다.
    • 8. 发明公开
    • 세정 소자, 세정 방법, 및 그 세정 방법을 구비한 소자 제조방법
    • 清洁装置,清洁方法和包含相同清洁方法的装置制造方法
    • KR1020140082073A
    • 2014-07-02
    • KR1020120151336
    • 2012-12-21
    • 삼성전자주식회사
    • 박정용박상규박석주방민규신언명
    • H01L21/02H01L21/302
    • B08B7/04B08B7/0028B08B7/0035G03F7/42G03F7/70341G03F7/70925Y10T29/49764
    • The present invention provides a cleaning device which is applicable to fabrication facilities having no chamber form without stopping the fabrication facilities, a cleaning method, and a method of fabricating a device having the cleaning method. The cleaning device includes: a frame substrate forming a framework; a first functional membrane formed on a first surface of the frame substrate; and a second functional membrane formed on a second surface of the support substrate in opposition to the first surface. The cleaning method includes the steps of: arranging the cleaning device having a frame substrate and functional membranes formed on both surface of the frame substrate, respectively, on a support table to support the substrate in a semiconductor fabrication process for the substrate or a display fabrication process; maintaining the cleaning device on the support table for a preset time; and removing the cleaning device from the support table.
    • 本发明提供了一种清洁装置,其适用于没有停止制造设备的无腔室的制造设备,清洁方法和制造具有清洁方法的装置的方法。 清洁装置包括:形成框架的框架基板; 形成在所述框架基板的第一表面上的第一功能膜; 以及形成在所述支撑基板的与所述第一表面相对的第二表面上的第二功能膜。 清洁方法包括以下步骤:将具有框架基板的清洁装置和形成在框架基板的两个表面上的功能膜分别布置在支撑台上以在用于基板的半导体制造工艺或显示制造中支撑基板 处理; 将清洁装置保持在支撑台上预定的时间; 以及从所述支撑台移除所述清洁装置。