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1. 发明公开

KR1019990025204A 카세트 측면 센서를 갖춘 스피너 장치 无效
标题翻译：带盒侧传感器的微调单元
公开(公告)号：KR1019990025204A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970046743
申请日：1997-09-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이석우 , 김도인 , 박석주 , 김상용
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 인덱서 카세트 세트부에 카세트 측면 센서를 갖춘 스피너(spinner) 장치에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 스피너 장치는 소정의 장소로부터 스피너 인덱서에 카세트를 세팅하기 위한 인덱서 카세트 세트부를 갖추고, 상기 인덱서 카세트 세트부는 카세트를 지지하기 위한 카세트 사이드 가이드와, 상기 카세트 사이드 가이드에 의해 카세트가 지지되는 상태에서 카세트가 세팅되도록 카세트를 지지하여 로딩시키는 카세트 가이드와, 카세트의 하부에 형성된 홈과 협동하여 카세트를 상기 카세트 가이드에 로딩된 상태로 세팅시키는 카세트 인사이드 가이드와, 카세트를 감지하는 카세트 감지 센서와, 웨이퍼를 감지하도록 발광부와 수광부로 구성되는 웨이퍼 감지 센서와, 카세트를 측면에서 감지할 수 있도록 카세트 사이드 가이드에 설치된 카세트 측면 센서를 구비한다.

2. 发明公开

KR1020110064198A 척 및 이를 갖춘 노광 장치 无效
标题翻译：抓住和接触的装置
公开(公告)号：KR1020110064198A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：KR1020090120693
申请日：2009-12-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이근희 , 이성기 , 박석주 , 홍종화 , 박종호 , 김정환
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70616 , G03F7/70841 , H01L21/6838
摘要： PURPOSE: A chuck and a light exposure device with the same are provided to contact a wafer through only a support unit formed on the external side of the chuck, thereby reducing influences due to foreign materials. CONSTITUTION: A chuck(10) is separated from the lower surface of a wafer. A plurality of negative pressure holes(11a) and a plurality of positive pressure holes(11b) are formed in the chuck. A planarization unit planarizes the surface of the wafer. A support unit(12) has a ring shape to support the external side of the wafer. A negative pressure generating device(40) generates negative pressure and transfers the negative pressure to the negative pressure holes. A positive pressure generating device(50) generates positive pressure and transfers the positive pressure to the positive pressure holes.
摘要翻译：目的：提供一种卡盘和具有该卡盘的曝光装置，以仅通过形成在卡盘外侧的支撑单元与晶片接触，从而减少由于异物引起的影响。构成：卡盘（10）与晶片的下表面分离。在卡盘中形成有多个负压孔（11a）和多个正压孔（11b）。平面化单元使晶片的表面平坦化。支撑单元（12）具有环形以支撑晶片的外侧。负压产生装置（40）产生负压并将负压传递到负压孔。正压力产生装置（50）产生正压并将正压传递到正压孔。

3. 发明公开

KR1020010018427A 반도체 웨이퍼 정렬장치 无效
标题翻译：用于对准半导体波形的装置
公开(公告)号：KR1020010018427A
公开(公告)日：2001-03-05
申请号：KR1019990034387
申请日：1999-08-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김재일 , 박석주
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: An apparatus for aligning a semiconductor wafer is provided to basically prevent a wafer from being distorted by a heat generating phenomenon of a light emitting portion, by maintaining a contact temperature of the wafer align apparatus through a temperature control unit using a Peltier device. CONSTITUTION: A light emitting unit(22) emits light to inspect an alignment state of a wafer(10). A light receiving unit(24) detects the light emitted from the light emitting unit, separated from the light emitting unit by a predetermined interval and opposed to the light emitting unit. A temperature control unit(50) eliminates a heat generating phenomenon of the light emitting unit, installed on a heat generating surface of the light emitting unit.
摘要翻译：目的：提供一种用于对准半导体晶片的装置，以通过使用珀耳帖装置的温度控制单元维持晶片对准装置的接触温度，基本上防止晶片被发光部分的发热现象扭曲。构成：发光单元（22）发光以检查晶片（10）的取向状态。光接收单元（24）检测从发光单元发射的与发光单元分离预定间隔并与发光单元相对的光。温度控制单元（50）消除了安装在发光单元的发热表面上的发光单元的发热现象。

4. 发明公开

KR1019970023634A 반도체 제조장치의 스크류 고정수단 失效
公开(公告)号：KR1019970023634A
公开(公告)日：1997-05-30
申请号：KR1019950036874
申请日：1995-10-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박석주 , 김진남 , 장일진 , 김동천
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 반도체 제조장치의 스크류 고정수단에 관한 것으로, 스크류를 회전시켜 XY 평면상의 임의의 작업위치를 결정하도록 된 반도체 제조장치에 있어서, 상하방향의 스크류 축의 휘어짐을 측정하기 위한 조정용 수단과, 좌우방향의 스크류 축의 휘어짐을 측정하기 위한 조정용 수단과, 조정용 수단들을 고정하기 위한 고정용 블럭을 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 종래에 장비 운용자의 경험을 바탕으로 스탭퍼의 스크류 축을 수동으로 교정할 수 밖에 없었던 것에 비하여, 별도로 구비된 조정용 수단을 사용하여 스크류 축의 휘어짐을 교정할 수 있게 된다.

5. 发明公开

KR1019960024683A 정렬, 노광머시인의 매칭방법 失效
标题翻译：对准，曝光机匹配法
公开(公告)号：KR1019960024683A
公开(公告)日：1996-07-20
申请号：KR1019940035632
申请日：1994-12-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김태영 , 박석주
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 이 발명은 정렬, 노광 머시인의 매칭방법에 관한 것으로 기준이 되는 머시인을 선정하여 기준 머시인을 기준으로 다른머시인을 매칭시켜 공정의 시간을 줄이고 보정, 조정을 할 필요가 없이 제품의 생산성을 높일 수 있는 정렬, 노광머시인의 매칭방법에 관한 것이다.

6. 发明公开

KR1020010017687A 노광 시스템 无效
标题翻译： LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR1020010017687A
公开(公告)日：2001-03-05
申请号：KR1019990033344
申请日：1999-08-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박석주
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: A lithography system is provided to increase uniformity of a line width regarding all of a unit exposure region, by a uniform quantity of light which reaches respective portion of the unit exposure region of a wafer exposed to light. CONSTITUTION: A multiple filter having different transmittivity depending on a portion, is installed in at least one position on a light path. The multiple filter is composed of a filter, a lens and a mirror. Different transmittivity is applied regarding each portion of a unit exposure region so that light is uniformly irradiated to all of the unit exposure region.
摘要翻译：目的：提供一种平版印刷系统，以通过均匀的光量来提高到达单个曝光区域的线宽的均匀性，该光量达到暴露于光的晶片的单元曝光区域的相应部分。构成：根据一部分具有不同透射率的多重滤光器安装在光路上的至少一个位置。多重滤波器由滤波器，透镜和反射镜组成。对单位曝光区域的每个部分施加不同的透射率，使得光均匀地照射到所有单位曝光区域。

7. 发明公开

KR1020000066320A 노광장치의 레티클 및 이를 이용한 베스트 초점선정방법 无效
标题翻译：曝光装置的使用方法和使用该曝光装置的最佳焦点选择方法
公开(公告)号：KR1020000066320A
公开(公告)日：2000-11-15
申请号：KR1019990013331
申请日：1999-04-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박석주 , 김재일
IPC分类号： G03F1/44 , G03F1/38
CPC分类号： G03F1/14 , G03F1/32 , G03F7/2063 , G03F7/70483 , G03F7/70633 , G03F7/70741 , G03F9/7084
摘要： PURPOSE: Are provided a reticle of exposure device and a best focus selection method by using the same, which is high at reliability of measurement for the best focus and can know the tilt component of expose shot. CONSTITUTION: The reticle is characterized by; being formed the first or the fourth overlay mark at the each of the four edges of the first scribe line; being formed the fifth overlay mark at the second scribe line, which draws two lines opposed the first scribe line. The best focus selection method of exposure device comprises the steps of; (a) the step of forming the overlay mark for best focus and tilt measurement of wafer to reticle; (b) the step of standing in line the reticle to exposure device; (c) the step of forming the overlay mark formed the reticle at wafer phase; (d) the step of measuring the overlay extent of the reticle from the overlay mark formed the wafer phase; and (e) the step of selecting the best focus of the exposure device to control the position of the wafer according to the measurement result and confirming the tilt extent of the wafer.
摘要翻译：目的：提供曝光装置的掩模版和采用相同的最佳对焦选择方法，这对于最佳对焦具有很高的测量可靠性，可以了解曝光镜头的倾斜分量。规定：掩模版的特征在于：在第一划线的四个边缘中的每一个处形成第一或第四叠加标记; 在第二划线上形成第五覆盖标记，其绘制与第一划线相对的两条线。曝光装置的最佳对焦选择方法包括以下步骤：（a）形成覆盖标记的步骤，以使晶片与掩模版的最佳聚焦和倾斜测量; （b）将标线放置在曝光装置上的步骤; （c）形成在晶圆相处形成掩模版的覆盖标记的步骤; （d）从形成晶片相的覆盖标记测量掩模版的覆盖范围的步骤; 以及（e）选择曝光装置的最佳焦点以根据测量结果控制晶片的位置并确认晶片的倾斜范围的步骤。

8. 发明授权

KR100161443B1 반도체 제조장치의 스크류 고정수단 失效
标题翻译：半导体制造设备的螺钉固定装置
公开(公告)号：KR100161443B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950036874
申请日：1995-10-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박석주 , 김진남 , 장일진 , 김동천
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 반도체 제조장치의 스크류 고정수단에 관한 것으로, 스크류를 회전시켜 XY 평면상의 임의의 작업위치를 결정하도록 된 반도체 제조장치에 있어서, 상하방향의 스크류 축의 휘어짐을 측정하기 위한 조정용 수단과, 좌우방향의 스크류 축의 휘어짐을 측정하기 위한 조정용 수단과, 조정용 수단들을 고정하기 위한 고정용 블럭을 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 종래에 장비 운용자의 경험을 바탕으로 스탭퍼의 스크류 축을 수동으로 교정할 수 밖에 없었던 것에 비하여, 별도로 구비된 조정용 수단을 사용하여 스크류 축의 휘어짐을 교정할 수 있게 된다.

9. 发明公开

KR1020040040964A 반도체 소자의 노광 조건 자동 설정을 위한 노광 장치 및방법 无效
标题翻译：曝光装置及自动设定半导体器件曝光条件的方法
公开(公告)号：KR1020040040964A
公开(公告)日：2004-05-13
申请号：KR1020020069350
申请日：2002-11-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박석주
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus and a method for automatically setting the exposure condition of a semiconductor device are provided to be capable of embodying an optimum pattern and improving productivity. CONSTITUTION: An exposure apparatus is provided with a stepper(10) for exposing a wafer, a focus/leveling measurement system(20) for measuring focus and tilt value on the wafer, and a controlling part(30) for transmitting the optimum focus and tilt value according to the position on the wafer to the stepper. Preferably, the controlling part includes a wafer information reading part(32) for reading the measured data of the focus/leveling measurement system, an exposure condition setting part(34) for setting the optimum focus and tilt value, and a control order generating part(36) for linking the optimum focus and tilt value to the exposure recipe of the stepper.
摘要翻译：目的：提供一种用于自动设定半导体器件的曝光条件的曝光装置和方法，以能够体现最佳图案并提高生产率。构成：曝光装置设置有用于暴露晶片的步进器（10），用于测量晶片上的焦点和倾斜值的对焦/调平测量系统（20），以及用于传送最佳焦点和根据晶片上的位置对步进器的倾斜值。优选地，控制部分包括用于读取聚焦/调平测量系统的测量数据的晶片信息读取部分（32），用于设置最佳聚焦和倾斜值的曝光条件设置部分（34）和控制顺序生成部分（36），用于将最佳聚焦和倾斜值与步进机的曝光配方相关联。

10. 发明公开

KR1019970018340A 웨이퍼 언로딩 장치 失效
公开(公告)号：KR1019970018340A
公开(公告)日：1997-04-30
申请号：KR1019950034014
申请日：1995-09-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김진남 , 박석주 , 장일진
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 본 발명은 웨이퍼 언로딩 장치에 관해서 게시한다. 본 발명에 의한 언로딩 장치는 카세트 테이블을 상하로 구동하기 위해 볼스크루로 구성된 레일을 사용하고, 센서 고정용 블록에 센서를 고정하는 방법으로서 고정볼트를 수평으로 고정한다. 상기 본 발명에 의해 오랫동안 사용할지라도 웨이퍼 카세트의 피치를 항상 정확하게 맞출 수가 있기 때문에 웨이퍼를 카세트 테이블로 슬롯 내부에 정확히 언로딩할 수가 있다. 또한 센서 고정용 블록에 센서를 수평으로 고정함으로서 외부의 충격으로 인해 센서의 위치가 변하는 것을 방지할 수 있다.

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