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1. 发明授权

KR100643520B1 마이크로웨이브를 이용한 기판 표면처리 및 박막형성장치 失效
标题翻译：使用微波形成薄膜并处理基板表面的设备
公开(公告)号：KR100643520B1
公开(公告)日：2006-11-10
申请号：KR1020040040697
申请日：2004-06-04
申请人： 박상원 , 정윤식 , 박장식
发明人： 박상원 , 박장식 , 정윤식 , 안원술 , 김성국 , 이용길 , 김태우 , 정원상
IPC分类号： H01L21/363
摘要： 본 발명은 마그네트론의 안테너 주위와 기판 주위에 유도코일을 형성함으로써, 낮은 압력상태에서도 기판의 표면처리가 이루어질 수 있도록 하고, 타켓트 입자가 기판 주위의 플라즈마에 의해 이온화되어 기판에 입사되게 하되, 상기 표면처리과정과 박막성막과정이 연속하여 이루어질 수 있도록 한다.
진공 챔버 내부에 진공상태를 유지하여 기판을 밀폐된 상태에서 마이크로웨이브에 노출시켜 표면처리하고, 성막공정을 수행하는 장치에 있어서, 상기 진공 챔버 내부 소정의 위치에 마이크로웨이브를 방사하는 마그네트론과 마그네트론 안테너 주위에, RF 전원을 인가하여 500∼5000 Gauss의 자기장을 형성하여 1∼10mtorr의 낮은 압력에서 전자들의 운동을 활성화시켜 기판의 표면처리를 할 수 있도록 유도코일을 형성하는 수단; 상기 진공 챔버 내부 소정의 위치에 형성되어 마이너스 바이어스가 인가된 기판 홀더에 기판을 형성하고, 상기 기판 주위에는 RF 전원이 인가되는 유도코일을 형성하는 수단; 타켓트가 부착된 백킹플레이트 하단에 자기회로를 형성하여 상기 타켓트에 인가된 전원에 의해 발생되는 자기장과 전자에 의해 가스를 이온화시켜 플라즈마 상태를 형성하는 수단; 상기 진공 챔버 외부에 형성되어 진공 배기를 하는 로터리펌프와 터보 펌프를 구성하고, 진공 챔버 내에 알곤가스, 산소가스, 테트라플루오르메탄(CF4)가스, 질소가스, 수소가스, 헤륨가스를 공급하는 가스봄베를 구성하는 수단;으로 이루어지는 마이크로웨이브를 이용한 기판 표면처리 및 박막형성장치에 관한 것이다.
마이크로웨이브, 기판, 박막, 유도코일, 표면처리

2. 发明公开

KR1020050115954A 마이크로웨이브를 이용한 기판 표면처리 및 박막형성장치 失效
标题翻译：使用微波形成薄膜和处理基板表面的设备
公开(公告)号：KR1020050115954A
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：KR1020040040697
申请日：2004-06-04
申请人： 박상원 , 정윤식 , 박장식
发明人： 박상원 , 박장식 , 정윤식 , 안원술 , 김성국 , 이용길 , 김태우 , 정원상
IPC分类号： H01L21/363
CPC分类号： H01J37/321 , H01J37/32201
摘要： 본 발명은 마그네트론의 안테너 주위와 기판 주위에 유도코일을 형성함으로써, 낮은 압력상태에서도 기판의 표면처리가 이루어질 수 있도록 하고, 타켓트 입자가 기판 주위의 플라즈마에 의해 이온화되어 기판에 입사되게 하되, 상기 표면처리과정과 박막성막과정이 연속하여 이루어질 수 있도록 한다.
진공 챔버 내부에 진공상태를 유지하여 기판을 밀폐된 상태에서 마이크로웨이브에 노출시켜 표면처리하고, 성막공정을 수행하는 장치에 있어서, 마이크로웨이브를 방사하는 마그네트론과 마그네트론 안테너 주위에, RF 전원을 인가하여 기판의 표면처리를 할 수 있도록 유도코일을 형성하는 수단; 마이너스 바이어스가 인가된 기판 홀더에 기판을 형성하고, 상기 기판 주위에는 유도코일을 형성하는 수단; 타켓트가 부착된 백킹플레이트 하단에 자기회로를 형성하여 상기 타켓트에 인가된 전원에 의해 발생되는 플라즈마 상태를 형성하는 수단; 진공 배기를 하는 로터리펌프와 터보 펌프를 구성하고, 진공 챔버 내에 알곤가스, 산소가스 및 X가스를 공급하는 알곤가스봄베, 산소가스봄베 및 X가스봄베를 구성하는 수단;으로 이루어지는 마이크로웨이브를 이용한 기판 표면처리 및 박막형성장치에 관한 것이다.

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