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1. 发明公开

KR1020130126936A 애퍼처 어레이 냉각장치를 갖춘 하전 입자 리소그래피 시스템 有权
标题翻译：带孔阵列冷却的带电粒子平移系统
公开(公告)号：KR1020130126936A
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：KR1020137015246
申请日：2011-11-14
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 빌란트,마르코얀-야코 , 반벤,알렉산데르헨드릭빈센트 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/22 , H01J37/317 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437
摘要： 타겟의 표면으로 패턴을 전사하기 위한 하전 입자 리소그래피 시스템으로서, 복수의 하전 입자 빔렛들을 발생시키기 위한 빔 발생기(복수의 빔렛들은 컬럼을 정의함), 및 제 1 애퍼처 어레이, 블랭커 어레이, 빔 중단 어레이, 및 투영 렌즈 어레이를 포함하는 복수의 애퍼처 어레이 엘리먼트들을 포함한다. 각각의 애퍼처 어레이 엘리먼트는 복수의 그룹들로 배열된 복수의 애퍼처들을 포함하고, 상기 애퍼처들은 빔렛들이 애퍼처 어레이 엘리먼트를 통과하도록 하며, 각각의 애퍼처 어레이 엘리먼트의 애퍼처들의 그룹들은 빔 영역들 사이에 형성되고 빔렛들의 통과를 위한 어떠한 애퍼처들도 포함하지 않는 복수의 논-빔 영역들과는 구별되는 별도의 빔 어레이를 형성하고, 애퍼처 어레이 엘리먼트들의 빔 영역들은 빔 샤프트들을 형성하도록 정렬되고, 상기 빔 샤프트들 각각은 복수의 빔렛들을 포함하고, 애퍼처 어레이 엘리먼트들의 논-빔 영역들은 빔렛들이 존재하지 않는 논-빔 샤프트들을 형성하도록 정렬된다. 제 1 애퍼처 어레이 엘리먼트에는 제 1 애퍼처 어레이 엘리먼트를 냉각시키기 위한 냉매의 전달을 위해 적응된 냉각 채널들이 제공되며, 상기 냉각 채널들은 제 1 애퍼처 어레이 엘리먼트의 논-빔 영역 내에 제공된다.

2. 发明授权

KR101755577B1 애퍼처 어레이 냉각장치를 갖춘 하전 입자 리소그래피 시스템 有权
标题翻译：带孔径阵列冷却系统的带电粒子光刻系统
公开(公告)号：KR101755577B1
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：KR1020137015246
申请日：2011-11-14
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 빌란트,마르코얀-야코 , 반벤,알렉산데르헨드릭빈센트 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/22 , H01J37/317 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437
摘要： 타겟의표면으로패턴을전달하기위한하전입자리소그래피시스템으로서, 복수의하전입자빔렛들을발생시키기위한빔 발생기(복수의빔렛들은컬럼을정의함), 및제 1 애퍼처어레이, 블랭커어레이, 빔중단어레이, 및투영렌즈어레이를포함하는복수의애퍼처어레이엘리먼트들을포함한다. 각각의애퍼처어레이엘리먼트는복수의그룹들로배열된복수의애퍼처들을포함하고, 상기애퍼처들은빔렛들이애퍼처어레이엘리먼트를통과하도록하며, 각각의애퍼처어레이엘리먼트의애퍼처들의그룹들은빔 영역들사이에형성되고빔렛들의통과를위한어떠한애퍼처들도포함하지않는복수의논-빔영역들과는구별되는별도의빔 어레이를형성하고, 애퍼처어레이엘리먼트들의빔 영역들은빔 샤프트들을형성하도록정렬되고, 상기빔 샤프트들각각은복수의빔렛들을포함하고, 애퍼처어레이엘리먼트들의논-빔영역들은빔렛들이존재하지않는논-빔샤프트들을형성하도록정렬된다. 제 1 애퍼처어레이엘리먼트에는제 1 애퍼처어레이엘리먼트를냉각시키기위한냉매의전달을위해적응된냉각채널들이제공되며, 상기냉각채널들은제 1 애퍼처어레이엘리먼트의논-빔영역내에제공된다.
摘要翻译：用于将图案转移到目标，用于产生多个带电粒子子束（多个子束被限定列）的一个束发生器的表面的带电粒子光刻系统，mitje第一孔径阵列，消隐器阵列，所述波束停止阵列以及包括投影透镜阵列的多个孔径阵列元件。每个孔阵列元件包括多个布置在多个组中的孔，并且其中所述孔被子束是，并穿过孔径阵列元件，一组每个孔的阵列元件的孔径是光多个可讨论的任何孔也不包括区之间和用于子束束区域的从单独的形式的那些光束的区域的光束阵列，并且加以区别孔径阵列元件的通道形成对准以形成光束轴各轴的束包括多个子束和孔径阵列元件交谈束区是非子束都存在 - 被对准以形成所述梁的轴。第一孔径阵列元件设置有适于输送用于冷却第一孔径阵列元件的冷却剂的冷却通道，冷却通道可包括所讨论的第一孔径阵列的元素 - 在光束区域中设置。

3. 发明授权

KR101607618B1 리소그라피 시스템에서 기판을 프로세싱하는 방법 有权
标题翻译：在地层系统中处理基板的方法
公开(公告)号：KR101607618B1
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：KR1020137031509
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피시스템의리소그라피시스템유닛에서기판들을프로세싱하는방법이개시되며, 상기리소그라피시스템유닛은적어도 2개의기판준비유닛들(360a 내지 360d), 적어도제 1 및제 2 기판위치들을포함하는로드록 유닛(310) 및상기기판준비유닛들과상기로드록 유닛간에기판들을전달하기위한기판핸들링로봇을포함한다. 방법은 N번째기판, 상기 N번째기판바로앞의 N-1번째기판, 및상기 N번째기판바로뒤의 N+1번째기판을포함하는, 노출될기판들의시퀀스를상기로봇에제공하는단계; 상기로봇에의해상기기판준비유닛들중 제 1 기판준비유닛에상기 N번째기판을전달하는단계; 상기제 1 기판준비유닛에서제 1 기판지지구조상에상기 N번째기판을클램핑하는단계 - 상기 N번째기판및 제 1 기판지지구조는클램핑된 N번째기판을함께형성함 - ; 상기리소그라피시스템유닛에서노출을위해상기로봇에의해상기제 1 기판준비유닛으로부터로드록 유닛의제 1 및제 2 위치들중 점유되지않은위치로상기클램핑된 N번째기판을전달하는단계; 및상기리소그라피시스템유닛에서상기클램핑된 N번째기판을노출하는단계를포함한다.

4. 发明公开

KR1020140025495A 리소그라피 시스템에서 기판을 프로세싱하는 방법 有权
标题翻译：在地层系统中处理基板的方法
公开(公告)号：KR1020140025495A
公开(公告)日：2014-03-04
申请号：KR1020137031509
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피 시스템의 리소그라피 시스템 유닛에서 기판들을 프로세싱하는 방법이 개시되며, 상기 리소그라피 시스템 유닛은 적어도 2개의 기판 준비 유닛들(360a 내지 360d), 적어도 제 1 및 제 2 기판 위치들을 포함하는 로드 록 유닛(310) 및 상기 기판 준비 유닛들과 상기 로드 록 유닛 간에 기판들을 전달하기 위한 기판 핸들링 로봇(401)을 포함한다. 방법은 N번째 기판, 상기 N번째 기판 바로 앞의 N-1번째 기판, 및 상기 N번째 기판 바로 뒤의 N+1번째 기판을 포함하는, 노출될 기판들의 시퀀스를 상기 로봇에 제공하는 단계; 상기 로봇에 의해 상기 기판 준비 유닛들 중 제 1 기판 준비 유닛에 상기 N번째 기판을 전달하는 단계; 상기 제 1 기판 준비 유닛에서 제 1 기판 지지 구조 상에 상기 N번째 기판을 클램핑하는 단계 - 상기 N번째 기판 및 제 1 기판 지지 구조는 함께 클램핑된 N번째 기판을 형성함 - ; 상기 리소그라피 시스템 유닛에서 노출을 위해 상기 로봇에 의해 상기 제 1 기판 준비 유닛으로부터 상기 제 1 및 제 2 위치들 중 점유되지 않은 위치로 상기 클램핑된 N번째 기판을 전달하는 단계; 및 상기 리소그라피 시스템 유닛에서 상기 클램핑된 N번째 기판을 노출하는 단계를 포함한다.

5. 发明公开

KR1020160047590A 리소그라피 시스템에서 기판을 전달하기 위한 장치 审中-实审
标题翻译：用于在光刻系统中传送衬底的设备
公开(公告)号：KR1020160047590A
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020167009917
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피시스템(300) 내에서기판들(405)을전달하기위한장치(401)로서, 상기리소그라피시스템은클램핑된기판을형성하기위해기판지지구조상에기판을클램핑하기위한기판준비유닛(360a-b) 및언클램핑된기판들을수용하기위한기판공급시스템(315)을갖는인터페이스를포함한다. 상기장치는언클램핑된기판을전달하기위한핑거들(684a,b)의제 1 세트및 기판지지구조(403)를전달하기위한핑거들(685a,b)의제 2 세트가제공된바디(680)를포함하고, 상기핑거들의제 1 세트는핑거들의제 2 세트아래에위치되고핑거들의제 1 세트의핑거들은핑거들의제 2 세트의핑거들과상이한형상을갖는다.
摘要翻译：的平版印刷系统300在装置401的光刻系统中发送所述衬底405，衬底用于衬底夹紧到所述衬底支撑结构制备单元（360A-B），以形成被夹住的衬底并且具有用于接收夹持基板的基板供应系统315的接口。该装置包括用于使所述夹紧基板（684A，B）议程第一组和衬底支撑结构403，手指的卸载手指（685A，B）上日程主体680中的第二组提供一种用于发射第一组指状物位于第二组指状物下方，并且第一组指状物具有与第二组指状物的指状物不同的形状。

6. 发明公开

KR1020120135413A 기판 지지 구조물, 클램프 준비 유닛, 그리고 리소그래피 시스템 有权
标题翻译：基座支撑支架，夹具准备单元和平移系统
公开(公告)号：KR1020120135413A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：KR1020127024406
申请日：2011-02-18
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6875 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/707 , H01J37/3174 , H01L21/68757 , H01L21/0274 , G03F7/2041 , H01L21/6835
摘要： 액체(11)의 모세관 층에 의해 표면(16) 위에 기판을 클램핑하기 위한 기판 지지 구조물(13). 표면은 외측 에지(28)를 구비하며 클램핑될 수용하기 위한 하나 또는 그 초과의 기판 지지 엘리먼트들(17)을 포함하며, 여기서, 하나 또는 그 초과의 기판 지지 엘리먼트들은 복수의 지지 로케이션들에서 기판에 대한 지지를 제공하도록 배열된다. 기판 지지 구조는 표면을 둘러싸고 실링 림을 형성하는 상단 면 또는 에지(22, 24, 26)를 구비하는 실링 구조(21)를 더 포함한다. 표면의 외측 에지와 지지 로케이션들 중 최외곽 지지 로케이션 사이의 거리(c)는 외측 에지와 실링 림 사이의 거리(d)보다 크다.
摘要翻译：一种用于通过液体的毛细管层将衬底夹持在表面上的衬底支撑结构。表面具有外边缘并且包括一个或多个用于接收待夹持的基板的基板支撑元件，其中所述一个或多个基板支撑元件被布置成在多个支撑位置处为基板提供支撑。衬底支撑结构还包括限定表面的密封结构，并具有形成密封边缘的顶表面或边缘。表面的外边缘和支撑位置的最外侧之间的距离大于外边缘和密封边缘之间的距离。

7. 发明授权

KR101892460B1 리소그라피 시스템에서 기판을 전달하기 위한 장치 有权
公开(公告)号：KR101892460B1
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：KR1020167009917
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피시스템(300) 내에서기판들(405)을전달하기위한장치(401)로서, 상기리소그라피시스템은클램핑된기판을형성하기위해기판지지구조상에기판을클램핑하기위한기판준비유닛(360a-b) 및언클램핑된기판들을수용하기위한기판공급시스템(315)을갖는인터페이스를포함한다. 상기장치는언클램핑된기판을전달하기위한핑거들(684a,b)의제 1 세트및 기판지지구조(403)를전달하기위한핑거들(685a,b)의제 2 세트가제공된바디(680)를포함하고, 상기핑거들의제 1 세트는핑거들의제 2 세트아래에위치되고핑거들의제 1 세트의핑거들은핑거들의제 2 세트의핑거들과상이한형상을갖는다.

8. 发明授权

KR101686549B1 기판 지지 구조물, 클램프 준비 유닛, 그리고 리소그래피 시스템 有权
标题翻译：基板支撑结构夹具准备单元和算术系统
公开(公告)号：KR101686549B1
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：KR1020127024406
申请日：2011-02-18
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 데종,헨드릭얀
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6875 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/707 , H01J37/3174 , H01L21/68757
摘要： 액체(11)의모세관층에의해표면(16) 위에기판을클램핑하기위한기판지지구조물(13). 표면은외측에지(28)를구비하며클램핑될수용하기위한하나이상의기판지지엘리먼트들(17)을포함하며, 여기서, 하나이상의기판지지엘리먼트들은복수의지지위치들에서기판에대한지지를제공하도록배열된다. 기판지지구조는표면을둘러싸고실링림을형성하는상단면 또는에지(22, 24, 26)를구비하는실링구조(21)를더 포함한다. 표면의외측에지와지지위치들중 최외측지지위치사이의거리(c)는외측에지와실링림 사이의거리(d)보다크다.
摘要翻译：一种用于通过液体的毛细管层将衬底夹持在表面上的衬底支撑结构。表面具有外边缘并且包括一个或多个用于接收待夹持的基板的基板支撑元件，其中所述一个或多个基板支撑元件被布置成在多个支撑位置处为基板提供支撑。衬底支撑结构还包括限定表面的密封结构，并具有形成密封边缘的顶表面或边缘。表面的外边缘和支撑位置的最外侧之间的距离大于外边缘和密封边缘之间的距离。

9. 发明授权

KR101614475B1 리소그라피 시스템에서 기판을 전달하기 위한 장치 有权
标题翻译：用于在地平线系统中传输基板的装置
公开(公告)号：KR101614475B1
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：KR1020137031510
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피시스템(300) 내에서기판들(405)을전달하기위한장치(401)로서, 상기리소그라피시스템은클램핑된기판을형성하기위해기판지지구조상에기판을클램핑하기위한기판준비유닛(360a-b) 및언클램핑된기판들을수용하기위한기판공급시스템(315)을갖는인터페이스를포함한다. 상기장치는언클램핑된기판을전달하기위한핑거들(684a,b)의제 1 세트및 기판지지구조(403)를전달하기위한핑거들(685a,b)의제 2 세트가제공된바디(680)를포함하고, 상기핑거들의제 1 세트는핑거들의제 2 세트아래에위치되고핑거들의제 1 세트의핑거들은핑거들의제 2 세트의핑거들과상이한형상을갖는다.

10. 发明公开

KR1020140041501A 리소그라피 시스템에서 기판을 전달하기 위한 장치 有权
标题翻译：用于在地平线系统中传输基板的装置
公开(公告)号：KR1020140041501A
公开(公告)日：2014-04-04
申请号：KR1020137031510
申请日：2012-05-01
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 쿠퍼,빈센트실버스타 , 슬롯,에르윈 , 반커빈크,마르셀니콜라스제이콥스 , 데보어,가이도 , 데종,헨드릭얀
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 리소그라피 시스템 내에서 기판들을 전달하기 위한 장치로서, 상기 리소그라피 시스템은 클램핑된 기판을 형성하기 위해 기판 지지 구조 상에 기판을 클램핑하기 위한 기판 준비 유닛 및 언클램핑된 기판들을 수용하기 위한 기판 공급 시스템과의 인터페이스를 포함한다. 상기 장치는 언클램핑된 기판을 전달하기 위한 핑거들의 제 1 세트 및 기판 지지 구조를 전달하기 위한 핑거들의 제 2 세트가 제공된 바디를 포함하고, 상기 핑거들의 제 1 세트는 핑거들의 제 2 세트 아래에 위치되고 핑거들의 제 1 세트의 핑거들은 핑거들의 제 2 세트의 핑거들과 상이한 형상을 갖는다.

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