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1. 发明公开

KR1020170112496A 투명 전극 구조체 및 이를 포함하는 필름 터치 센서 审中-实审
标题翻译：透明电极结构及包含其的薄膜触摸传感器
公开(公告)号：KR1020170112496A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020160039593
申请日：2016-03-31
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 조수호 , 송선영 , 이상웅
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044
摘要： 본발명은투명전극구조체및 이를포함하는필름터치센서에관한것으로서, 보다상세하게는, 금속나노와이어를포함하는투명전극층및 상기투명전극층상에형성된절연층을포함하고, 상기금속나노와이어의일부는투명전극층외부로돌출되며, 상기돌출된금속나노와이어의일부는상기투명전극층의물질로코팅되고, 상기절연층은상기돌출된금속나노와이어를덮도록형성됨으로써, 우수한전기전도도, 투과도및 내구성을구현할수 있고, 투명전극층과금속나노와이어간에형성되는공극에절연층이침투되어결함발생을억제할수 있는투명전극구조체및 이를포함하는필름터치센서에관한것이다.
摘要翻译：本发明是透明电极的结构，并涉及一种膜，所述触摸传感器包括相同，并且更具体地，金属纳米透明电极包括线，并包括形成在所述透明电极层上的绝缘层，所述金属纳米线的一部分外部突出的透明电极层，所述突出金属纳米线的一部分涂覆有透明电极层的，绝缘层是通过形成实施为覆盖突起的金属纳米线，优异的导电性，透射率和耐久性的材料以及透明电极结构，其能够通过将绝缘层穿透到形成在透明电极层和金属纳米线之间的空隙中来抑制缺陷的产生，以及包括该透明电极结构的膜触摸传感器。

2. 发明授权

KR101403716B1 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 有权
标题翻译：清洁液体组合物及使用其的清洁方法
公开(公告)号：KR101403716B1
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020080008295
申请日：2008-01-25
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 윤효중 , 송선영 , 김태희
IPC分类号： C11D3/06 , C11D1/66 , C11D1/722 , C11D3/04 , C11D3/00 , C11D11/00
摘要： 본 발명은 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 플렉서블 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(Flat panel display, FPD) 용 기판의 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이며, 보다 자세하게는, 염기성 화합물, 인산암모늄염 화합물 및 물을 포함하는 플랫 패널 디스플레이 기판용 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 방법을 사용할 경우 FPD를 제조하는 공정에서, FPD 기판상에 발생하는 유기 오염물이나 파티클 오염물을 기판상에 형성되어 있는 배선 등에 손상을 주지 않고, 효과적으로 제거할 수 있다.
세정, FPD, 액정표시소자
摘要翻译：本发明涉及一种清洁液组合物和使用该基板的用于平板显示器的清洗方法（平板显示器，FPD）如液晶显示器，等离子显示器，柔性显示器，更具体地，碱性化合物，磷酸盐化合物和水本发明涉及一种平板显示器衬底的清洗液组合物和使用相同的包括的清洁方法，在使用本发明，这是在衬底上的FPD基板上产生的有机污染物和颗粒污染物形成的方法时的FPD的制造工序它可以有效地去除而不损坏布线等。

3. 发明公开

KR1020130104384A 광학부재, 이를 포함하는 편광판 및 입체화상표시장치 无效
标题翻译：光学部件，极化板和包括其的立体图像显示
公开(公告)号：KR1020130104384A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：KR1020120025833
申请日：2012-03-14
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 임정구 , 김병인 , 송선영
IPC分类号： G02B27/26
CPC分类号： G02B27/26 , G02B1/11 , G02B1/14 , G02B5/32 , H04N13/337
摘要： PURPOSE: Optical member, polarization plate having the same and stereoscopic image display device are provided to improve the productivity while increasing the visibility of a stereoscopic image. CONSTITUTION: An optical member includes a transparent protection film (20), a quarter wave phase difference layer (50) and a surface treatment layer (10). The quarter wave phase difference layer is formed by coating a reactive liquid crystal compound on the bottom surface of the transparent protection film and orienting the bottom surface by 45°. The reactive liquid crystal compound consists of mesogen capable of showing liquid crystalline properties. The surface treatment layer is selected from a group consisting of a hard coating layer, a reflection prevention layer, an adhesion prevention layer, a diffusion prevention layer or anti-glare layer.
摘要翻译：目的：提供具有相同立体图像显示装置的光学构件，偏光板，以提高立体图像的可见度，提高生产率。构成：光学构件包括透明保护膜（20），四分之一波相位差层（50）和表面处理层（10）。通过在透明保护膜的底面上涂布反应性液晶化合物并使底面取向45°，形成四分之一波长相位差层。反应性液晶化合物由能够显示液晶性质的介晶构成。表面处理层选自硬涂层，防反射层，防粘附层，防扩散层或防眩层。

4. 发明公开

KR1020090086695A 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
标题翻译：清洁溶液组合物和使用其清洁面板的方法
公开(公告)号：KR1020090086695A
公开(公告)日：2009-08-14
申请号：KR1020080012124
申请日：2008-02-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송선영 , 윤효중 , 김태희
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/36 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/263 , C11D7/261 , C11D7/36 , C11D11/0047
摘要： A cleaning solution composition is provided to remove organic pollutants or particles on a glass board before a process for forming an alignment layer of a liquid crystal display device substrate. A cleaning solution composition for a flat panel display comprises, based on the total weight of the washing solution, alkali compound 0.01-5 weight%, protonic alkylene glycol monoalkyl ether compound 0.05-20 weight%, ammonium phosphate 0.01-10 weight%, azole compound 0.001-5 weight%, and water of the remaining amount. The azole compound is selected from the group consisting of a triazole compound, pyrazole compound, imidazole compound, oxazole compound, thiazol compound, tetrazole compound, their derivative and their mixture.
摘要翻译：在形成液晶显示装置基板的取向层的工序之前，提供清洗液组合物以除去玻璃板上的有机污染物或颗粒。用于平板显示器的清洁溶液组合物基于洗涤液的总重量，包含0.011-5重量％的碱性化合物，0.05-20重量％的质子性亚烷基二醇单烷基醚化合物，0.01-10重量％的磷酸铵，唑化合物0.001-5重量％，剩余量的水。唑化合物选自三唑化合物，吡唑化合物，咪唑化合物，恶唑化合物，噻唑化合物，四唑化合物及其衍生物及其混合物。

5. 发明公开

KR1020090085217A 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
标题翻译：清洁溶液组合物和使用其清洁面板的方法
公开(公告)号：KR1020090085217A
公开(公告)日：2009-08-07
申请号：KR1020080011000
申请日：2008-02-04
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송선영 , 윤효중 , 김태희
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/36 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/263 , C11D7/261 , C11D7/36 , C11D11/0047
摘要： A cleaning solution composition is provided to remove organic pollutants or particles on glass substrates, and to prevent the corrosion of aluminum or copper wiring forming a gate electrode and a source/drain electrode. A cleaning solution composition for a flat panel display substrate comprises an alkali compound 0.01-5 weight%, a protic alkylene glycol monoalkyl ether compound 0.05-20 weight%, an ammonium phosphate 0.01-10 weight%, sugar alcohol 0.01-5 weight% and the balance of water. The alkali compound is selected from the group consisting of monoethanolamine, monoisopropylamine, hydroxylamine, ammonium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide and their mixture.
摘要翻译：提供清洁溶液组合物以去除玻璃基底上的有机污染物或颗粒，并且防止形成栅电极和源/漏电极的铝或铜布线的腐蚀。用于平板显示基材的清洁溶液组合物包含0.01-5重量％的碱性化合物，0.05-20重量％的质子性亚烷基二醇单烷基醚化合物，0.01-10重量％的磷酸铵，0.01-5重量％的糖醇和水的平衡。碱金属化合物选自单乙醇胺，单异丙胺，羟胺，氢氧化铵，氢氧化钾，氢氧化钠，四甲基氢氧化铵及其混合物。

6. 发明公开

KR1020080111268A 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 无效
标题翻译：清洁溶液组合物和使用其的清洁方法
公开(公告)号：KR1020080111268A
公开(公告)日：2008-12-23
申请号：KR1020070059453
申请日：2007-06-18
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 윤효중 , 송선영 , 김태희
IPC分类号： C11D3/075 , C11D1/72
CPC分类号： C11D7/5022 , C11D7/00 , C11D11/0047 , H01L21/02041
摘要： A cleaning solution composition is provided to remove the organic impurities on a glass substrate or particles and to prevent the corrosion of aluminum or aluminum alloy wire. A cleaning solution composition comprises basic solution; an ammonium salt compound; an alkylene glycol monoalkyl ether compound; and water. The basic solution is an aqueous solution of the aqueous solution of an inorganic base or organic base. The ammonium salt compound is at least selected from a group consisting of an inorganic ammonium compound and an organic ammonium compound. The alkylene glycol monoalkyl ether compound is at least one selected from a group consisting of ethyleneglycol monobutyl ether(BG), diethylene glycol monomethyl ether(MDG), diethylene glycol monoethyl ether(carbitol), diethylene glycol monobuthyl ether(BDG), dipropylene glycol monmethyl ether(DPM), diethylene glycol mono ethyl ether(MFDG), triethelen glycol mono butyl ether(BTG), triethylene glycol monoethyl ether(MTG) and the propylene glycol monomethyl ether.
摘要翻译：提供清洁溶液组合物以去除玻璃基底或颗粒上的有机杂质，并防止铝或铝合金丝的腐蚀。清洁溶液组合物包含碱性溶液; 铵盐化合物; 亚烷基二醇单烷基醚化合物; 和水。碱性溶液是无机碱或有机碱的水溶液的水溶液。铵盐化合物至少选自无机铵化合物和有机铵化合物。亚烷基二醇单烷基醚化合物是选自乙二醇单丁醚（BG），二甘醇单甲醚（MDG），二甘醇单乙醚（卡必醇），二甘醇单丁醚（BDG），二丙二醇单甲基醚乙醚（DPM），二甘醇单乙醚（MFDG），三烯丙基二醇单丁醚（BTG），三甘醇单乙醚（MTG）和丙二醇单甲醚。

7. 发明公开

KR1020080067507A 레지스트 박리용 조성물, 이를 이용한 박리방법, 및 그조성물의 재생 방법 无效
标题翻译：用于去除电阻的剥离组合物，以及使用其剥离的方法和回收它们
公开(公告)号：KR1020080067507A
公开(公告)日：2008-07-21
申请号：KR1020070004892
申请日：2007-01-16
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박면규 , 윤효중 , 송선영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C07D498/04 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/422
摘要： A composition for stripping a resist, a method for stripping a resist by using the composition, and a method for regenerating the composition are provided to allow the resist denatured or cured by high temperature treatment and dry etching to be removed easily at a low temperature within a short time. A composition for stripping a resist comprises 50-99.9 wt% of an alkylene carbonate; and 0.1-50 wt% of an amide compound represented by the formula 1, wherein R1, R2 and R3 are independently H, a C1-C10 alkyl group, a C1-C10 allyl group, a C1-C10 hydroxyalkyl group, a carboxyl group, an amino group substituted or unsubstituted with a C1-C4 alkyl group, or -R4-O-R5; R4 is a C1-C4 alkylene group; R5 is a C1-C10 substituted or unsubstituted alkyl group; and R1 and R2 or R3 can form a ring together.
摘要翻译：提供用于剥离抗蚀剂的组合物，通过使用该组合物剥离抗蚀剂的方法，以及再生该组合物的方法，以使抗蚀剂通过高温处理和干蚀刻变性或固化在低温下容易地除去很短的时间。剥离抗蚀剂的组合物包含50-99.9重量％的碳酸亚烷基酯; 和0.1-50重量％的由式1表示的酰胺化合物，其中R 1，R 2和R 3独立地为H，C 1 -C 10烷基，C 1 -C 10烯丙基，C 1 -C 10羟烷基，羧基取代或未取代的具有C 1 -C 4烷基的氨基或-R 4 -O-R 5; R4是C1-C4亚烷基; R5是C1-C10取代或未取代的烷基; 并且R1和R2或R3可以一起形成环。

8. 发明公开

KR1020070101971A 금속용 세정제 有权
标题翻译：金属清洁剂
公开(公告)号：KR1020070101971A
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：KR1020060033503
申请日：2006-04-13
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송선영 , 마사유키타카시마
IPC分类号： C11D3/02 , C11D3/00 , C11D1/02 , C11D11/00
CPC分类号： C11D3/02 , C11D1/02 , C11D3/0073 , C11D11/0029
摘要： A cleaner for metals is provided to remove the oxide layer and/or nitride layer deposed on a substrate without the corrosion of metals and the deformation or twisting of metals at a room temperature. A cleaner for metals comprises 0.1-5 wt% of a compound containing a fluorine atom; 0.01-2 wt% of an anticorrosive; and the balance of water. Preferably the compound containing a fluorine atom is selected from the group consisting of hydrogen fluoride, perfluoric acid, ammonium fluoride, tetramethylammonium fluoride, ammonium bifluoride, diethylene triammonium trifluoride and their mixture; and the anticorrosive is selected from the group consisting of a phosphate-based chelating agent, an anticorrosive surfactant and their mixture.
摘要翻译：提供用于金属的清洁剂以去除沉积在基底上的氧化物层和/或氮化物层，而不会有金属的腐蚀和金属在室温下的变形或扭曲。金属清洁剂含有0.1-5重量％的含氟原子的化合物; 0.01〜2wt％的防腐蚀剂; 和水的平衡。优选含有氟原子的化合物选自氟化氢，全氟酸，氟化铵，四甲基氟化铵，氟化氢铵，二乙烯三氟化铵及其混合物; 防腐蚀剂选自磷酸盐类螯合剂，防腐表面活性剂及其混合物。

9. 发明授权

KR101403742B1 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 有权
标题翻译：清洁组合物及使用其的清洁面板的处理
公开(公告)号：KR101403742B1
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020080008648
申请日：2008-01-28
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 윤효중 , 송선영 , 김태희
IPC分类号： C11D3/06 , C11D1/66 , C11D3/04 , C11D11/00 , C11D3/00 , C11D3/20
摘要： 본 발명은 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 플렉서블 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(Flat panel display, FPD) 용 기판의 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이며, 보다 자세하게는, (a)염기성 화합물, (b)인산암모늄염 화합물, (c) 하이드록실기방향족 화합물 및 (d) 물을 포함하는 플랫 패널 디스플레이 기판용 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 세정 방법을 사용할 경우, FPD를 제조하는 공정에서, FPD 기판상에 발생하는 유기 오염물이나 파티클 오염물을 기판상에 형성되어 있는 배선 등에 손상을 주지 않고, 효과적으로 제거할 수 있다.
세정, FPD, 액정표시소자

10. 发明授权

KR101319113B1 금속용 세정제 有权
标题翻译：金属清洁剂
公开(公告)号：KR101319113B1
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：KR1020060033503
申请日：2006-04-13
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송선영 , 마사유키타카시마
IPC分类号： C11D3/02 , C11D3/00 , C11D1/02 , C11D11/00
摘要： 본 발명은 금속용 세정제에 관한 것으로, 상세하게는 불소 함유 화합물, 부식 방지제 및 물을 포함하는 금속용 세정제에 관한 것이다.
본 발명에 따른 세정제는, 세정공정 중 원하는 부분의 막 증착을 위해 사용된 금속 마스크의 세정에 특히 유효한 것으로 기판에 증착된 산화막 및/또는 질화막을 깨끗하게 제거할 뿐만 아니라 금속막의 부식을 발생시키지 않는다. 또한, 본 발명에 따른 세정제는, 실온에서 세정하는 것이 가능하기 때문에 금속의 뒤틀림이나 변형이 생기지 않고 반복 사용이 가능하다.
세정제, 금속용 세정제, 불소 화합물
摘要翻译：金属清洗剂技术领域本发明涉及金属清洗剂，特别涉及含有氟化合物，腐蚀抑制剂和水的金属清洗剂。

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