会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明授权
    • 플립칩 패키지용 평면형 건 다이오드
    • 平面型Gunn二极管用于倒装芯片封装
    • KR100876822B1
    • 2009-01-08
    • KR1020060121617
    • 2006-12-04
    • 동국대학교 산학협력단
    • 이진구채연식이성대
    • H01L29/86
    • 본 발명은 건 다이오드에 관한 것으로서 반절연성 화합물 반도체로 이루어진 반도체기판과, 상기 반도체기판 상에 에피택셜 성장법에 의해 불순물이 고농도로 도핑되게 형성된 화합물 반도체로 이루어진 활성층과, 상기 활성층 상의 소정 부분에 액상 또는 기상 에피택셜 성장법에 의해 형성된 불순물이 도핑된 화합물 반도체로 메사 구조를 이루어 상기 활성층의 양측이 노출되게 형성된 스페이서층과, 상기 스페이서층 상에 액상 또는 기상 에피택셜 성장법에 의해 형성된 불순물이 도핑된 화합물 반도체로 형성된 제 1 접촉저항층과, 상기 활성층 상의 상기 스페이서층이 형성되지 않은 부분에 액상 또는 기상 에피택셜 성장법에 의해 형성된 불순물이 도핑된 화합물 반도체로 형성된 제 2 접촉저항층과, 상기 제 1 접촉저항층 상에 형성된 음극 전극과, 상기 제 2 접촉저항층 상에 형성된 양극 전극을 포함한다. 그러므로, 반도체 기판을 얇은 두께로 연마하지 않고 활성층이 얇게 형성되므로 제조 원가를 감소시키며, 평면 형태 패키지시 와이어 본딩이 필요없어 공정을 감소시킬 수 있으고, 또한, 발진기 구성시 발진 주파수가 증가할수록 신호 손실이 증가되는 것을 방지할 수 있다.
      건 다이오드, 평면 형태 구조, 패키지, 와이어 본딩
    • 4. 发明公开
    • 플립칩 패키지용 평면형 건 다이오드
    • 平面型枪型二极管
    • KR1020080050829A
    • 2008-06-10
    • KR1020060121617
    • 2006-12-04
    • 동국대학교 산학협력단
    • 이진구채연식이성대
    • H01L29/86
    • A planar type gun diode for use in a flip-chip package is provided to reduce a manufacture cost by forming a thin active layer without polishing a semiconductor substrate thinly. A semiconductor substrate(31) is comprised of a semi-insulating compound semiconductor. An active layer(33) comprised of a compound semiconductor, where impurities are doped with a high concentration by an epitaxial growth method, is formed on the semiconductor substrate. A spacer layer(35) is formed on a predetermined part on the active layer to expose both sides of the active layer by making a mesa structure with the impurity-doped compound semiconductor formed by a liquid or vapor epitaxial growth method. A first contact resistance layer(37) is formed on the spacer layer with the impurity-doped compound semiconductor formed by the liquid or vapor epitaxial growth method. A second contact resistance layer(41) is formed on a part of the active layer where the spacer layer is not formed. The second contact resistance layer is formed with the impurity doped compound semiconductor formed by the liquid or vapor epitaxial growth method. A cathode electrode(39) is formed on the first contact resistance layer. An anode electrode(43) is formed on the second contact resistance layer.
    • 提供了一种用于倒装芯片封装的平面型二极管,用于通过形成薄的有源层而不对半导体衬底进行薄的研磨来降低制造成本。 半导体衬底(31)由半绝缘化合物半导体构成。 在半导体衬底上形成由化学半导体构成的有源层(33),其中通过外延生长法以高浓度掺杂杂质。 在活性层上的预定部分上形成间隔层(35),通过与通过液体或气相外延生长法形成的杂质掺杂化合物半导体形成台面结构来暴露有源层的两侧。 通过液体或气相外延生长方法形成的杂质掺杂化合物半导体在间隔层上形成第一接触电阻层(37)。 在没有形成间隔层的有源层的一部分上形成第二接触电阻层(41)。 第二接触电阻层由通过液体或气相外延生长法形成的杂质掺杂化合物半导体形成。 阴极电极(39)形成在第一接触电阻层上。 阳极电极(43)形成在第二接触电阻层上。