专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101899167B1 액 처리 장치 및 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR101899167B1
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：KR1020130083959
申请日：2013-07-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오가타노부히로 , 와키야마데루후미 , 가이요시히로 , 가모료우가 , 이케다요시노리
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： B08B3/04 , H01L21/67051
摘要： 배기경로에있어서의드레인부주변이외의부분의세정을행할수 있는액 처리장치및 세정방법을제공한다. 액처리장치(10)는, 드레인부(71 내지 74)의근방에마련되고, 기판유지부(52)에의해유지된기판(W)의주위의분위기를배기하기위한배기부(76)와, 배기부(76)에연결되는배기경로(77)를형성하는배기경로형성부재(66)와, 배기경로(77)측의배기경로형성부재(66)에세정액을공급하는제1 세정부(90)를구비하고있다.

2. 发明公开

KR1020140013937A 액 처리 장치 및 세정 방법 审中-实审
标题翻译：液体加工设备和清洗方法
公开(公告)号：KR1020140013937A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：KR1020130083959
申请日：2013-07-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오가타노부히로 , 와키야마데루후미 , 가이요시히로 , 가모료우가 , 이케다요시노리
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： B08B3/04 , H01L21/67051
摘要： Provided are a liquid processing apparatus capable of performing a cleaning process on a region except the peripheral region of a drain part in a purge line and a cleaning method. A liquid processing apparatus (10) includes a purge part (76) prepared near a drain part (71 to 74) and discharging the atmosphere of a substrate (W) hold by a substrate holding part (52), a purge path forming member (66) forming a purge path (77) connected to the purge part (76), a first cleaning part (90) supplying a cleaning solution to the purge path formation member (66) in the purge path (77).
摘要翻译：提供一种液体处理装置，其能够对清除管线中的排出部分的周边区域以外的区域进行清洁处理和清洁方法。液体处理装置（10）包括在排出部分（71至74）附近准备的排出部分（76），并且通过基板保持部分（52）将基板（W）的气氛排出，并将净化通路形成部件 66），形成连接到所述吹扫部分（76）的吹扫路径（77）;第一清洁部分（90），其将净化溶液供应到所述吹扫路径（77）中的所述吹扫路径形成部件（66）。

3. 发明授权

KR102237507B1 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR102237507B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020140065736
申请日：2014-05-30
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 가이요시히로 , 이케다요시노리 , 시노하라가즈요시 , 오다데츠야 , 다나카사토루 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
摘要： 본발명은세정성능을향상시키고아울러소형화를도모하는것을특징으로한다. 실시형태에따른기판처리장치는, 기판에처리액을토출하는제1 노즐및 제2 노즐과, 제1 노즐과제2 노즐을이동시키는이동기구와, 적어도제2 노즐을세정하는노즐세정장치를구비한다. 노즐세정장치는, 세정조와, 오버플로조를구비한다. 세정조는, 적어도제2 노즐을세정하기위한세정액을저류하는저류부와, 정해진수위를초과한세정액을저류부로부터배출하는오버플로부를구비한다. 오버플로조는, 세정조에인접하여배치되고, 오버플로부로부터배출되는세정액을받아외부에배출한다.

4. 发明授权

KR101835904B1 현상 처리 장치 有权
标题翻译：显影处理装置
公开(公告)号：KR101835904B1
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：KR1020130109787
申请日：2013-09-12
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다키구치야스시 , 야마모토다로 , 이케다요시노리 , 요시무라고키 , 오카모토요시키 , 후쿠다마사히로
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017
摘要： 본발명의과제는포지티브형현상액에의한현상처리와네거티브형현상액에의한현상처리의양쪽을행할수 있는현상처리장치에있어서, 탑재하는모듈수를감소시킴으로써, 장치의소형화를가능하게하는것이다. 스핀척(40)과, 웨이퍼(W)에대해포지티브형레지스트용현상액을공급하는포지티브형현상액공급노즐과, 웨이퍼(W)에대해네거티브형레지스트용현상액을공급하는네거티브형현상액공급노즐과, 가동컵(45)을갖고, 가동컵을상승시킴으로써내주유로(48b)에포지티브형또는네거티브형레지스트용의한쪽의비산된현상액을도입시키고, 가동컵을하강시킴으로써외주유로(48a)에포지티브형또는네거티브형레지스트용의다른쪽의비산된현상액을도입시킨다. 내주유로에도입된현상액은한쪽의드레인배출구(49b)로부터배출되고, 외주유로에도입된현상액은다른쪽의드레인배출구(49a)로부터배출된다.
摘要翻译：由本发明的显影过程和显影剂的目的，显影装置，可以同时执行与由负显影溶液的处理的正型显影液，减少模块的数量将被安装，以使装置的小型化。用于将抗蚀剂的正显影剂供应到晶片W的正显影剂供应喷嘴;用于将晶片W的负显影剂供应到晶片W的负显影剂供应喷嘴; 具有杯（45），通过提高可动杯内，并引入侧向散射开发用于在流路中的正或负性抗蚀剂溶液（48B），通过降低可动杯正或负的外周流路（48A）介绍了另一种用于抗蚀剂的散射显影剂。被引入到内圆周流动路径中的显影剂从排出口49b中的一个排出，并且引入到外圆周流动路径中的显影剂从另一排出口49a排出。

5. 发明公开

KR1020170077829A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
标题翻译：基板处理装置及基板处理方法
公开(公告)号：KR1020170077829A
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：KR1020160180118
申请日：2016-12-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이케다요시노리 , 다니구치유키 , 시노하라가즈요시
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687
摘要： [과제] 컵의둘레벽부의상면에부착된이물질을제거할수 있는기판처리장치및 기판처리방법을제공한다. [해결수단] 실시형태의일 양태에따른기판처리장치는, 유지부와, 처리액공급부와, 컵과, 세정액공급부를구비한다. 유지부는기판을유지한다. 처리액공급부는기판에대하여처리액을공급한다. 컵은, 바닥부와, 바닥부로부터세워져설치되는통형상의둘레벽부와, 둘레벽부의상측에설치되어기판으로부터비산된처리액을받는액수용부와, 둘레벽부의상면에둘레방향을따라서형성된홈부를가지며, 유지부를둘러싼다. 세정액공급부는, 둘레벽부의상면에대하여세정액을공급한다.
摘要翻译：发明内容本发明提供一种能够去除附着在杯的周壁部的上表面的异物的基板处理装置和基板处理方法。 [解决问题的手段]根据本实施例的一个方面，提供与保持部及该处理液供给部，杯的部分和清洗液供给一种基板处理装置。保持部分保持衬底。处理液供应部分将处理液供应到基板。该杯包括底部，从底部竖立设置的管状周壁部，设置在周壁部的上侧以接收从基板散射的处理液的液体供给部，并围绕保持部分。清洁液体供应部分将清洁液体供应到周壁部分的上表面。

6. 发明公开

KR1020140141514A 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 审中-实审
标题翻译：基板加工设备和喷嘴清洁方法
公开(公告)号：KR1020140141514A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：KR1020140065736
申请日：2014-05-30
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 가이요시히로 , 이케다요시노리 , 시노하라가즈요시 , 오다데츠야 , 다나카사토루 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： B05B15/555 , C03C23/0075 , H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要： 본 발명은 세정 성능을 향상시키고 아울러 소형화를 도모하는 것을 특징으로 한다.
실시형태에 따른 기판 처리 장치는, 기판에 처리액을 토출하는 제1 노즐 및 제2 노즐과, 제1 노즐과 제2 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 적어도 제2 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치를 구비한다. 노즐 세정 장치는, 세정조와, 오버플로조를 구비한다. 세정조는, 적어도 제2 노즐을 세정하기 위한 세정액을 저류하는 저류부와, 정해진 수위를 초과한 세정액을 저류부로부터 배출하는 오버플로부를 구비한다. 오버플로조는, 세정조에 인접하여 배치되고, 오버플로부로부터 배출되는 세정액을 받아 외부에 배출한다.
摘要翻译：本发明是为了提高清洗性能，确保小型化。根据实施例的基板处理装置包括：第一喷嘴，将基板处理液喷射的第二喷嘴，使第一喷嘴和第二喷嘴移动的移动单元;以及喷嘴清洗装置，其至少清洗第二喷嘴。喷嘴清洁装置包括清洗槽和溢流槽。清洗槽包括存储部分，其存储用于清洁至少第二喷嘴的清洁溶液和从存储部分排出在预定水位上流动的清洁溶液的溢流部分。溢流槽与清洗槽相邻，将从溢流器排出的清洗液排出到外部。

7. 发明公开

KR1020140035281A 현상 처리 장치 审中-实审
标题翻译：开发加工设备
公开(公告)号：KR1020140035281A
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：KR1020130109787
申请日：2013-09-12
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다키구치야스시 , 야마모토다로 , 이케다요시노리 , 요시무라고키 , 오카모토요시키 , 후쿠다마사히로
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017 , H01L21/0274
摘要： The project of the present invention is to reduce the number of modules by miniaturizing a development processing device capable of performing development processing by both positive and negative developers. The device includes a spin chuck (40), a positive developer supply nozzle supplying a developer for a positive resist for a wafer (W), a negative developer supply nozzle supplying a developer for a negative resist for the wafer (W), and an operating cup (45). One of the developers for the positive or negative resist is inserted into an inner path (48b) by raising the operating cup up and one of the developers for the positive or negative resist is inserted into an outer path (48a) by taking the operating cup down. The developer inserted into the inner path is discharged from a drain outlet (49b) and the developer inserted into the outer path is discharged from the other drain outlet (49a).
摘要翻译：本发明的项目是通过正面和负面的开发者能够进行开发处理的开发处理装置的小型化来减少模块的数量。该装置包括旋转卡盘（40），向晶片（W）提供正性抗蚀剂的显影剂的正显影剂供应喷嘴，为晶片（W）供给负性抗蚀剂的显影剂的负极显影剂供应喷嘴，以及操作杯（45）。将正或负抗蚀剂的显影剂中的一个通过将操作杯向上升起而插入到内部路径（48b）中，并且通过将操作杯（48a）插入到正面或负面抗蚀剂中的一个显影剂被插入外部路径（48a）下。插入到内部路径中的显影剂从排出口49b排出，并且插入到外部路径中的显影剂从另一个排出口49a排出。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式