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1. 发明授权

KR102228490B1 기판 처리 장치 및 액 공급 장치 有权
公开(公告)号：KR102228490B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020140145166
申请日：2014-10-24
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이노우에시게히사
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 기판처리의면내균일성을높이는것. 실시형태에따른기판처리장치는, 유지기구와, 복수의노즐과, 조정부를구비한다. 유지기구는, 기판을회전가능하게유지한다. 복수의노즐은, 유지기구에유지된기판의직경방향으로배열되어배치되며, 기판에대하여약액을공급한다. 조정부는, 제1 온도의약액과제1 온도보다고온의제2 온도의약액을미리정해진비율로각 노즐에공급한다. 또한, 조정부는, 기판의외주부측에배치되는노즐에대하여, 기판의중심부측에배치되는노즐보다제2 온도의약액을높은비율로공급한다. 그리고, 각노즐은, 공급된제1 온도의약액과제2 온도의약액이혼합된약액을기판에대하여공급한다.

2. 发明公开

KR1020150048067A 기판 처리 장치 및 액 공급 장치 审中-实审
标题翻译：基板加工装置和液体供应装置
公开(公告)号：KR1020150048067A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020140145166
申请日：2014-10-24
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이노우에시게히사
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67253
摘要： 기판처리의면내균일성을높이는것. 실시형태에따른기판처리장치는, 유지기구와, 복수의노즐과, 조정부를구비한다. 유지기구는, 기판을회전가능하게유지한다. 복수의노즐은, 유지기구에유지된기판의직경방향으로배열되어배치되며, 기판에대하여약액을공급한다. 조정부는, 제1 온도의약액과제1 온도보다고온의제2 온도의약액을미리정해진비율로각 노즐에공급한다. 또한, 조정부는, 기판의외주부측에배치되는노즐에대하여, 기판의중심부측에배치되는노즐보다제2 온도의약액을높은비율로공급한다. 그리고, 각노즐은, 공급된제1 온도의약액과제2 온도의약액이혼합된약액을기판에대하여공급한다.
摘要翻译：本发明的目的是提高基板处理的表面均匀性。根据本发明实施例的基板处理装置包括保持装置，多个喷嘴和控制单元。保持装置保持基板可旋转。多个喷嘴沿径向布置在维持装置上以向基板提供化学溶液。控制单元以规定的比例向第一温度和比第一温度高的第二温度的化学溶液提供化学溶液。此外，控制单元将第二温度的更多的化学溶液与设置在更接近基板的中心的喷嘴的第二温度的化学溶液相比更靠近基板的外周的喷嘴供给更多的化学溶液。并且每个喷嘴将所提供的第一温度的化学溶液和所提供的第二温度的化学溶液的混合溶液提供到基底上。

3. 发明授权

KR102251256B1 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102251256B1
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：KR1020140074886
申请日：2014-06-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이노우에시게히사 , 나가야마다이스케 , 마츠키가츠후미 , 마스즈미다쿠로 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠 , 기요세히로미 , 우노다카시 , 마루야마히로타카 , 고야마가즈야 , 나가자와다카시
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683
摘要： 본발명은액적상의처리액으로기판을처리하는기판액처리장치및 기판액처리방법에있어서, 기판의표면에파티클이부착되는것을억제하여, 기판의처리를양호하게행할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판액처리장치(1)에서, 기판(3)의표면을향해순수를함유하는액적상의제1 처리액을토출하는제1 처리액토출부(12)와, 상기액적상의제1 처리액으로처리한상기기판(3)의표면을향해, 상기기판(3) 표면의제타전위를네거티브로반전시키는제2 처리액을토출하는제2 처리액토출부(13)를갖는것으로하였다. 예컨대상기제1 처리액으로서는, 이산화탄소가첨가된순수가이용되고, 상기제2 처리액으로서는, SC-1액이이용된다.

4. 发明公开

KR1020160047394A 기판 액처리 장치 审中-实审
标题翻译：基板液体加工设备
公开(公告)号：KR1020160047394A
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020150144634
申请日：2015-10-16
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이노우에시게히사 , 히가시지마지로 , 아키모토마사미
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , B05B13/0228 , B05B15/50 , B05B15/55 , B05B15/70 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B3/12
摘要： 본발명은장치내의오염을억제하면서노즐아암을청정한상태로유지하는것이가능한기판액처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판액처리장치(16)에있어서, 노즐아암(42, 43)에유지된처리액노즐(41)은기판유지부(31)에유지된기판(W)에처리액을공급하고, 아암세정조(23)는노즐아암(42, 43)을세정액속에침지시켜이들부재의전체면를세정한다.
摘要翻译：本发明提供一种用于处理具有液体的基板的装置，其能够将喷嘴臂保持清洁，同时抑制装置内的污染。在用液体处理基板的设备（16）中，保持在喷嘴臂（42,43）中的处理液喷嘴（41）将处理液体供应到保持在基板保持单元（31）中的基板（W），并且手臂清洁桶（23）将喷嘴臂（42,43）浸入清洁液中并清洁喷嘴臂的构件的整个表面。

5. 发明公开

KR1020150050416A 액 처리 장치 审中-实审
标题翻译：液体加工设备
公开(公告)号：KR1020150050416A
公开(公告)日：2015-05-08
申请号：KR1020140147230
申请日：2014-10-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 히가시지마지로 , 도우키유이치 , 아키모토마사미 , 이노우에시게히사
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/6715 , B08B1/04 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , Y10S134/902
摘要： 미스트의발생을억제하면서처리액을컵을향하여배출하는것이가능한액 처리장치를제공한다. 처리액공급부(40)로부터, 회전하는기판(W)에처리액을공급하여액 처리를행하는액 처리장치에있어서, 연직축둘레로회전가능하게구성된기판유지부(31)는, 기판(W)을수평으로흡착유지하기위한유지면(311)을구비한다. 가이드부(34)는, 기판유지부(31)와일체로형성되며, 그기판유지부(31)에유지된기판(W)의주위에배치되고, 기판(W)의주연부의상면의높이와동일하거나, 이높이보다낮은높이위치에마련되며, 기판(W)의상면을흘러온 처리액을안내하기위한안내면(347)을구비한다. 회전컵(35)은, 기판유지부(31)와함께일체적으로회전하며, 기판유지부(31)의외방에마련된컵(50a∼50c)을향하여, 가이드부(34)와의사이에서처리액을안내한다.
摘要翻译：提供了一种液体处理装置，其将防止产生雾的处理液体排出到杯子。在从处理液供给部（40）向处理液供给处理液并进行液体处理的液体处理装置中，能够围绕纵轴旋转的基板保持部（31）具有保持面（ 311），用于水平地吸附基板（W）。引导部（34）与基板保持部（31）一体化并且被配置在由基板保持部（31）保持的基板（W）的周围。引导部的高度与基板（W）的周边部的上侧的高度相同或者低于基板的周边部的高度。引导部分包括用于引导从基板（W）的上侧泄漏的处理液的引导表面（347）。旋转杯（35）与基板保持部（31）一起旋转。旋转杯将处理液引导到在引导部分（34）和旋转杯之间的间隙中准备到基板保持部分（31）外部的杯（50a-50c）。

6. 发明公开

KR1020140148330A 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 审中-实审
标题翻译：液体加工设备和液体加工方法
公开(公告)号：KR1020140148330A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：KR1020140074886
申请日：2014-06-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이노우에시게히사 , 나가야마다이스케 , 마츠키가츠후미 , 마스즈미다쿠로 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠 , 기요세히로미 , 우노다카시 , 마루야마히로타카 , 고야마가즈야 , 나가자와다카시
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683
CPC分类号： B08B3/02 , H01L21/67051
摘要： An objective of the present invention is to provide an apparatus and a method of liquid processing a substrate, in which particles are suppressed from attaching to a substrate so that the substrate is satisfactorily processed. The liquid processing apparatus (1) of the present invention includes: a first processing liquid discharge unit (12) to discharge a first processing liquid in a form of liquid droplets, which contains pure water toward the surface of the substrate (13) ; and a second processing liquid discharge unit (13) to discharge a second processing liquid, which inverts a zeta electrical potential of a surface of the substrate (3) to a negative zeta potential, toward the surface of the substrate (3) processed by the first processing liquid in the form of the liquid droplets. For example, a pure water having carbon dioxide added is used as the first processing liquid and an SC-1 liquid is used as the second processing liquid.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种液体处理衬底的装置和方法，其中抑制颗粒附着到衬底上，使得衬底被令人满意地加工。本发明的液体处理装置（1）包括：第一处理液体排出单元（12），其将含有纯水的液滴形式的第一处理液体朝向基板（13）的表面排出; 以及第二处理液体排出单元（13），用于将基板（3）的表面的ζ电位反转为负ζ电位的第二处理液朝向由所述基板（3）处理的基板（3）的表面首先以液滴的形式处理液体。例如，使用添加有二氧化碳的纯水作为第一处理液，使用SC-1液作为第二处理液。

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