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1. 发明授权

KR100981212B1 액처리방법 및 액처리장치 失效
标题翻译：液体加工方法和液体加工设备
公开(公告)号：KR100981212B1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：KR1020090125972
申请日：2009-12-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야히로슈운이치 , 타테야마키요히사 , 모토다키미오
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
기판, 액처리장치, 반송로, 증기 분사 노즐, 건조처리부

2. 发明公开

KR1020030072250A 액처리방법 및 액처리장치 失效
标题翻译：溶液处理方法和液体处理装置
公开(公告)号：KR1020030072250A
公开(公告)日：2003-09-13
申请号：KR1020030013395
申请日：2003-03-04
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야히로슈운이치 , 타테야마키요히사 , 모토다키미오
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

3. 发明授权

KR101003625B1 액처리방법 및 액처리장치 失效
公开(公告)号：KR101003625B1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：KR1020030013395
申请日：2003-03-04
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야히로슈운이치 , 타테야마키요히사 , 모토다키미오
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

4. 发明公开

KR1020100004909A 액처리방법 및 액처리장치 失效
标题翻译：液体加工方法和液体加工设备
公开(公告)号：KR1020100004909A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：KR1020090125972
申请日：2009-12-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야히로슈운이치 , 타테야마키요히사 , 모토다키미오
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G03F7/36 , G02F1/1303
摘要： PURPOSE: A liquid processing method and a liquid processing apparatus for preventing the generation of watermark are provided to improve the quality of the substrate by preventing the generation of the watermark. CONSTITUTION: A substrate is carried in an excimer UV irradiation unit(S1). A dry cleaning by an ultraviolet irradiation is implemented(S2). The contamination of the particle type is removed from the surface of substrate(S3). The dehydration of the substrate operates(S4). A hydrophobic process of the substrate operates(S6). A resist solution is spread in the upper side of substrate. The unnecessary resist of the substrate rim part is removed. The predetermined circuit pattern is exposed to resist.
摘要翻译：目的：提供一种用于防止产生水印的液体处理方法和液体处理装置，以通过防止水印的产生来提高基板的质量。构成：在准分子UV照射单元（S1）中载带基板。实施紫外线照射的干洗（S2）。颗粒类型的污染物从基材表面去除（S3）。基板的脱水操作（S4）。衬底的疏水工艺（S6）。抗蚀剂溶液扩散在基板的上侧。去除衬底边缘部分的不必要的抗蚀剂。预定的电路图案暴露于抗蚀剂。

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