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1. 发明授权

KR102050631B1 기판에 형성된 오목부에 구리 배선을 형성하기 위한 전처리를 행하는 방법, 및 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102050631B1
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：KR1020170076876
申请日：2017-06-16
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 도시마,히로유키 , 하타노,다츠오 , 후루카와,신지 , 와타나베,나오키 , 스즈키,나오유키
IPC分类号： H01L21/768

2. 发明公开

KR1020170064999A 감압된 공간에서 피가공물을 처리하는 처리 장치 审中-实审
标题翻译：一种用于在减压空间中处理工件的处理装置
公开(公告)号：KR1020170064999A
公开(公告)日：2017-06-12
申请号：KR1020160158229
申请日：2016-11-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 우미세,다쿠야 , 소네,히로시 , 스즈키,나오유키
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683
摘要： 처리장치의스테이지에대한복수의리프트핀이상대적인이동에기인하는파티클의발생을억제하고, 또한스테이지상으로의피가공물의반송정밀도를향상시킨다. 일실시형태의처리장치에서는, 처리용기내에스테이지가설치되어있다. 스테이지에는복수의리프트핀용의복수의관통구멍이형성되어있다. 복수의리프트핀은, 지지체를통하여스플라인축에의해지지되어있다. 스플라인축은, 스플라인축받이에의해상하이동가능하게지지되어있다. 복수의리프트핀은, 스프링부재에의해스플라인축을통하여상방으로가압되어있다. 스플라인축, 스플라인축받이및 스프링부재는, 처리용기내의감압가능한공간으로부터분리된처리용기의외부의공간에설치되어있다.
摘要翻译：多个升降销相对于处理装置的工作台抑制了由于相对移动而产生的颗粒，并提高了工件在工作台上的输送精度。在一个实施方式的处理装置中，在处理容器内设有载物台。在台中形成多个用于多个升降销的通孔。多个升降销通过支架固定在花键轴上。花键轴被花键轴承支撑为可上下移动。多个升降销由弹簧部件通过花键轴向上推动。花键轴，花键轴承及弹簧部件设置在与处理容器内的减压空间分离的处理容器外的空间内。

3. 发明授权

KR101989227B1 절연막을 형성하는 방법 有权
公开(公告)号：KR101989227B1
公开(公告)日：2019-06-13
申请号：KR1020170082703
申请日：2017-06-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 와타나베,나오키 , 하타노,다츠오 , 후루카와,신지 , 스즈키,나오유키
IPC分类号： H01L43/12 , H01L21/02 , H01L43/08 , H01L43/10

4. 发明公开

KR1020150139779A 냉각 처리 장치 및 냉각 처리 장치의 운용 방법 有权
标题翻译：冷却加工装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020150139779A
公开(公告)日：2015-12-14
申请号：KR1020150072999
申请日：2015-05-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 미야시타,데츠야 , 하라,마사미치 , 스즈키,나오유키 , 야마모토,가오루 , 마에다,고우지
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/6875
摘要： 정전척의적재면에부착되는수분을저감시킨다. 냉각처리장치는, 처리용기, 정전척, 냉각기구및 램프가열장치를포함하고있다. 정전척은, 그위에피처리체가적재되는적재면을갖고있으며, 처리용기내에설치되어있다. 냉각기구는, 정전척을냉각하도록구성되어있다. 램프가열장치는, 적재면에부착된수분을제거하도록구성되어있다.
摘要翻译：冷却处理装置减少附着在静电卡盘的安装表面上的水分。冷却处理装置包括：处理容器; 静电吸盘; 冷却机构; 和灯加热装置。静电卡盘具有安装被加工物体的安装面。冷却机构被配置为冷却静电卡盘。灯加热装置构造成去除附着在安装表面上的水分。

5. 发明授权

KR101871064B1 감압된 공간에서 피가공물을 처리하는 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101871064B1
公开(公告)日：2018-06-25
申请号：KR1020160158229
申请日：2016-11-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 우미세,다쿠야 , 소네,히로시 , 스즈키,나오유키
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/683
摘要： 처리장치의스테이지에대한복수의리프트핀이상대적인이동에기인하는파티클의발생을억제하고, 또한스테이지상으로의피가공물의반송정밀도를향상시킨다. 일실시형태의처리장치에서는, 처리용기내에스테이지가설치되어있다. 스테이지에는복수의리프트핀용의복수의관통구멍이형성되어있다. 복수의리프트핀은, 지지체를통하여스플라인축에의해지지되어있다. 스플라인축은, 스플라인축받이에의해상하이동가능하게지지되어있다. 복수의리프트핀은, 스프링부재에의해스플라인축을통하여상방으로가압되어있다. 스플라인축, 스플라인축받이및 스프링부재는, 처리용기내의감압가능한공간으로부터분리된처리용기의외부의공간에설치되어있다.

6. 发明授权

KR101781262B1 냉각 처리 장치 및 냉각 처리 장치의 운용 방법 有权
标题翻译：冷却处理装置和冷却处理装置的操作方法
公开(公告)号：KR101781262B1
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：KR1020150072999
申请日：2015-05-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 미야시타,데츠야 , 하라,마사미치 , 스즈키,나오유키 , 야마모토,가오루 , 마에다,고우지
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/6875
摘要： 정전척의적재면에부착되는수분을저감시킨다. 냉각처리장치는, 처리용기, 정전척, 냉각기구및 램프가열장치를포함하고있다. 정전척은, 그위에피처리체가적재되는적재면을갖고있으며, 처리용기내에설치되어있다. 냉각기구는, 정전척을냉각하도록구성되어있다. 램프가열장치는, 적재면에부착된수분을제거하도록구성되어있다.
摘要翻译：由此减少粘附到静电吸盘的安装表面上的湿气。冷却处理装置包括处理容器，静电吸盘，冷却机构和灯加热装置。静电卡盘具有载置被加工物的载置面，并设置在处理容器内。冷却机构构造成冷却静电卡盘。灯加热装置构造成去除附着到安装表面的湿气。

7. 发明授权

KR102123766B1 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102123766B1
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：KR1020190148453
申请日：2019-11-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 도시마,히로유키 , 하타노,다츠오 , 후루카와,신지 , 와타나베,나오키 , 스즈키,나오유키
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/67

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