专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101877958B1 약액 공급 방법 및 약액 공급 시스템 有权
公开(公告)号：KR101877958B1
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：KR1020120005375
申请日：2012-01-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 후루쇼토시노부 , 오오쿠보타카히로 , 사사타카시 , 노가미츠요시
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/162 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： 약액의보충개시시의과잉압력변동을억제해필터의여과속도를제어하여, 여과정밀도의유지를도모할수 있도록하는것이다. 약액펌프(50)의 1 차측개폐밸브(V) 및 2 차측개폐밸브(V)의개폐동작및 약액펌프의급배동작에의해약액보틀(13)로부터공급되는약액을필터(46)로여과한후, 토출노즐(43)로부터토출하는약액공급시스템에있어서, 약액펌프의작동실(53)과연통되는관로(56)에, 압력센서(59), 플로우미터(57) 및전공레귤레이터(58)를구비하고, 전공레귤레이터를제어하는제어부(60)를구비하고, 압력센서는약액펌프로의약액의보충개시시에, 1 차측개폐밸브를개방했을때의작동실측의압력을검출하고, 작동실로부터배기된배기유량을플로우미터에의해검출하며, 제어부는검출된압력과배기유량에기초하여약액의보충개시시에과잉압력변동을일으키지않도록전공레귤레이터를제어하여배기압을조정한다.

2. 发明公开

KR1020160102126A 처리액 공급 장치, 처리액 공급 방법 및 기억 매체 审中-实审
标题翻译：处理液体供应装置，处理液体供应方法和储存介质
公开(公告)号：KR1020160102126A
公开(公告)日：2016-08-29
申请号：KR1020160018598
申请日：2016-02-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 노가미츠요시
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/66 , H01L21/683
CPC分类号： G05D7/0635
摘要： 처리액의공급을행하면서, 처리액의물성또는처리액공급부의특성에따라처리액의유량조절기구를동작시키는조작량을적절히조절하는기술을제공한다. 기판(W)에처리액을공급하는처리액공급장치에있어서, 처리액공급부는, 조작량에따라처리액의유량을조절하는유량조절기구(402)를개재하여기판(W)을향해처리액을토출공급하고, 유량검출부(403)는기판(W)에공급되는처리액의유량을검출한다. 시스템동정부(181)는, 상기처리액공급부의시스템모델에따른시스템파라미터의결정을행하고, 유량제어부(182)는상기시스템파라미터를이용하여유량조절기구의새로운조작량을결정한다.
摘要翻译：本发明提供了一种用于在提供处理液的同时，根据处理液的物理特性或处理液供给单元的特性来适当地调整用于驱动流量调节工具的处理液的控制量的技术。用于将处理液体供给到基板（W）的处理液供给装置包括：处理液供给单元，其配置有用于根据控制量调节处理液的流量的流量调整工具（402）并将处理液供给到基板（W）; 流量检测单元（403），其检测供给到所述基板（W）的处理液的流量; 系统操作单元，其根据所述处理液供给单元的系统模型确定所述系统的参数; 以及流量控制单元（182），其使用所述系统参数来确定所述流量调节工具（402）的新的控制量。

3. 发明公开

KR1020120083859A 약액 공급 방법 및 약액 공급 시스템 审中-实审
标题翻译：化学液体供应方法和化学液体供应系统
公开(公告)号：KR1020120083859A
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：KR1020120005375
申请日：2012-01-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 후루쇼토시노부 , 오오쿠보타카히로 , 사사타카시 , 노가미츠요시
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/162 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/0273 , D06F39/08 , G03F7/00 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A chemical liquor supply method and system are provided to maintain filtration accuracy by controlling filtration speed of a filter in a liquid medicine. CONSTITUTION: A liquid medicine pipe connects a liquid medicine discharge unit. A filter(46) filters the liquid medicine. A liquid medicine pump(50) performs in and out of a liquid medicine according to a capacity variation of a pump. A first open and close valve is installed on a first side of the liquid medicine pump. A second open and close valve is installed on a second side of the liquid medicine pump.
摘要翻译：目的：提供一种药液供应方法和系统，通过控制液体药物中过滤器的过滤速度来保持过滤精度。构成：液体药液管连接液体药物排出单元。过滤器（46）过滤液体药物。液体药液泵（50）根据泵的容量变化进行液体药剂的进出。第一开关阀安装在液体药泵的第一侧。第二个开关阀安装在药液泵的第二侧。

4. 发明公开

KR1020020057811A 가열처리장치 有权
标题翻译：热处理装置
公开(公告)号：KR1020020057811A
公开(公告)日：2002-07-12
申请号：KR1020020000145
申请日：2002-01-03
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 시라카와에이이치 , 푸쿠오카테츠오 , 노가미츠요시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： F28D15/02 , F27D2019/0037 , F28D15/06 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要： PURPOSE: A heat processing apparatus is provided to heat a substrate at a uniform temperature all over its surface. CONSTITUTION: The heat processing apparatus(HP) includes a disk-like hot plate(51) in a casing(50). The hot plate(51) is made of aluminum and the surface thereof is provided with proximity pins(52) on which the wafer is placed in the proximity of the hot plate surface. There are arranged under the back surface of the hot plate(51) a plurality of ring heaters(53) in a concentric manner. The heaters(53) is heated by electric currents, thereby heating the hot plate(51) and the wafer(W). In this case, the electric current in each heater(53) may preferably be controlled independently. The hot plate(51) is supported by a hollow support member(54). Three through holes(55) through each of which a pin(56) is provided for ascending and descending the wafer(W).
摘要翻译：目的：提供一种热处理设备，以在整个表面上以均匀的温度加热基底。构成：热处理装置（HP）包括在壳体（50）中的盘状加热板（51）。热板（51）由铝制成，其表面设置有接近销（52），晶片被放置在热板表面附近。在热板（51）的后表面上以同心方式布置有多个环形加热器（53）。加热器（53）被电流加热，从而加热热板（51）和晶片（W）。在这种情况下，每个加热器（53）中的电流可以优选地被独立地控制。热板（51）由中空的支撑构件（54）支撑。三个通孔（55），每个通孔（56）设置有用于上升和下降晶片（W）的销（56）。

5. 发明授权

KR101522695B1 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체 有权
标题翻译：液体加工设备，液体加工方法和储存介质
公开(公告)号：KR101522695B1
公开(公告)日：2015-05-22
申请号：KR1020100054713
申请日：2010-06-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 노가미츠요시 , 키노시타미치오 , 다테이시나오야 , 히라오타케시 , 마스나가타카히로 , 아라키타카노리
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 횡방향으로일렬로배치된기판보지부를구비한복수의액처리부와, 상기액처리부에대하여공용화되고액처리부의배열방향을따라설치된복수의처리액노즐을구비한액처리장치에서, 상기처리액노즐로부터기판으로의처리액의낙하를억제하여수율의저하를방지할수 있는액처리장치를제공하는것이다. 처리액노즐의하방에서상기처리액노즐의배열방향을따라광축을형성하는광 센서와, 각처리액노즐의미사용시에상기광 센서에의해상기광축이차단된상태를검출했을때에처리액의액 맺힘또는적하가발생했다고판정하고판정신호를출력하는수단과, 상기판정신호의출력에기초하여대처동작을행하는대처수단을구비하도록장치를구성한다. 각처리액노즐이횡방향으로배열된각 액처리부상을이동함에있어서, 기판또는기판보지부에처리액이적하하여정상적인처리가방해받거나파티클이되는것이억제된다.

6. 发明公开

KR1020100137363A 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체 有权
标题翻译：液体加工设备，液体加工方法和储存介质
公开(公告)号：KR1020100137363A
公开(公告)日：2010-12-30
申请号：KR1020100054713
申请日：2010-06-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 노가미츠요시 , 키노시타미치오 , 다테이시나오야 , 히라오타케시 , 마스나가타카히로 , 아라키타카노리
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F7/2041 , G03F7/70341
摘要： PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to protect a liquid processing process by prevent processing liquid from being dropped. CONSTITUTION: A nozzle(40) is arranged at the lower side of a nozzle head(34). The nozzle head is the tip end of an arm(33). A plurality of liquid processing parts is serially arranged to a transversal direction. A nozzle bath is installed to hold the nozzle. A supporting unit is arranged at the upper region of the liquid processing parts and between the nozzle baths. A driving unit moves the supporting unit.
摘要翻译：目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质以通过防止处理液体掉落来保护液体处理过程。构成：喷嘴（40）布置在喷嘴头（34）的下侧。喷嘴头是臂（33）的末端。多个液体处理部件沿横向连续地排列。安装喷嘴槽以固定喷嘴。支撑单元布置在液体处理部分的上部区域和喷嘴槽之间。驱动单元移动支撑单元。

7. 发明授权

KR100886023B1 가열처리장치 有权
标题翻译：热处理装置
公开(公告)号：KR100886023B1
公开(公告)日：2009-03-03
申请号：KR1020020000145
申请日：2002-01-03
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 시라카와에이이치 , 푸쿠오카테츠오 , 노가미츠요시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： F28D15/02 , F27D2019/0037 , F28D15/06 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要： 본 발명은 가열처리장치에 관한 것으로서, 기판(W)을 소정온도로 가열처리하는 가열처리장치이고, 기판(W)을 근접 또는 재치시켜 가열처리하는 가열플레이트와, 가열플레이트의 기판배치면에 대향하여 설치되어, 가열플레이트에 면하는 부분이 동심형으로 적어도 중앙에 배치된 제 1 의 영역과 그 외측에 설치된 제 2 영역을 갖추고, 이들 제 1 및 제 2 의 영역을 각각 포함하는 제 1 의 히트파이프(heat pipe) 및 제 2 의 히트파이프를 갖추는 천정판과, 가열플레이트와 천정판 사이의 공간(S)을 포위하는 포위부재와, 가열플레이트의 외주로부터 천판의 중앙으로 향하는 기류를 공간(S) 내에 형성시키는 기류형성수단과, 천정판의 제 1 히트파이프의 온도를 제어하여 제 1 영역의 온도를 제어하는 온도제어기구를 구비하여 기판의 면내온도균일을 높게하여 기판의 가열처리가 가능한 기술을 제공한다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式