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1. 发明授权

KR100407869B1 세정장치및세정방법 失效
公开(公告)号：KR100407869B1
公开(公告)日：2004-03-30
申请号：KR1019970049349
申请日：1997-09-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 우에노긴야 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , B08B3/08 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要： A cleaning apparatus and a cleaning method for cleaning an object (W) are provided. In the cleaning apparatus, a drying chamber (42) and a cleaning bath (41) are separated from each other up and down, respectively. Thus, a space in the drying chamber (42) can be insulated from a space of the cleaning bath (41) through rotary doors (59a) and a slide door (72). In the cleaning method, a cleaning process in the cleaning bath (41) is carried out while sealing it by the rotary doors (59a). On the other hand, a drying process in the drying chamber (42) is accomplished while sealing and closing it by the slide door (72). Consequently, there is no possibility that, during the drying process, the object is subjected to a bad influence from a chemical treatment.
摘要翻译：提供了用于清洁物体（W）的清洁设备和清洁方法。在清洁设备中，干燥室（42）和清洁浴（41）分别上下相互分离。由此，干燥室42内的空间能够通过旋转门59a和滑动门72而与清洁槽41的空间隔离。在清洁方法中，清洁槽（41）中的清洁过程在由旋转门（59a）密封的同时进行。另一方面，干燥室（42）中的干燥过程在由滑动门（72）密封和关闭的同时完成。因此，在干燥过程中，物体不可能受到化学处理的不良影响。

2. 发明公开

KR1019990077743A 건조장치 및 건조방법 无效
标题翻译：干燥系统和方法
公开(公告)号：KR1019990077743A
公开(公告)日：1999-10-25
申请号：KR1019990007893
申请日：1999-03-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 카미카와유지 , 나카시마사토시
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034
摘要： 본발명은세정처리된예를들어반도체웨이퍼나 LCD용유리기판등의피처리체의표면에부착하는수분을제거하는건조장치및 건조방법에관한것이다. 종래의 IPA건조방법이나스핀드라이어건조, 또는 N2가스등의기체를직접피처리체의표면에내뿜는건조방법에있어서는, 설비가대형화되거나건조얼룩이생기는등 수율이저하하는문제점이있었다. 본발명은세정처리된피처리체의표면에부착되는수분을제거하는데 있어서, 상기피처리체의표면에근접하는진동전달수단과, 상기진동전달수단에초음파의진동또는상기초음파보다낮은주파수의진동을가하는진동발생수단을구비하고, 상기진동발생수단에의해상기진동전달수단에상기초음파의진동또는상기저주파의진동을가함과동시에, 상기진동전달수단과상기피처리체표면사이의기체에상기초음파진동또는상기저주파진동의에너지를가함으로써, 상기피처리체표면에부착하는수분을확실히제거하고, 건조할수 있는건조장치및 상기건조장치를이용한건조방법을제시하고있다.

3. 发明授权

KR100432270B1 세정장치및세정방법 失效
公开(公告)号：KR100432270B1
公开(公告)日：2004-10-26
申请号：KR1019970049347
申请日：1997-09-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 우에노긴야 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034 , Y10S134/902
摘要： A cleaning apparatus and a cleaning method for restricting an occurrence of water marks on a surface of a object to be processed are provided. The cleaning apparatus is constructed so as to dry wafers W, which have been rinsed by DIW in a drying chamber 42, in a cooling system. Thus, the reaction between, for example, IPA, DIW etc. and silicon in surfaces of the wafers W is inactivated to cause the surfaces to be oxidized with difficulty, so that it is possible to restrict the occurrence of the water marks on the surfaces.
摘要翻译：提供了一种用于限制待处理物体的表面上出现水印的清洁装置和清洁方法。该清洁设备被构造成在冷却系统中干燥已经通过DIW在干燥室42中漂洗的晶片W. 因此，例如IPA，DIW等与晶片W的表面中的硅之间的反应失活而导致表面难以氧化，从而可以限制表面上的水印的发生。＆lt;图像＆GT;

4. 发明授权

KR100554497B1 공기구동식 액체공급장치 有权
标题翻译：气动驱动液体供应装置
公开(公告)号：KR100554497B1
公开(公告)日：2006-03-03
申请号：KR1019990008916
申请日：1999-03-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타나가히로시 , 쵸오노야스히로 , 테라다타카시 , 나카시마사토시
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 공기구동식액체공급장치에 관한 것으로, 특히 반도체 등의 제조공에 있어서 세정처리에 사용하는 데 적합한 공기구동식액체공급장치에 관한 것이다.
종래, 공기구동식 액체공급장치는 장기적인 사용에 의한 펌프부의 마모, 또는 공기압 공급관로 내에 역류하는 액체에 의해 전자절환밸브나 레귤레이터에 손상을 끼침과 더불어, 액체의 공급에 지장을 끼치는 문제점이 있었다.
본 발명은 액처리부에 액체를 공급하는 액체공급관로, 상기 액체공급관로에 설치된 액체공급수단, 상기 액체공급수단을 구동하는 공기를 상기 액체공급수단으로 보내는 공기공급관로, 상기 공기공급관로에 설치된 공기압조정수단을 구비하고,상기 공기압조정수단과 상기 액체공급수단과의 사이에 게재되고, 상기 액체공급관로에서 상기 액체공급수단을 매개로 해서 공기공급관로내로 역류하는 액체를 검지하고, 상기 공기공급관로에 설치된 액체검지수단을 구비하여, 공기압 조정수단의 손상이나 고장 등을 방지할 수 있으며, 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 공기구동식액체공급장치를 제시하고 있다.

5. 发明公开

KR1020050054493A 기판의 양면세정장치 失效
标题翻译：用于清洁基板两面的装置
公开(公告)号：KR1020050054493A
公开(公告)日：2005-06-10
申请号：KR1020050044528
申请日：2005-05-26
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 미야자키다카노리 , 다니야마히로키 , 아리히사도시카즈
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67046 , Y10S134/902
摘要： 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

6. 发明公开

KR1019990077948A 공기구동식 액체공급장치 有权
标题翻译：气动流体供应系统
公开(公告)号：KR1019990077948A
公开(公告)日：1999-10-25
申请号：KR1019990008916
申请日：1999-03-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타나가히로시 , 쵸오노야스히로 , 테라다타카시 , 나카시마사토시
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 공기구동식액체공급장치에 관한 것으로, 특히 반도체 등의 제조공에 있어서 세정처리에 사용하는 데 적합한 공기구동식액체공급장치에 관한 것이다.
종래, 공기구동식 액체공급장치는 장기적인 사용에 의한 펌프부의 마모, 또는 공기압 공급관로 내에 역류하는 액체에 의해 전자절환밸브나 레귤레이터에 손상을 끼침과 더불어, 액체의 공급에 지장을 끼치는 문제점이 있었다.
본 발명은 액처리부에 액체를 공급하는 액체공급관로, 상기 액체공급관로에 설치된 액체공급수단, 상기 액체공급수단을 구동하는 공기를 상기 액체공급수단으로 보내는 공기공급관로, 상기 공기공급관로에 설치된 공기압조정수단을 구비하고,상기 공기압조정수단과 상기 액체공급수단과의 사이에 게재되고, 상기 액체공급관로에서 상기 액체공급수단을 매개로 해서 공기공급관로내로 역류하는 액체를 검지하고, 상기 공기공급관로에 설치된 액체검지수단을 구비하여, 공기압 조정수단의 손상이나 고장 등을 방지할 수 있으며, 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 공기구동식액체공급장치를 제시하고 있다.

7. 发明公开

KR1019980025069A 세정장치및세정방법 失效
标题翻译：清洁设备和清洁方法
公开(公告)号：KR1019980025069A
公开(公告)日：1998-07-06
申请号：KR1019970049349
申请日：1997-09-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 우에노긴야 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 건조처리의 경우에 약액처리에 의한 악영향을 받지 않고, 또한 건조실 자체의 두께를 얇게 할 수 있으며, 감압하기 위해 사용하는 진공펌프 등의 저출력화를 도모할 수 있는 세정장치 및 세정방법으로, 건조실(42)과 세정조(41)를 각각 상하로 분리함과 동시에 건조실(42)의 공간과 세정조(41)의 공간을 회전문짝(59a) 및 슬라이드문짝(72)에 의해 차폐가능하고, 세정조(41)에서의 세정처리를 회전문짝(59a)으로 차폐하며, 건조실(42)의 건조처리를 슬라이드문짝(72)으로 밀폐·차폐해서 행하도록 구성했다.

8. 发明授权

KR100530700B1 기판의양면세정장치 失效
标题翻译：基材两面清洁装置
公开(公告)号：KR100530700B1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：KR1019980033458
申请日：1998-08-18
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 미야자키다카노리 , 다니야마히로키 , 아리히사도시카즈
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

9. 发明公开

KR1019990023678A 기판의양면세정장치 失效
公开(公告)号：KR1019990023678A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019980033458
申请日：1998-08-18
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 미야자키다카노리 , 다니야마히로키 , 아리히사도시카즈
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

10. 发明公开

KR1019980025068A 세정장치 失效
公开(公告)号：KR1019980025068A
公开(公告)日：1998-07-06
申请号：KR1019970049348
申请日：1997-09-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나카시마사토시 , 우에노긴야 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 건조처리시에 약액처리에 의한 악영향을 받는 일이 없는 세정장치 및 세정방법으로, 건조실(42)과 세정조(41)를 각각 상하로 분리함과 더불어, 건조실(42)의 공간과 세정조(41)의 공간을 슬라이드문짝(72)에 의해 차폐가능으로 하고, 각각의 처리를 슬라이드문짝(72)에 의해 차폐하여 행하도록 구성한 것이다.

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